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1. 发明专利

TWI601231B 溼式製程裝置有权
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TWI601231B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105136507
申请日：2016-11-09
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306 , G02F1/13

2. 发明专利

TW201734584A 用於溼式製程的整合式藥液槽审中-公开
简体标题：用于湿式制程的集成式药液槽
公开(公告)号：TW201734584A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105108501
申请日：2016-03-18
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： G02F1/133 , H01L21/306
摘要：本發明提供一種整合式藥液槽，特別適用於溼式製程。該整合式藥液槽包括一操作腔室、一液體槽以及一幫浦。該操作腔室，用於執行溼式製程。該液體槽，設置於該操作腔室下方以及用於儲存至少一液體。該幫浦，用於自該液體槽抽取該至少一液體至該操作腔室。該至少一液體於該操作腔室中使用後，通過該操作腔室的至少一底板回收至該液體槽。使用過的液體能夠直接回到該液體槽，而不需要通過管線輸送，進而解決了漏液的問題。
简体摘要：本发明提供一种集成式药液槽，特别适用于湿式制程。该集成式药液槽包括一操作腔室、一液体槽以及一帮浦。该操作腔室，用于运行湿式制程。该液体槽，设置于该操作腔室下方以及用于存储至少一液体。该帮浦，用于自该液体槽抽取该至少一液体至该操作腔室。该至少一液体于该操作腔室中使用后，通过该操作腔室的至少一底板回收至该液体槽。使用过的液体能够直接回到该液体槽，而不需要通过管线输送，进而解决了漏液的问题。

3. 发明专利

TWI587435B 濕式蝕刻裝置有权
简体标题：湿式蚀刻设备
公开(公告)号：TWI587435B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW105112137
申请日：2016-04-19
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/673 , H01L21/02 , H01L21/306

4. 实用新型

TWM540381U 溼式製程裝置有权
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TWM540381U
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW105216495
申请日：2016-10-28
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , F26B21/00

5. 实用新型

TWM525540U 具有內置式氣液分離單元之濕製程設備有权
简体标题：具有内置式气液分离单元之湿制程设备
公开(公告)号：TWM525540U
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW105203979
申请日：2016-03-22
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/306

6. 发明专利

TW201738993A 濕式蝕刻裝置审中-公开
简体标题：湿式蚀刻设备
公开(公告)号：TW201738993A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105112137
申请日：2016-04-19
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/673 , H01L21/02 , H01L21/306
摘要：所揭為一種濕式蝕刻裝置，該濕式蝕刻裝置包括一腔體、複數個蝕刻液噴嘴、以及一承載平台。該腔體包括一進氣口以及一出氣口。該些蝕刻液噴嘴設置於該腔體中以對一基板進行蝕刻。該承載平台包括一本體以及複數個平台噴嘴。該本體設置於該基板下方。該些平台噴嘴貫穿該本體，一液體透過該些平台噴嘴提供一液體浮力以承載該基板。該濕式蝕刻裝置能避免基板的背面髒污的問題。
简体摘要：所揭为一种湿式蚀刻设备，该湿式蚀刻设备包括一腔体、复数个蚀刻液喷嘴、以及一承载平台。该腔体包括一进气口以及一出气口。该些蚀刻液喷嘴设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻。该承载平台包括一本体以及复数个平台喷嘴。该本体设置于该基板下方。该些平台喷嘴贯穿该本体，一液体透过该些平台喷嘴提供一液体浮力以承载该基板。该湿式蚀刻设备能避免基板的背面脏污的问题。

7. 发明专利

TW201737302A 具有氣體循環裝置之濕製程設備审中-公开
简体标题：具有气体循环设备之湿制程设备
公开(公告)号：TW201737302A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105110615
申请日：2016-04-01
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/02 , F15B15/00
摘要：本發明提供一種具有氣體循環裝置之濕製程設備，包含：一製程腔體，包含分別位在該製程腔體之相對兩側壁之一第一排氣孔和一第一進氣孔；以及一氣體循環裝置，包括：一抽氣單元，設置在該製程腔體之外；以及一傳輸管路，與該抽氣單元連接，且與該第一排氣孔和該第一進氣孔連通，其中該抽氣單元將該製程腔體內之一氣體通過該第一排氣孔抽進該傳輸管路，並且該氣體通過該第一進氣孔回送至該製程腔體內部。
简体摘要：本发明提供一种具有气体循环设备之湿制程设备，包含：一制程腔体，包含分别位在该制程腔体之相对两侧壁之一第一排气孔和一第一进气孔；以及一气体循环设备，包括：一抽气单元，设置在该制程腔体之外；以及一传输管路，与该抽气单元连接，且与该第一排气孔和该第一进气孔连通，其中该抽气单元将该制程腔体内之一气体通过该第一排气孔抽进该传输管路，并且该气体通过该第一进气孔回送至该制程腔体内部。

