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11. 发明专利

TW201628117A 雙層輸送處理裝置與雙層輸送處理方法审中-公开
简体标题：双层输送处理设备与双层输送处理方法
公开(公告)号：TW201628117A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104101829
申请日：2015-01-20
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：江勳偉 , CHIANG, HSUN WEI , 蔡宗錡 , TSAI, TSUNG CHI , 丁啓民 , TING, CHI MIN , 呂國榮
IPC分类号： B65G49/07 , H05K3/00
摘要：本發明揭露一種雙層輸送處理裝置。雙層輸送處理裝置包括上滾輪組、下滾輪組、滾輪平台以及處理單元。下滾輪組設於上滾輪組之下。滾輪平台於上滾輪組與下滾輪組之間移動。處理單元設於下滾輪組的第三端部與第四端部之間。基板由上滾輪組的第一端部輸送至上滾輪組的第二端。滾輪平台承接由上滾輪組的第二端部所送來的基板，滾輪平台將基板下移並輸送至下滾輪組的第三端部。基板由下滾輪組的第三端部輸送至下滾輪組的第四端部，以將基板輸送至外界。處理單元對基板噴灑液體，以進行製程處理。此外，一種雙層輸送處理方法亦被提出。
简体摘要：本发明揭露一种双层输送处理设备。双层输送处理设备包括上滚轮组、下滚轮组、滚轮平台以及处理单元。下滚轮组设于上滚轮组之下。滚轮平台于上滚轮组与下滚轮组之间移动。处理单元设于下滚轮组的第三端部与第四端部之间。基板由上滚轮组的第一端部输送至上滚轮组的第二端。滚轮平台承接由上滚轮组的第二端部所送来的基板，滚轮平台将基板下移并输送至下滚轮组的第三端部。基板由下滚轮组的第三端部输送至下滚轮组的第四端部，以将基板输送至外界。处理单元对基板喷洒液体，以进行制程处理。此外，一种双层输送处理方法亦被提出。

12. 发明专利

TWI541069B 噴塗裝置及其噴塗切換方法有权
简体标题：喷涂设备及其喷涂切换方法
公开(公告)号：TWI541069B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW103139356
申请日：2014-11-13
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：李玟澄 , LEE, WEN CHENG , 王志峰 , WANG, CHIH FENG
IPC分类号： B05B15/04 , B05B12/08

13. 外观设计

TWD175510S 吸附元件有权
简体标题：吸附组件
公开(公告)号：TWD175510S
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW104305214
申请日：2015-09-18
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
设计人：丁國良 , TING, KUO LIANG , 林煜捷 , LIN, YU JIE , 黃康洋 , HUANG, KANG YANG

14. 发明专利

TW201616667A 化學濕製程方法审中-公开
简体标题：化学湿制程方法
公开(公告)号：TW201616667A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW103136724
申请日：2014-10-23
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：王春雅 , WANG, CHUEN YA , 陳立凱 , CHEN, LI-KAI , 藍受龍 , LAN, SHOU-LONG , 陳家達 , CHEN, CHIA-TA
IPC分类号： H01L31/042 , H01L21/306
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：一種化學濕製程方法，包括：提供一化學藥液；提供一基板，基板具有一反應面以及相對於反應面的一受熱面，將反應面接觸化學藥液；以及加熱受熱面，藉由熱傳導使反應面溫度升高並與化學藥液進行化學濕製程反應。藉此，以能大幅降低化學藥液在被加熱後的酸鹼值變化，使化學藥液能被回收再利用，從而達到減少環境污染並降低成本的效果。
简体摘要：一种化学湿制程方法，包括：提供一化学药液；提供一基板，基板具有一反应面以及相对于反应面的一受热面，将反应面接触化学药液；以及加热受热面，借由热传导使反应面温度升高并与化学药液进行化学湿制程反应。借此，以能大幅降低化学药液在被加热后的酸碱值变化，使化学药液能被回收再利用，从而达到减少环境污染并降低成本的效果。

