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    • 3. 发明授权
    • Photoconductor-on-active pixel device
    • 光电导体有源像素装置
    • US09059360B2
    • 2015-06-16
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    • International Business Machines Corporation
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    • H01L31/105H01L27/146
    • H01L31/105H01L27/14632H01L27/14636H01L27/14665H01L27/14687
    • A design structure embodied in a machine readable medium used in a design process includes a first dielectric layer disposed on an intermediary layer, a first conductive pad portion and a first interconnect portion disposed on the first dielectric layer, a second dielectric layer disposed on the first dielectric layer, a first capping layer disposed on the first interconnect portion and a portion of the first conductive pad portion, a second capping layer disposed on the first capping layer and a portion of the second dielectric layer, an n-type doped silicon layer disposed on the second capping layer and the first conductive pad portion, an intrinsic silicon layer disposed on the n-type doped silicon layer, and a p-type doped silicon layer disposed on the intrinsic silicon layer.
    • 体现在设计过程中使用的机器可读介质中的设计结构包括设置在中间层上的第一介电层,设置在第一介电层上的第一导电焊盘部分和第一互连部分,设置在第一介电层上的第二介电层 电介质层,设置在第一互连部分上的第一覆盖层和第一导电焊盘部分的一部分,设置在第一覆盖层上的第二封盖层和第二介电层的一部分,设置n型掺杂硅层 在第二覆盖层和第一导电焊盘部分上,设置在n型掺杂硅层上的本征硅层和设置在本征硅层上的p型掺杂硅层。