基本信息:
- 专利标题： 一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台
- 申请号：CN201310737701.9 申请日：2013-12-30
- 公开(公告)号：CN104749894B 公开(公告)日：2017-08-29
- 发明人： 孟春霞 , 闻人青青 , 李玉龙 , 林彬 , 张俊
- 申请人： 上海微电子装备有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
- 专利权人： 上海微电子装备有限公司
- 当前专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
- 代理机构： 上海思微知识产权代理事务所
- 代理人： 屈蘅
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明提出一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述掩模台还包括对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统。本发明在原有掩模台的基础上，增加可以向掩模侧向两边或四周边缘施加对称向外拉力的系统，如真空吸附系统，从掩模石英面边缘的方向上，对掩模产生对称的向外拉力。这些向外的拉力可以改善由于重力作用，掩模产生的向下弯曲变形的现象。
公开/授权文献:
- CN104749894A 一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台 公开/授权日：2015-07-01