专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

2. 发明授权

US09530802B2 Array substrate and method of fabricating the same 有权
标题翻译：阵列基板及其制造方法
公开(公告)号：US09530802B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：US14554879
申请日：2014-11-26
申请人： LG Display Co., Ltd.
发明人： Jin-Su Kim , Sung-Jin Um , Jin-Hyung Jung
IPC分类号： H01L27/12
CPC分类号： H01L27/1288 , H01L27/124 , H01L27/1262 , H01L27/1296 , H01L29/66765
摘要： An array substrate according to an embodiment includes a gate line and a data line in a display region and crossing each other to define a pixel region; first and second auxiliary patterns in a non-display region; a gate insulating layer between the gate and data lines and the first and second auxiliary patterns; a passivation layer on the data line and the second auxiliary pattern and including first and second contact holes respectively exposing the first and second auxiliary patterns; a planarization layer on the passivation layer and including first and second pack holes, which respectively correspond to the first and second contact holes; a bridge pattern between the first and second pack holes and overlapping the second auxiliary pattern; a pixel electrode on the planarization layer and in the pixel region; and a connection pattern on the bridge pattern and contacting the first and second auxiliary patterns.
摘要翻译：根据实施例的阵列基板包括显示区域中的栅极线和数据线并且彼此交叉以限定像素区域; 非显示区域中的第一和第二辅助图案; 栅极和数据线之间的栅极绝缘层以及第一和第二辅助图案; 数据线和第二辅助图案上的钝化层，并且包括分别暴露第一和第二辅助图案的第一和第二接触孔; 钝化层上的平坦化层，并且包括分别对应于第一和第二接触孔的第一和第二包装孔; 第一和第二包装孔之间的桥接图案，并与第二辅助图案重叠; 平坦化层和像素区域中的像素电极; 以及桥形图案上的连接图案并且接触第一和第二辅助图案。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式