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51. 发明公开

CN116585101A 吸收性物品以及排便和排尿的判定方法审中-实审
公开(公告)号：CN116585101A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310637789.0
申请日：2021-04-26
申请人：尤妮佳股份有限公司
发明人：户田温树 , 村井隆将 , 奥野真伍
IPC分类号： A61F13/42 , G01N27/06 , G01N27/22
摘要：吸收性物品(1)具有：液体吸收体(2)、布置成在厚度方向上比吸收体(2)靠近皮肤侧的透液性片(3)以及布置成在厚度方向上比吸收体(2)靠近非皮肤侧的不透液性片(4)。吸收性物品(1)具有在透液性片(3)和吸收体(2)之间的皮肤侧电极(11)以及在不透液性片(4)和吸收体(2)之间的非皮肤侧电极(12)。

52. 发明公开

CN116559090A 呼吸式检测系统审中-实审
公开(公告)号：CN116559090A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202210106913.6
申请日：2022-01-28
申请人：芯视界(北京)科技有限公司
发明人：请求不公布姓名
IPC分类号： G01N21/25
摘要：本发明提供了一种呼出式气体检测系统，其中，所述系统包括：气体采样单元、气体感应单元、光谱检测单元、存储单元以及分析单元，其中，所述气体采样单元用于收集受测人体的呼出气体；所述气体感应单元中包括感应器件；所述光谱检测单元包括量子点光谱检测器件，以对所述感应器件进行光谱检测；所述存储单元存储有数据库和/或算法模型。

53. 发明公开

CN116529583A 应力发光材料的制造方法、应力发光体的制造方法、应变测定方法、应力发光体、应力发光涂料和应力发光体的制造装置审中-实审
公开(公告)号：CN116529583A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202180077997.9
申请日：2021-10-18
申请人：株式会社岛津制作所
发明人：金丸训明
IPC分类号： G01N3/32
摘要：本发明的一个方案所述的应力发光材料的制造方法包括：准备应力发光材料的工序，该应力发光材料具有具备应力发光能力的单斜晶系颗粒；以及将应力发光材料在维持颗粒的晶体结构的状态下进行细粒化的工序。

54. 发明授权

CN111757756B IL-17A活性抑制剂及其用途有权
公开(公告)号：CN111757756B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN201980014577.9
申请日：2019-02-22
申请人：学校法人东海大学 , 日本脏器制药株式会社
发明人：酒井大辅 , 平山令明 , 隅山香织
IPC分类号： A61K45/00 , A61K31/496 , A61K31/498 , A61K31/502 , A61K31/517 , A61K31/519 , A61K31/529 , A61K31/5377 , A61K31/538 , A61K31/553 , A61K31/7028 , A61K38/05 , A61P19/08 , A61P43/00 , A61P17/00 , A61P31/10 , A61P29/00 , C12Q1/02 , C12Q1/6883 , C12Q1/686 , G01N33/15 , G01N33/50 , C07K14/47 , A61K31/166 , A61K31/17 , A61K31/37 , A61K31/4166 , A61K31/426 , A61K31/439 , A61K31/445 , A61K31/4453 , A61K31/4525 , A61K31/455 , A61K31/4741 , C12N5/071 , C12N5/077 , C07K5/023 , C07K5/078 , C07D237/32 , C07D513/04 , C07D403/12 , C07D405/12 , C07D277/54 , C07D417/14 , C07D311/16 , C07D277/46 , C07D491/056 , C07D498/10 , C07D413/12 , C07D295/26 , C07D471/08 , C07D413/06 , C07D213/65 , C07D409/14 , C07D239/96 , C07D513/18 , C07C237/24 , C07H15/18
摘要：本发明的课题在于提供一种具有较已往更为优异的IL‑17活性抑制能力的低分子化合物(IL‑17活性抑制剂)。本发明的IL‑17RA抑制剂含有化合物、或其制药上容许的盐、溶剂合物或前药，该化合物具有抑制介白素‑17A(IL‑17A)结合至人类等的IL‑17RA的作用，并且，例如，可在人类介白素17受体A(IL‑17RA)细胞外结构域所含有由Phe60、Gln87、Asp121、Pro122、Asp123、Gln124、Asp153、Cys154、Glu155、Lys160、Pro164、Cys165、Ser167、Ser168、Gly169、Ser170、Leu171、Trp172、Asp173、Pro174、Pro254、Phe256、Ser258、Cys259、Asp262、Cys263、Leu264及His266包围的空间中，通过非共价键性相互作用而结合到IL‑17RA，前述非共价键性相互作用包含范德华力，其作用在与所述氨基酸残基中的至少13个之间，且进一步宜含有作用在所述氨基酸残基中预定者之间的选自于由离子键、氢键、CH‑π相互作用及疏水性相互作用所构成群组的至少1种分子间相互作用。

