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1. 发明专利

TW201818489A 溼式製程裝置审中-公开
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TW201818489A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW105136507
申请日：2016-11-09
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306 , G02F1/13
摘要：本發明提供一種溼式製程裝置。本發明藉由將液體移除單元設置在兩個容器相通的開口處，進而利用在該開口處的兩組噴嘴將屬於兩個容器的液體往各自的容器內部吹，避免該兩個容器的液體交叉汙染。該液體移除單元緊靠該兩個容器的開口設置，進而解決靠近開口處的液體可能濺灑至相鄰容器的問題。
简体摘要：本发明提供一种湿式制程设备。本发明借由将液体移除单元设置在两个容器相通的开口处，进而利用在该开口处的两组喷嘴将属于两个容器的液体往各自的容器内部吹，避免该两个容器的液体交叉污染。该液体移除单元紧靠该两个容器的开口设置，进而解决靠近开口处的液体可能溅洒至相邻容器的问题。

2. 发明专利

TW201734367A 烤爐审中-公开
简体标题：烤炉
公开(公告)号：TW201734367A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105109761
申请日：2016-03-28
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： F24B1/185
摘要：本發明提供一種烤爐，用於加熱和乾燥至少一基板。該烤爐包括一操作腔室、一加熱板以及一多孔板。該操作腔室具有至少一排氣孔用以排放該操作腔室內加熱的空氣。該加熱板，設置於該操作腔室底部，用以在該操作腔室內產生一加熱效果。該多孔板，設置在該加熱板的邊緣和一排氣孔上方。該至少一基板設置於該加熱板上。本發明通過設置該多孔板，讓該操作腔室中的加熱氣流較為均勻，進而改善了加熱溫度不均勻現象。藉此，當該基板為一液晶顯示器基板(liquid crystal display substrate)時，所製成的液晶顯示面板的Mura現象(板亮度不均勻造成各種痕跡的現象)可被改善。
简体摘要：本发明提供一种烤炉，用于加热和干燥至少一基板。该烤炉包括一操作腔室、一加热板以及一多孔板。该操作腔室具有至少一排气孔用以排放该操作腔室内加热的空气。该加热板，设置于该操作腔室底部，用以在该操作腔室内产生一加热效果。该多孔板，设置在该加热板的边缘和一排气孔上方。该至少一基板设置于该加热板上。本发明通过设置该多孔板，让该操作腔室中的加热气流较为均匀，进而改善了加热温度不均匀现象。借此，当该基板为一液晶显示器基板(liquid crystal display substrate)时，所制成的液晶显示皮肤的Mura现象(板亮度不均匀造成各种痕迹的现象)可被改善。

3. 发明专利

TW201733692A 清洗機構审中-公开
简体标题：清洗机构
公开(公告)号：TW201733692A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105109179
申请日：2016-03-24
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： B08B1/04 , H01L21/306
摘要：本發明提供一種清洗機構，該清洗機構包括一操作腔室以及至少一模刷。該操作腔室，用於容置至少一基板以執行溼式製程。該至少一模刷，設置於該操作腔室內且用於對該至少一基板進行清洗程序。該模刷包括一主軸、複數刷毛以及複數主貫孔。該主軸以該主軸的一長軸為中心進行旋轉。該複數刷毛，設置於該主軸，用於對該操作腔室內部的該至少一基板進行物理清潔。該複數主貫孔，與該複數刷毛沿著該長軸的一延伸方向交錯配置於該主軸的外表面上。在刷毛進行清洗程序時可以藉由該清潔物質避免髒污附著到刷毛上。
简体摘要：本发明提供一种清洗机构，该清洗机构包括一操作腔室以及至少一模刷。该操作腔室，用于容置至少一基板以运行湿式制程。该至少一模刷，设置于该操作腔室内且用于对该至少一基板进行清洗进程。该模刷包括一主轴、复数刷毛以及复数主贯孔。该主轴以该主轴的一长轴为中心进行旋转。该复数刷毛，设置于该主轴，用于对该操作腔室内部的该至少一基板进行物理清洁。该复数主贯孔，与该复数刷毛沿着该长轴的一延伸方向交错配置于该主轴的外表面上。在刷毛进行清洗进程时可以借由该清洁物质避免脏污附着到刷毛上。

