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1. 发明专利

TW200838181A 用以監控射頻功率的量測系統與監控射頻功率之方法 MULTIPOINT VOLTAGE AND CURRENT PROBE SYSTEM 审中-公开
简体标题：用以监控射频功率的量测系统与监控射频功率之方法 MULTIPOINT VOLTAGE AND CURRENT PROBE SYSTEM
公开(公告)号：TW200838181A
公开(公告)日：2008-09-16
申请号：TW096134945
申请日：2007-09-19
申请人：萬機科技股份有限公司 MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：雷喬艾瑞 CHOUEIRY, RAY , 陶德賀客曼 HECKLEMAN, TODD , 大衛寇姆 COUMOU, DAVID J.
IPC分类号： H04B , G06K
CPC分类号： H01J37/32935 , H01J37/32082 , H01J37/32174 , H04B17/318
摘要：一種量測系統,用於監控電路中複數個位置的射頻功率。此系統包含複數個射頻感測器、多工模組及分析模組。其中,射頻感測器根據射頻功率的電特性產生類比訊號,多工模組根據此類比訊號產生輸出訊號,而分析模組則根據輸出訊號產生訊息。此些訊息包含關於由複數個射頻感測器所感測的電特性的資訊。
简体摘要：一种量测系统,用于监控电路中复数个位置的射频功率。此系统包含复数个射频传感器、多任务模块及分析模块。其中,射频传感器根据射频功率的电特性产生模拟信号,多任务模块根据此模拟信号产生输出信号,而分析模块则根据输出信号产生消息。此些消息包含关于由复数个射频传感器所传感的电特性的信息。

2. 发明专利

TW200836595A 電弧偵測系統及其偵測方法 HARMONIC DERIVED ARC DETECTOR 审中-公开
简体标题：电弧侦测系统及其侦测方法 HARMONIC DERIVED ARC DETECTOR
公开(公告)号：TW200836595A
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：TW096137163
申请日：2007-10-03
申请人：萬機科技股份有限公司 MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：約翰菲爾寇 VALCORE, JR., JOHN , 韓宇峰 HAN, YUFENG , 强納生史密卡 SMYKA, JONATHAN , 薩瓦多波利柔 POLIZZO, SALVATORE , 阿恩瑞德姆斯基 RADOMSKI, AARON T.
IPC分类号： H05H , G01R , G05F
CPC分类号： H05H1/0062 , H01J37/32082 , H01J37/32935 , H01J37/32944 , H01J2237/0206
摘要：一種電弧偵測系統,包括射頻訊號探針。該射頻訊號探針感測射頻電漿室之輸入處的射頻訊號,並且根據該射頻訊號的電壓、電流和功率中至少之一而產生訊號。一訊號分析器接收此訊號,監視訊號中高於或等於該射頻訊號的基本頻率的頻率分量,以及根據該頻率分量產生輸出訊號。該輸出訊號指示該射頻電漿室中產生電弧。
简体摘要：一种电弧侦测系统,包括射频信号探针。该射频信号探针传感射频等离子室之输入处的射频信号,并且根据该射频信号的电压、电流和功率中至少之一而产生信号。一信号分析器接收此信号,监视频号中高于或等于该射频信号的基本频率的频率分量,以及根据该频率分量产生输出信号。该输出信号指示该射频等离子室中产生电弧。

3. 发明专利

TW200832489A 射頻訊號產生器 RF POWER AMPLIFIER STABILITY NETWORK 失效
简体标题：射频信号产生器 RF POWER AMPLIFIER STABILITY NETWORK
公开(公告)号：TW200832489A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096137162
申请日：2007-10-03
申请人：萬機科技股份有限公司 MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：薩瓦多波利柔 POLIZZO, SALVATORE
IPC分类号： H01J , H03F
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32082 , H01J37/32174 , H03F1/301 , H03F3/2171 , H03F3/265
摘要：一種射頻產生器,用於應用射頻功率至電漿室,該射頻產生器包含直流電電源供應器。射頻開關產生中心頻率f0處的射頻功率。低通耗散終端網路連接於該直流電電源供應器和該開關之間,並且以第一截止頻率作業。該開關輸出訊號至改善系統保真度之輸出網路。該輸出網路產生提供至高通次諧波負載隔離濾波器的輸出訊號,其中該高通次諧波負載隔離濾波器通過預定頻率以上的射頻功率。低通諧波負載隔離濾波器被插入於該輸出網路和該高通次諧波負載隔離濾波器之間,高通終端網路連接於該輸出網路之輸出。該高通終端網路消除預定頻率以上的射頻功率。離線短路或分流網路連接於該開關輸出和該輸出網路之輸入之間,以在預定頻率使該開關之輸出短路。
简体摘要：一种射频产生器,用于应用射频功率至等离子室,该射频产生器包含直流电电源供应器。射频开关产生中心频率f0处的射频功率。低通耗散终端网络连接于该直流电电源供应器和该开关之间,并且以第一截止频率作业。该开关输出信号至改善系统保真度之输出网络。该输出网络产生提供至高通次谐波负载隔离滤波器的输出信号,其中该高通次谐波负载隔离滤波器通过预定频率以上的射频功率。低通谐波负载隔离滤波器被插入于该输出网络和该高通次谐波负载隔离滤波器之间,高通终端网络连接于该输出网络之输出。该高通终端网络消除预定频率以上的射频功率。脱机短路或分流网络连接于该开关输出和该输出网络之输入之间,以在预定频率使该开关之输出短路。

