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    • 8. 发明申请
    • 発光装置
    • 发光装置
    • WO2018062272A1
    • 2018-04-05
    • PCT/JP2017/034958
    • 2017-09-27
    • パイオニア株式会社
    • 吉田 綾子
    • H05B33/04H01L51/50H05B33/02H05B33/22H05B33/26
    • H01L51/50H05B33/02H05B33/04H05B33/22H05B33/26
    • 発光装置(10)は、第1電極(110)、有機層(120)及び無機層(160)を備えている。基板(100)は、第1面(102)を有している。第1面(102)は、無機材料を含んでいる。第1電極(110)は、基板(100)の第1面(102)側に位置している。有機層(120)は、第1電極(110)の基板(100)と反対側に位置している。無機層(160)は、有機層(120)の第1電極(110)と反対側に位置している。無機層(160)は、第1電極(110)の端部(110a)及び端部(110b)より外側において、基板(100)の第1面(102)に接している。
    • 所述的发光器件(10)包括第一电极(110)包括有机层(120)和所述无机层(160)。 衬底(100)具有第一表面(102)。 第一表面(102)包含无机材料。 第一电极(110)位于基板(100)的第一表面(102)侧。 有机层(120)位于第一电极(110)的基板(100)的相反侧。 无机层(160)位于有机层(120)的与第一电极(110)相反的一侧。 无机层(160)是所述第一电极(110)(110A)和所述端部(110B)的端部的外侧,与所述衬底(100)(102)的第一表面接触。

    • 9. 发明申请
    • アクティブマトリクス基板、光シャッタ基板、表示装置、アクティブマトリクス基板の製造方法
    • 有源矩阵基板,光学快门基板,显示装置,有源矩阵基板的制造方法
    • WO2018003633A1
    • 2018-01-04
    • PCT/JP2017/022877
    • 2017-06-21
    • シャープ株式会社
    • 岡部 達錦 博彦家根田 剛士
    • G09F9/30G02B26/02G09F9/37H01L27/32H01L51/50H05B33/22
    • G02B26/02G09F9/30G09F9/37H01L27/32H01L51/50H05B33/22
    • コンタクトホール内での金属膜の段切れが生じにくいアクティブマトリクス基板を実現する。ガラス基板(1)上に、第1~第3絶縁膜(4,6,11)および第1~第3金属膜(5,9,12)と、第1および第2金属膜(5,9)を電気的に接続するコンタクトホール(CH)とを備え、前記コンタクトホール(CH)は、第1~第3絶縁膜(4,6,11)それぞれに形成された第1~第3ホール(H1,H2,H3)を有し、第1ホール(H1)の内側において第1および第3金属膜(5,12)が接触し、前記第3ホール(H3)の下方となる領域において第2絶縁膜(6)および酸化物半導体膜(7)が重畳し、前記第1絶縁膜(4)の上方で第3ホール(H3)の内側または下方となる領域において第2および第3金属膜(9,12)が接触している。
    • 实现了几乎不发生接触孔中的金属膜的不连续性的有源矩阵基板。 第一至第三绝缘膜(4,6,11)和第一至第三金属膜(5,9,12)以及第一和第二金属膜(5,9, 以及用于将第一绝缘膜至第三绝缘膜(4,6,11)彼此电连接的接触孔(CH),其中接触孔(CH) (H1,H2,H3),其中所述第一金属膜(5)和所述第三金属膜(12)在所述第一孔(H1)内部彼此接触并且在所述第三孔 绝缘膜(6)和所述氧化物半导体膜(7)被叠加,所述上部第三孔绝缘膜在内侧第一,第二和第三金属膜或成为区域下面(4)(H3)( 9,12)彼此接触。