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1. 发明申请

US20140310663A1 Performing OPC on Hardware or Software Platforms with GPU 有权
标题翻译：使用GPU在硬件或软件平台上执行OPC
公开(公告)号：US20140310663A1
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：US14137656
申请日：2013-12-20
申请人： Gauda, Inc.
发明人： Ilhami H. Torunoglu , Ahmet Karakas
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/144 , G03F1/36
摘要： Optical proximity correction techniques performed on one or more graphics processors improve the masks used for the printing of microelectronic circuit designs. Execution of OPC techniques on hardware or software platforms utilizing graphics processing units. GPUs may share the computation load with the system CPUs to efficiently and effectively execute the OPC method steps.
摘要翻译：在一个或多个图形处理器上执行的光学邻近校正技术改善了用于印刷微电子电路设计的掩模。在使用图形处理单元的硬件或软件平台上执行OPC技术。 GPU可以与系统CPU共享计算负载，以有效和高效地执行OPC方法步骤。

2. 发明授权

US09280631B2 Performing OPC on hardware or software platforms with GPU 有权
公开(公告)号：US09280631B2
公开(公告)日：2016-03-08
申请号：US14137656
申请日：2013-12-20
申请人： Gauda, Inc.
发明人： Ilhami H. Torunoglu , Ahmet Karakas
IPC分类号： G06F17/50 , G03F1/00 , G03F1/36
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/144 , G03F1/36
摘要： Optical proximity correction techniques performed on one or more graphics processors improve the masks used for the printing of microelectronic circuit designs. Execution of OPC techniques on hardware or software platforms utilizing graphics processing units. GPUs may share the computation load with the system CPUs to efficiently and effectively execute the OPC method steps.

3. 发明授权

US08707222B1 Lithography mask functional optimization and spatial frequency analysis 有权
标题翻译：光刻掩模功能优化和空间频率分析
公开(公告)号：US08707222B1
公开(公告)日：2014-04-22
申请号：US13686682
申请日：2012-11-27
申请人： Gauda, Inc.
发明人： P. Jeffrey Ungar , Ilhami H. Torunoglu
IPC分类号： G06F17/50 , G06F19/00 , G03F1/00 , G06K9/00 , G21K5/00 , G06F17/14
CPC分类号： G03F1/00 , G03F1/28 , G03F1/50 , G03F1/70 , G06F17/14 , G06F17/50 , G06F17/5068 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , G06F2217/16 , G21K5/00
摘要： In an electronic design automation technique for optical proximity correction, a mask is represented by a function with an exact analytical form over a mask region. Using the physics of optical projection, a solution based on a spatial frequency analysis is determined. Spatial frequencies above a cutoff are determined by the optical system do not contribute to the projected image. Spatial frequencies below this cutoff affect the print (and the mask), while those above the cutoff only affect the mask. Frequency components in the function below this cutoff frequency may be removed, which will help to reduce computational complexity.
摘要翻译：在用于光学邻近校正的电子设计自动化技术中，掩模由掩模区域上具有精确分析形式的函数表示。使用光学投影的物理学，确定基于空间频率分析的解决方案。通过光学系统确定高于截止点的空间频率对投影图像无贡献。低于此截止位置的空间频率会影响打印（和面罩），而截止值以上的空间频率仅影响面罩。低于该截止频率的功能中的频率分量可能被去除，这将有助于降低计算复杂度。

4. 发明授权

US08938696B1 Techniques of optical proximity correction using GPU 有权
标题翻译：使用GPU进行光学邻近校正的技术
公开(公告)号：US08938696B1
公开(公告)日：2015-01-20
申请号：US13942395
申请日：2013-07-15
申请人： Gauda, Inc.
发明人： Ilhami H. Torunoglu , Ahmet Karakas , Erich E. Elsen
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/50 , G06F17/5068 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： Computationally intensive electronic design automation operations are accelerated with algorithms utilizing one or more graphics processing units. The optical proximity correction (OPC) process calculates, improves, and optimizes one or more features on an exposure mask (used in semiconductor or other processing) so that a resulting structure realized on an integrated circuit or chip meets desired design and performance requirements. When a chip has billions of transistors or more, each with many fine structures, the computational requirements for OPC can be very large. This processing can be accelerated using one or more graphics processing units.
摘要翻译：利用一个或多个图形处理单元的算法，加速了计算密集型电子设计自动化操作。光学邻近校正（OPC）过程在曝光掩模（用于半导体或其他处理）中计算，改进和优化一个或多个特征，使得在集成电路或芯片上实现的所得结构满足期望的设计和性能要求。当芯片具有数十亿个晶体管或更多晶体管时，每个具有许多精细结构，OPC的计算要求可能非常大。可以使用一个或多个图形处理单元来加速该处理。

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