基本信息:
- 专利标题： 一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台
- 专利标题（英）：A mask bench capable of improving vertical gravity bending of a mask
- 申请号：CN201310737701.9 申请日：2013-12-30
- 公开(公告)号：CN104749894A 公开(公告)日：2015-07-01
- 发明人： 孟春霞 , 闻人青青 , 李玉龙 , 林彬 , 张俊
- 申请人： 上海微电子装备有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
- 专利权人： 上海微电子装备有限公司
- 当前专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
- 代理机构： 北京连和连知识产权代理有限公司
- 代理人： 王光辉
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明提出一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述掩模台还包括对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统。本发明在原有掩模台的基础上，增加可以向掩模侧向两边或四周边缘施加对称向外拉力的系统，如真空吸附系统，从掩模石英面边缘的方向上，对掩模产生对称的向外拉力。这些向外的拉力可以改善由于重力作用，掩模产生的向下弯曲变形的现象。
摘要（英）：
A mask bench capable of improving vertical gravity bending of a mask is provided. The mask bench is characterized in that: the mask bench comprises systems applying symmetric outward tension forces depart from the mask direction to the mask. Based on original mask benches, the systems which can apply symmetric outward tension forces to two side edges or the periphery edge of the mask, such as vacuum adsorption systems, are additionally arranged, so that symmetric outward tension forces are generated onto the mask from the direction of quartz surface edges of the mask. The outward tension forces can improve downward bending deformation caused by gravity of the mask.
公开/授权文献:
- CN104749894B 一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台 公开/授权日：2017-08-29