55. 发明公开

CN116429777A 基板检查装置、基板检查方法以及计算机可读存储介质审中-公开
公开(公告)号：CN116429777A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202211720325.8
申请日：2022-12-30
申请人：东京毅力科创株式会社
发明人：山口隆大
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/88
摘要：本公开涉及一种基板检查装置、基板检查方法以及计算机可读存储介质。基板检查装置使用对基板的表面进行拍摄而得到的图像来检查基板，所述基板检查装置具有：保持部，其用于保持基板；第一光源部，其用于对保持于保持部的基板射出可见光；第二光源部，其用于对保持于保持部的基板射出紫外光；第一摄像传感器，其接受通过照射可见光而来自基板的反射光，来拍摄关于基板的可见光图像；第二摄像传感器，其接受通过照射紫外光而来自基板的反射光或散射光，来拍摄关于基板的紫外光图像；以及控制部，其用于获取来自第一摄像传感器的可见光图像和来自第二摄像传感器的紫外光图像。另外，可见光图像和紫外光图像是拍摄基板的共同的区域而得到的图像。

56. 发明公开

CN116410738A 量子点防伪组合物审中-实审
公开(公告)号：CN116410738A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202111665560.5
申请日：2021-12-31
申请人：芯视界(北京)科技有限公司
发明人：请求不公布姓名
IPC分类号： C09K11/02 , C09K11/88 , B82Y20/00 , B82Y40/00 , C09D5/22 , C09D11/30 , C09D11/50 , G09F3/02 , G01N21/64
摘要：本发明公开了一种量子点防伪组合物以及基于该组合物的防伪编码方式、防伪鉴定方法，所述组合物包括两种或两种以上的量子点材料，并且，所述组合物中，至少有两种量子点材料在同一激发条件下所产生的发射光的发射波长和淬灭时间不同，其中，所述发射光的发射波长为350～780nm；所述同一激发条件至少包括激发光的波长相同，任选地，所述激发时的气氛氛围、溶剂氛围或温度条件中的至少一种条件相同。

57. 发明公开

CN116348757A 热导度检测器审中-实审
公开(公告)号：CN116348757A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202080105975.4
申请日：2020-10-28
申请人：株式会社岛津制作所
发明人：中间勇二
IPC分类号： G01N25/18
摘要：具备：第一流路(4)，其配置有热丝(2)；第二流路(6)，其与所述第一流路(4)分开地设置；导入流路(8)，其使所述第一流路(4)的上游端与所述第二流路(6)的上游端之间以流体的方式连通；样本入口(10)，其用于向所述导入流路(8)导入样本气体；第一气体入口(12)，其设置于所述导入流路(8)上的所述样本入口(10)与所述第一流路(4)的上游端之间；第二气体入口(14)，其设置于所述导入流路(8)上的所述样本入口(10)与所述第二流路(6)的上游端之间；载气供给源(18)；选择器(22)，其构成为将来自所述载气供给源(18)的载气选择性地引导到所述第一气体入口(12)和所述第二气体入口(14)中的某一方；以及检测电路(24)，其用于借助所述热丝(2)来检测样本气体中的成分，其中，在将来自所述载气供给源(18)的载气引导到所述第一气体入口(12)时，形成仅载气在所述第一流路(4)中流动的参比阶段，在将来自所述载气供给源(18)的载气引导到所述第二气体入口(14)时，形成样本气体在所述第一流路(4)中流动的采样阶段，将所述第一流路(4)的流体阻力和所述第二流路(6)的流体阻力设计为：参比流量与采样流量之差相对于所述参比流量及所述采样流量的各流量的比例均为15％以下，其中，所述参比流量是在所述参比阶段中在所述第一流路(4)中流动的气体的流量，所述采样流量是在所述采样阶段中在所述第一流路(4)中流动的气体的流量。

