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    • 5. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ÜBERPRÜFUNG EINER BESTRAHLUNGSPLANUNG SOWIE BESTRAHLUNGSANLAGE
    • 方法和装置审查辐射暴露和规划体系
    • WO2011038802A1
    • 2011-04-07
    • PCT/EP2010/004956
    • 2010-08-12
    • GSI HELMHOLTZZENTRUM FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG GMBHSIEMENS AGBERT, ChristophRIETZEL, EikeSAITO, Nami
    • BERT, ChristophRIETZEL, EikeSAITO, Nami
    • A61N5/10
    • A61N5/1048A61B2017/00707A61N2005/1087G21K1/10
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Überprüfung einer Bestrahlungsanlage, in der mit einem Behandlungsstrahl eine Dosisverteilung in einem Zielobjekt deponierbar ist, umfassend: - Bereitstellen eines Bestrahlungsplanungsdatensatzes, der für die Bestrahlung eines sich bewegenden Zielvolumens optimiert ist, - Bereitstellen eines Bewegungssignals, das eine Bewegung des Zielvolumens nachbildet, - Bestrahlen eines Phantoms, das zur Detektion einer in dem Phantom deponierten Dosis Verteilung während oder nach der Bestrahlung ausgebildet ist, unter Verwendung der im Bestrahlungsplanungsdatensatz hinterlegten Steuerparameter und des Bewegungssignals, - Ermitteln einer im Phantom deponierten Dosisverteilung, - Berechnen einer zu erwartenden Dosisverteilung aufgrund von Parametern, die im Zusammenhang mit der Steuerung der Bestrahlungsanlage während der Bestrahlung stehen, - Vergleichen der im Phantom deponierten ermittelten Dosisverteilung mit der berechneten zu erwartenden Dosisverteilung. Weiterhin betrifft die Erfindung eine entsprechende Vorrichtung und eine Bestrahlungsanlage mit einer solchen Vorrichtung.
    • 本发明涉及一种方法,用于检查的照射系统,其中一个治疗束,剂量分布在对象物填埋,其包括: - 提供一个治疗计划数据集用于运动的目标体积的照射进行了优化, - 提供所述移动的移动信号 目标卷复制, - 照射体模,其被设计用于检测过程中或照射之后沉积在幻象剂量分布,使用所存储的在治疗计划数据设定的控制参数和所述运动信号, - 预期计算 - 确定沉积在幻象剂量分布, 比较沉积在幻象与计算的预期Dosisverte所确定的剂量分布 - 基于被照射期间与所述辐照装置的控制下,参数的剂量分布 ilung。 本发明还涉及一种相应的装置和具有这种装置的放射治疗系统。
    • 6. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG VON STEUERPARAMETERN FÜR EINE BESTRAHLUNGSANLAGE, BESTRAHLUNGSANLAGE UND BESTRAHLUNGSVERFAHREN
    • 设备和方法控制参数对辐射系统的,曝光系统和曝光测定方法
    • WO2010043340A1
    • 2010-04-22
    • PCT/EP2009/007244
    • 2009-10-08
    • GSI HELMHOLTZZENTRUM FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG GMBHSIEMENS AGBERT, ChristophRIETZEL, EikeGEMMEL, AlexanderSAITO, Nami
    • BERT, ChristophRIETZEL, EikeGEMMEL, AlexanderSAITO, Nami
    • A61N5/10
    • A61N5/1049A61N5/1043A61N5/1044A61N5/1065A61N2005/1087
    • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bestimmung von Steuerparametern für eine Bestrahlungsanlage, mit welcher eine Vielzahl von Strahlungsdosen nacheinander an unterschiedlichen Zielpunkten in einem Zielvolumen deponierbar ist. Die Vorrichtung umfasst eine Eingabeeinrichtung, welche zum Erfassen eines Zielgebietes und zum Erfassen einer Bewegung des Zielgebiets ausgebildet ist, eine Auswertungseinrichtung zum Ermitteln von Steuerparametern zur Steuerung eines Strahls, derart, dass mit Hilfe der Steuerparameter ein Strahl der Bewegung des Zielgebiets nachführbar ist und in dem Zielgebiet eine definierte Dosisverteilung deponierbar ist, wobei die Auswertungseinrichtung derart ausgebildet ist, dass bei der Ermittlung der Steuerparameter zumindest ein erster wählbarer Steuerparameter so bestimmt wird, dass der Strahl der Bewegung des Zielgebiets lediglich orthogonal zur Strahlrichtung nachgeführt wird, oder dass bei der Ermittlung der Steuerparameter zumindest ein erster wählbarer Steuerparameter und ein weiterer Steuerparameter, welcher eine Energiemodulation des Strahls repräsentiert, ermittelt werden, wobei die Ermittlung des zumindest einen ersten Steuerparameters und des weiteren Steuerparameters unter Berücksichtigung der Bewegungsnachführung in Strahlrichtung erfolgt.
