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    • 6. 发明申请
    • アルキルシリルオキシ置換ベンジル化合物の製造方法
    • WO2023013757A1
    • 2023-02-09
    • PCT/JP2022/030045
    • 2022-08-05
    • 積水メディカル株式会社
    • 齋藤 健太四月朔日 晋東山 和幸只野 慎治松本 卓阿部 準
    • C07K1/04C07C49/84C07F7/08C07C69/76
    • 反応工程が制御しやすく、工業的に有利なアルキルシリルオキシ置換ベンジル化合物の製造方法を提供する。 一般式(3)(式中、R1b~R5bのうち1~5個は、炭素数1~16のヒドロキシアルキルオキシ基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基を示し; RBは、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基又は次式(R1b~R5bのうち1~5個は、炭素数1~16のヒドロキシアルキルオキシ基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基を示すか、RBがこの式の構造を示すとき、R5bは式(3)中のR5bと一緒になってエーテル結合(-O-)を形成してもよい。なお、*はRBとの結合部位を示す。) で表される基を示す) で表されるベンゾイル化合物にアルキルシリル化剤を反応させることを特徴とする一般式(5) (式中、R1c~R5cのうち1~5個は、1~3個のアルキルシリルオキシ基で置換された炭素数1~29のアルキルオキシ基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基を示し; RCは、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基又は次式(R1c~R5cのうち1~5個は、1~3個のアルキルシリルオキシ基で置換された炭素数1~29のアルキルオキシ基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基を示すか、RCがこの式の構造を示すとき、R5cは式(5)中のR5cと一緒になってエーテル結合(-O-)を形成してもよい。なお、*はRCとの結合部位を示す。) で表される基を示す) で表されるアルキルシリルオキシ置換ベンゾイル化合物の製造方法。