会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 62. 发明授权
    • Method for modeling a conductive semiconductor substrate
    • 导电半导体衬底建模方法
    • US06311312B1
    • 2001-10-30
    • US09405510
    • 1999-09-23
    • Keh-Jeng ChangRobert G. MathewsLi-Fu ChangXu Yang
    • Keh-Jeng ChangRobert G. MathewsLi-Fu ChangXu Yang
    • G06F1750
    • G06F17/5081
    • A method models conductive regions of a semiconductor substrate in conjunction with conductors in the interconnect structures above the semiconductor substrate. Such a method allows highly accurate extraction of capacitance in planar (e.g., shallow trench isolation) and non-planar (e.g., thermal oxide isolation) semiconductor structures. This method is particularly applicable to modeling dummy diffusion regions prevalent in shallow trench isolation structures. An area-perimeter approach simplifies calculation of capacitance without using a 3-dimensional electric field solver. A method is also provided for extracting a capacitance associate with a contact, or a connecting conductor between two conductor layers.
    • 一种方法结合半导体衬底上的互连结构中的导体来模拟半导体衬底的导电区域。 这种方法允许在平面(例如浅沟槽隔离)和非平面(例如,热氧化物隔离)半导体结构中高度精确地提取电容。 该方法特别适用于对浅沟槽隔离结构中普遍存在的虚拟扩散区进行建模。 区域周边方法简化了电容的计算,而不使用3维电场求解器。 还提供了一种用于提取与触点或两个导体层之间的连接导体相关联的电容的方法。