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    • 42. 发明公开
    • 在有机和/或陶瓷衬底上对功率电子半导体构件同时进行接合和绝缘的方法以及相应的复合结构体
    • CN115917716A
    • 2023-04-04
    • CN202180040352.8
    • 2021-05-19
    • 西门子股份公司
    • B.穆勒C.纳希蒂加尔-谢伦伯格J.斯特朗斯K.威尔克
    • H01L21/56H01L21/603H01L23/58H01L23/29
    • 为了将功率电子半导体构件的接合和绝缘设计得更容易且更高效,提出了一种用于在作为有机和/或陶瓷布线载体的衬底(10)上对功率电子半导体构件(30)进行接合和绝缘的方法,以及一种由功率电子半导体构件(30)和作为有机和/或陶瓷布线载体的衬底(10)组成的经接合的复合结构体,其中,该方法包括以下步骤:为衬底(10)提供金属化层(12),该衬底具有带有接合材料(14,15)的安装空间,将电绝缘的箔(20)和半导体构件(30)布置在衬底(10)上,使得半导体构件(30)的面向衬底(10)的接触面(34,35)被箔(20)留空,并且半导体构件(30)的由接触面(34,35)暴露的区域(35)至少部分地通过箔(20)来与衬底(10)和接触面(34,35)绝缘,并且在一个工作步骤中,将半导体构件(30)接合到衬底(10)并且通过箔(20)至少部分地将半导体构件(30)电绝缘。本发明还涉及一种功率电子半导体构件(30)与衬底(10)的经接合的复合结构体。该方法还可以包括通过底部填充材料(25)对金属化层(12)、箔(20)和半导体构件(30)之间的剩余的间隙(40)进行封闭的步骤。可以将压力施加到半导体构件(30)上,以便接合半导体构件(30),使得箔(20)在接合期间至少部分地置于压力中。箔(20)可以将半导体构件(30)的保护环区域(36)绝缘。箔(20)的尺寸可以被设计为,使得在接合之后箔从衬底(10)的金属化层(12)与半导体构件(30)之间的间隙中突出。备选地,箔(20)可以完全被半导体构件(30)覆盖,其中,保护环区域(36)通过箔(20)或通过底部填充(25)绝缘。箔(20)可以具有弹性体、尤其硅酮弹性体或由弹性体、尤其硅酮弹性体组成。箔(20)可以具有填料、尤其陶瓷填料,因此,除了箔(20)的绝缘特性外,还可以适配其他特性、例如热传导和膨胀系数。箔(20)可以具有纤维填充、尤其玻璃纤维填充。箔(20)可以具有粘合层。