4. 发明专利

TW200520030A 應用於電漿處理工業之現場安裝與維修之射頻度量特性 RF METROLOGY CHARACTERIZATION FOR FIELD INSTALLATION AND SERVICEABILITY FOR THE PLASMA PROCESSING INDUSTRY 失效
简体标题：应用于等离子处理工业之现场安装与维修之射频度量特性 RF METROLOGY CHARACTERIZATION FOR FIELD INSTALLATION AND SERVICEABILITY FOR THE PLASMA PROCESSING INDUSTRY
公开(公告)号：TW200520030A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：TW093126198
申请日：2004-08-31
申请人：萬機科技股份有限公司 MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：大衛寇姆 COUMOU, DAVID J. , 克里佛德維特雷爾 WEATHERELL, CLIFFORD C. , 麥可科克 KIRK, MICHAEL L. , 凱文那斯曼 NASMAN, KEVIN
IPC分类号： H01L , H05H
CPC分类号： H01J37/32935
摘要：本發明係為一種可現場安裝替換元件的射頻度量系統，本系統包含一個感測器／纜線(sensor／cable)組成的元件和一個分析單元。在現場配置安裝前決定射頻度量系統的參數。由這些參數，不論是任何元件，感測器／纜線組成的元件或分析模組(analysis module)，被替換的元件都可以藉由再校準系統在現場替換完成。這種再校準(recalibration)功能已經被實現利用在現場配置安裝前被決定的參數。
简体摘要：本发明系为一种可现场安装替换组件的射频度量系统，本系统包含一个传感器／缆线(sensor／cable)组成的组件和一个分析单元。在现场配置安装前决定射频度量系统的参数。由这些参数，不论是任何组件，传感器／缆线组成的组件或分析模块(analysis module)，被替换的组件都可以借由再校准系统在现场替换完成。这种再校准(recalibration)功能已经被实现利用在现场配置安装前被决定的参数。

5. 发明专利

TW200935988A 電漿產生系統之電弧偵測裝置及其偵測方法 APPLICATION OF WIDEBAND SAMPLING FOR ARC DETECTION WITH A PROBABILISTIC MODEL FOR QUANTITATIVELY MEASURING ARC EVENTS 审中-公开
简体标题：等离子产生系统之电弧侦测设备及其侦测方法 APPLICATION OF WIDEBAND SAMPLING FOR ARC DETECTION WITH A PROBABILISTIC MODEL FOR QUANTITATIVELY MEASURING ARC EVENTS
公开(公告)号：TW200935988A
公开(公告)日：2009-08-16
申请号：TW097146458
申请日：2008-11-28
申请人：萬機科技股份有限公司 MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：大衛寇姆 COUMOU, DAVID J.
IPC分类号： H05H
CPC分类号： G01R31/00 , G01R19/0061 , G01R21/01 , G01R31/12 , G06F19/00
摘要：一種電漿產生系統之電弧偵測裝置包括射頻(RF)感測器和關聯模組。射頻感測器分別根據與電漿腔室相連的RF電源的電子特性產生第一信號和第二信號。關聯模組根據第一信號和第二信號產生電弧偵測信號。電弧偵測信號指示於電漿腔室中是否產生電弧,並且用以改變RF電源的方位以消除電弧。
简体摘要：一种等离子产生系统之电弧侦测设备包括射频(RF)传感器和关联模块。射频传感器分别根据与等离子腔室相连的RF电源的电子特性产生第一信号和第二信号。关联模块根据第一信号和第二信号产生电弧侦测信号。电弧侦测信号指示于等离子腔室中是否产生电弧,并且用以改变RF电源的方位以消除电弧。

6. 发明专利

TWI244114B 應用於電漿處理工業之現場安裝與維修之射頻度量特性 RF METROLOGY CHARACTERIZATION FOR FIELD INSTALLATION AND SERVICEABILITY FOR THE PLASMA PROCESSING INDUSTRY 失效
简体标题：应用于等离子处理工业之现场安装与维修之射频度量特性 RF METROLOGY CHARACTERIZATION FOR FIELD INSTALLATION AND SERVICEABILITY FOR THE PLASMA PROCESSING INDUSTRY
公开(公告)号：TWI244114B
公开(公告)日：2005-11-21
申请号：TW093126198
申请日：2004-08-31
申请人：萬機科技股份有限公司 MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：大衛寇姆 COUMOU, DAVID J. , 克里佛德維特雷爾 WEATHERELL, CLIFFORD C. , 麥可科克 KIRK, MICHAEL L. , 凱文那斯曼 NASMAN, KEVIN
IPC分类号： H01L , H05H
CPC分类号： H01J37/32935
摘要：本發明係為一種可現場安裝替換元件的射頻度量系統，本系統包含一個感測器/纜線(sensor/cable)組成的元件和一個分析單元。在現場配置安裝前決定射頻度量系統的參數。由這些參數，不論是任何元件，感測器/纜線組成的元件或分析模組(analysis module)，被替換的元件都可以藉由再校準系統在現場替換完成。這種再校準(recalibration)功能已經被實現利用在現場配置安裝前被決定的參數。
简体摘要：本发明系为一种可现场安装替换组件的射频度量系统，本系统包含一个传感器/缆线(sensor/cable)组成的组件和一个分析单元。在现场配置安装前决定射频度量系统的参数。由这些参数，不论是任何组件，传感器/缆线组成的组件或分析模块(analysis module)，被替换的组件都可以借由再校准系统在现场替换完成。这种再校准(recalibration)功能已经被实现利用在现场配置安装前被决定的参数。

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