4. 发明专利

TW201733679A 蝕刻噴灑模組及使用該蝕刻噴灑模組之濕式蝕刻裝置审中-公开
简体标题：蚀刻喷洒模块及使用该蚀刻喷洒模块之湿式蚀刻设备
公开(公告)号：TW201733679A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105109760
申请日：2016-03-28
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： B05B1/14 , B05B13/02 , H01L21/67 , H01L21/304
摘要：一種蝕刻噴灑模組及使用該蝕刻噴灑模組之濕式蝕刻裝置，該濕式蝕刻裝置包括一腔體以及該蝕刻噴灑模組。該腔體包括一進氣口、一出氣口、以及一蝕刻液入口。該蝕刻噴灑模組設置於該腔體中以對一基板進行蝕刻。該蝕刻噴灑模組包括一本體以及複數個噴嘴。各噴嘴包括一第一入口、一第二入口、以及一噴嘴出口。該噴嘴出口之一口徑小於該第一入口之一口徑且小於該第二入口之一口徑。該濕式蝕刻裝置及該蝕刻噴灑模組能將蝕刻液均勻地噴灑在基板上。
简体摘要：一种蚀刻喷洒模块及使用该蚀刻喷洒模块之湿式蚀刻设备，该湿式蚀刻设备包括一腔体以及该蚀刻喷洒模块。该腔体包括一进气口、一出气口、以及一蚀刻液入口。该蚀刻喷洒模块设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻。该蚀刻喷洒模块包括一本体以及复数个喷嘴。各喷嘴包括一第一入口、一第二入口、以及一喷嘴出口。该喷嘴出口之一口径小于该第一入口之一口径且小于该第二入口之一口径。该湿式蚀刻设备及该蚀刻喷洒模块能将蚀刻液均匀地喷洒在基板上。

5. 发明专利

TWI591715B 具有內置式氣液分離單元之濕製程設備有权
简体标题：具有内置式气液分离单元之湿制程设备
公开(公告)号：TWI591715B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW105108798
申请日：2016-03-22
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/306

6. 实用新型

TWM540386U 濕式蝕刻裝置有权
简体标题：湿式蚀刻设备
公开(公告)号：TWM540386U
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW105216492
申请日：2016-10-28
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/302 , G02F1/13

7. 发明专利

TWI576634B 用於溼式製程的整合式藥液槽有权
简体标题：用于湿式制程的集成式药液槽
公开(公告)号：TWI576634B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105108501
申请日：2016-03-18
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： G02F1/133 , H01L21/306

8. 实用新型

TWM537302U 溼式製程裝置有权
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TWM537302U
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW105217095
申请日：2016-11-09
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/84

9. 实用新型

TWM528014U 用於溼式製程的整合式藥液槽有权
简体标题：用于湿式制程的集成式药液槽
公开(公告)号：TWM528014U
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW105203829
申请日：2016-03-18
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/306 , B08B3/08

10. 发明专利

TW201814778A 液位控制系統及方法审中-公开
简体标题：液位控制系统及方法
公开(公告)号：TW201814778A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW105132768
申请日：2016-10-11
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 黃進昌 , HUANG, CHIN CHANG , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/30 , G05D9/00
CPC分类号： B05C11/1026 , B05C3/02 , B05C11/11 , B05D1/18
摘要：本發明提供一種液位控制系統及方法。本發明通過利用一液體移除裝置將一液體從一水槽逐漸移除，以達到基板在固定時間內均勻分段浸泡程序，進而避免現有技術中因機械移動基板方式，容易會有微振動而造成液面擾動進而造成基板因處理不均勻而報廢的問題。
简体摘要：本发明提供一种液位控制系统及方法。本发明通过利用一液体移除设备将一液体从一水槽逐渐移除，以达到基板在固定时间内均匀分段浸泡进程，进而避免现有技术中因机械移动基板方式，容易会有微振动而造成液面扰动进而造成基板因处理不均匀而报废的问题。

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