8. 发明专利

TW201736306A 濕式蝕刻裝置审中-公开
简体标题：湿式蚀刻设备
公开(公告)号：TW201736306A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105111331
申请日：2016-04-12
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： C03C15/00 , B05B1/14 , B05B15/00
摘要：一種濕式蝕刻裝置，包括一腔體以及一蝕刻噴灑模組。該腔體包括一進氣口以及一出氣口。該蝕刻噴灑模組設置於該腔體中以對一基板進行蝕刻。該蝕刻噴灑模組包括一網板以及複數個噴嘴。該網板包括複數個孔洞。該些噴嘴設置於該網板之上方，該些孔洞之口徑小於該些噴嘴之口徑。該濕式蝕刻裝置能將蝕刻液均勻地噴灑在基板上。
简体摘要：一种湿式蚀刻设备，包括一腔体以及一蚀刻喷洒模块。该腔体包括一进气口以及一出气口。该蚀刻喷洒模块设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻。该蚀刻喷洒模块包括一网板以及复数个喷嘴。该网板包括复数个孔洞。该些喷嘴设置于该网板之上方，该些孔洞之口径小于该些喷嘴之口径。该湿式蚀刻设备能将蚀刻液均匀地喷洒在基板上。

9. 发明专利

TW201735151A 具有內置式氣液分離單元之濕製程設備审中-公开
简体标题：具有内置式气液分离单元之湿制程设备
公开(公告)号：TW201735151A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105108798
申请日：2016-03-22
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/306
摘要：本發明提供一種具有內置式氣液分離單元之濕製程設備，包含：一製程腔體；一氣體處理單元；以及一氣液分離單元，連接在該製程腔體與該氣體處理單元之間，包含一傳輸管道和一過濾元件，該傳輸管道包括：一進入段，用於將該製程腔體內之一化學性氣液混合物輸入該氣液分離單元內；一反應段，用於容置該過濾元件，使得通過該過濾元件之該化學性氣液混合物分離為一化學液體和一廢氣；以及一排氣段，用於將該廢氣排入該氣體處理單元，其中該氣液分離單元之該進入段與該反應段設置在該製程腔體之內部。
简体摘要：本发明提供一种具有内置式气液分离单元之湿制程设备，包含：一制程腔体；一气体处理单元；以及一气液分离单元，连接在该制程腔体与该气体处理单元之间，包含一传输管道和一过滤组件，该传输管道包括：一进入段，用于将该制程腔体内之一化学性气液混合物输入该气液分离单元内；一反应段，用于容置该过滤组件，使得通过该过滤组件之该化学性气液混合物分离为一化学液体和一废气；以及一排气段，用于将该废气排入该气体处理单元，其中该气液分离单元之该进入段与该反应段设置在该制程腔体之内部。

10. 发明专利

TW201818489A 溼式製程裝置审中-公开
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TW201818489A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW105136507
申请日：2016-11-09
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306 , G02F1/13
摘要：本發明提供一種溼式製程裝置。本發明藉由將液體移除單元設置在兩個容器相通的開口處，進而利用在該開口處的兩組噴嘴將屬於兩個容器的液體往各自的容器內部吹，避免該兩個容器的液體交叉汙染。該液體移除單元緊靠該兩個容器的開口設置，進而解決靠近開口處的液體可能濺灑至相鄰容器的問題。
简体摘要：本发明提供一种湿式制程设备。本发明借由将液体移除单元设置在两个容器相通的开口处，进而利用在该开口处的两组喷嘴将属于两个容器的液体往各自的容器内部吹，避免该两个容器的液体交叉污染。该液体移除单元紧靠该两个容器的开口设置，进而解决靠近开口处的液体可能溅洒至相邻容器的问题。

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