15. 发明专利

TW201609231A 氣泡分離機構與氣泡分離方法、及其應用於含有藥液供給之製程機台审中-公开
简体标题：气泡分离机构与气泡分离方法、及其应用于含有药液供给之制程机台
公开(公告)号：TW201609231A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW103130848
申请日：2014-09-05
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：林文勝 , LIN, WEN SHENG
IPC分类号： B01D19/02
摘要：本發明為一種氣泡分離機構及其方法，其包含有一腔體；一活塞，設於腔體的底面並且具有一初始高度；一第一通道，一端耦接腔體的側面並且相通於腔體，而第一通道設有一第一切換閥並且具有一第一高度；一第三通道，一端耦接腔體之側面並且相通於腔體，而第三通道具有一第二高度；一第二通道，一端耦接腔體之頂面並且相通於腔體，而第二通道設有一第二切換閥並且具有一第三高度，而初始高度、第一高度、第二高度與第三高度分別為活塞頂部表面、第一通道中心、第二通道與第三通道中心距離地面之垂直距離，而第二高度大於第一高度，第一高度大於或等於第三高度，第三高度大於初始高度，其中因進入腔體中之流體具有第一高度的高度差，使其具有的位能差轉換成存於腔體中流體內的分子動能，以使流體中的氣泡移動至液面的效率增加，提升氣泡分離的效率。
简体摘要：本发明为一种气泡分离机构及其方法，其包含有一腔体；一活塞，设于腔体的底面并且具有一初始高度；一第一信道，一端耦接腔体的侧面并且相通于腔体，而第一信道设有一第一切换阀并且具有一第一高度；一第三信道，一端耦接腔体之侧面并且相通于腔体，而第三信道具有一第二高度；一第二信道，一端耦接腔体之顶面并且相通于腔体，而第二信道设有一第二切换阀并且具有一第三高度，而初始高度、第一高度、第二高度与第三高度分别为活塞顶部表面、第一信道中心、第二信道与第三信道中心距离地面之垂直距离，而第二高度大于第一高度，第一高度大于或等于第三高度，第三高度大于初始高度，其中因进入腔体中之流体具有第一高度的高度差，使其具有的位能差转换成存于腔体中流体内的分子动能，以使流体中的气泡移动至液面的效率增加，提升气泡分离的效率。

16. 外观设计

TWD173667S 電鍍連接器有权
简体标题：电镀连接器
公开(公告)号：TWD173667S
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：TW104304463
申请日：2014-07-16
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
设计人：周慶松 , CHOU,CHING SUNG , 郭富強 , GUO,FU QIANG , 欒濤 , LUAN,TAO , 陳良 , LIANG,CHEN , 韓小風 , HAN,XIAO FENG , 李玟澄 , LEE,WEN CHENG

17. 实用新型

TWM497727U 旋轉接頭與製程設備有权
简体标题：旋转接头与制程设备
公开(公告)号：TWM497727U
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW103221496
申请日：2014-12-04
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：顏英哲 , YAN, YING ZHE , 游宏銘 , 姚昶劦 , YAO, CHANG HSIEH , 蘇志榮
IPC分类号： F16L25/00

18. 实用新型

TWM496526U 直接驅動裝置與塗佈系統有权
简体标题：直接驱动设备与涂布系统
公开(公告)号：TWM496526U
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW103216863
申请日：2014-09-23
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：徐啓敏 , 張志安
IPC分类号： B05C9/00 , B05C11/00

19. 实用新型

TWM481221U 基板傳送裝置有权
简体标题：基板发送设备
公开(公告)号：TWM481221U
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102223369
申请日：2013-12-11
申请人：亞智科技股份有限公司 , INTECH MACHINES CO., LTD.
发明人：萊茲丹尼爾湯瑪斯 , LEITZ, DANIEL THOMAS , 福克斯貝蒂娜 , FUCHS, BETTINA , 穆勒利奧波德路德維希約阿希姆 , 藍受龍 , LAN, SHOU LONG , 陳傳宜 , CHEN, CHUAN YI , 游柏清 , YU, PO CHING , 陳立凱 , CHEN, LI KAI
IPC分类号： B65G49/06

20. 实用新型

TWM445320U 軟性電子輸送夾具裝置有权
简体标题：软性电子输送夹具设备
公开(公告)号：TWM445320U
公开(公告)日：2013-01-11
申请号：TW101214593
申请日：2012-07-27
申请人：亞智科技股份有限公司
发明人：黃國雲 , HUANG, KUO YUN , 李玟澄 , LEE, WEN CHENG , 詹前洋 , CHAN, CHIEN YANG
IPC分类号： H05K13/02 , H01L21/687

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