58. 发明授权

CN112136041B 成像数据处理装置有权
公开(公告)号：CN112136041B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN201880093329.3
申请日：2018-05-30
申请人：株式会社岛津制作所
发明人：山口真一
IPC分类号： G01N27/62 , G01N27/623
摘要：图像制作部(33)制作与相同的试样上的测定区域有关的每m/z的MS成像图像和光学图像，图像位置对准处理部(34)使分辨率一致并且进行图像位置对准。回归分析执行部(35)将基于MS成像数据的矩阵设为解释变量，将基于光学图像制作的以每个像素的亮度值为元素的矩阵设为被解释变量，执行PLS，来制作回归模型。图像制作部(33)将解释变量、即MS成像数据的各像素中的每个质荷比值的信号强度值应用于回归模型，来制作预测图像。显示处理部(39)将参照图像和预测图像显示在显示部(5)的画面上。由此，作业者能够确认MS成像图像与光学图像的分布的类似性的程度。其结果，能够评价所制作出的回归模型的准确性。

59. 发明授权

CN111566471B X射线成像装置有权
公开(公告)号：CN111566471B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN201880082441.7
申请日：2018-11-06
申请人：株式会社岛津制作所
发明人：佐野哲 , 木村健士 , 白井太郎 , 土岐贵弘 , 堀场日明 , 森本直树
IPC分类号： G01N23/041 , G01N23/201
摘要：该X射线成像装置(100)具备：旋转机构(8)，其使由X射线源(1)、检测器(5)、第一光栅(2)以及第二光栅(3)构成的摄像系统(200)相对地旋转；以及图像处理部(6)，其在多个旋转角度的各个旋转角度下基于X射线的强度分布来生成暗场像。而且，图像处理部(6)构成为实施使暗场像的多个像素中的、暗场信号比阈值(V1)大的像素的暗场信号降低到设定值(V2)的散射校正。

60. 发明授权

CN110320380B 自动分析装置和自动分析方法有权
公开(公告)号：CN110320380B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201910242733.9
申请日：2019-03-28
申请人：日本电子株式会社
发明人：朝仓诚 , 山下峰
IPC分类号： G01N35/10
摘要：本发明提供一种自动分析装置，其能在未使用擦拭用的清洗构件的情况下有效地清洗分注探头，由此能谋求运行成本降低。自动分析装置包括：保持部，其对贮存有分注液的多个容器进行保持；浸渍清洗液保持部，其贮存浸渍清洗液；分注装置，其具有驱动机构，该驱动机构将自保持于保持部的容器采集分注液的分注探头保持为能在保持部与浸渍清洗液保持部之间移动；测量控制部，其以预定周期自保持于保持部的多个容器依次采集分注液的方式控制分注装置的驱动机构和分注探头；以及浸渍清洗控制部，其以花费预定周期的两倍以上的浸渍时间来实施将分注探头浸渍于贮存于浸渍清洗液保持部的浸渍清洗液中的浸渍清洗的方式，控制分注装置的驱动机构和分注探头。

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