    • 本发明涉及一种设备,用于确定与该多个辐射的垃圾填埋场中依次在不同的目标点在目标体积剂量进行处置的照射系统的控制参数。 该设备包括适于检测的目标区域的输入装置和用于检测所述目标区域的运动,一个评估装置,用于确定用于控制光束,控制参数,使得与所述控制参数的帮助下,一个光束在目标区域的运动能够被跟踪,并且其中 正交跟踪到波束方向,或者,在所述控制参数的确定目标区域的规定剂量分布被填埋,其特征在于,所述评估设备被设计成使得至少一个第一可选择的控制参数被确定为在控制参数的确定,使得光束跟随目标区域的运动仅是 至少一个第一可选择的控制参数,并表示所述束的能量调制一个另外的控制参数,来确定,其中,确定所述至少一个第一控制参数和所述下进一步控制参数 进行考虑到运动中的光束方向跟踪。
    • 8. 发明申请
    • DEPOSITION EINER SOLLDOSISVERTEILUNG IN EINEM ZYKLISCH BEWEGTEN ZIELGEBIET
    • 沉积在一个周期MOVING目标区域的目标剂量分布
    • WO2009149882A1
    • 2009-12-17
    • PCT/EP2009/004096
    • 2009-06-08
    • GSI HELMHOLTZZENTRUM FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG GMBHSIEMENS AGBERT, ChristophRIETZEL, Eike
    • BERT, ChristophRIETZEL, Eike
    • A61N5/10
    • A61N5/10A61N5/1043A61N5/1044A61N5/1065A61N2005/1087
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Deposition einer Solldosisverteilung in einem zyklisch bewegten Zielgebiet (102) durch Mehrfachbestrahlung mit einem Rasterpunkte eines Zielrasters anfahrenden Strahl (105) in zumindest zwei Durchgängen, bei dem in jedem der Durchgänge Rasterpunkte aufeinanderfolgend angefahren werden. Sie ist gekennzeichnet durch die Schritte: Festlegen der maximal tolerierten lokalen Abweichung von der Solldosisverteilung, Desynchronisieren des Ablaufs der Bestrahlung und der zyklischen Bewegung des Zielgebiets (102), und Aufteilen der Bestrahlung des Zielgebiets in hinreichend viele Durchgänge, so dass lokale Abweichungen von der Solldosisverteilung höchstens der maximal tolerierten Abweichung von der Solldosisverteilung entsprechen. Weiter betrifft die Erfindung auch eine Bestrahlungsvorrichtung zur Durchführung eines solchen Verfahrens und ein Verfahren zur Bestimmung der Steuerungsparameter für diese Bestrahlungsvorrichtung.
    • 本发明涉及一种用于在周期性运动对象区域(102)中的期望的剂量分布由多个照射在至少两次通过一个目标网格anfahrenden束(105)的网格点的沉积,其中所述网格点在每个通道依次接近的过程。 它的特征在于以下步骤:确定耐受局部偏离期望的剂量分布中的最大,去同步照射的过程中,与目标区(102)的循环运动,并把该目标区域的照射在足够数量的通道,以便从所希望的剂量分布的局部偏差 至多最大耐受分别从期望的剂量分布偏差。 此外,本发明还涉及一种照射装置,用于执行这样的方法,以及用于确定该照射装置的控制参数的方法。
    • 9. 发明申请
    • BESTRAHLUNGSANLAGE UND STEUERUNGSVERFAHREN ZUM STEUERN DERSELBEN
    • 辐射系统及控制方法控制同一
    • WO2012143134A1
    • 2012-10-26
    • PCT/EP2012/001705
    • 2012-04-20
    • GSI HELMHOLTZZENTRUM FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG GMBHBERT, ChristophRIETZEL, Eike
    • BERT, ChristophRIETZEL, Eike
    • A61N5/10
    • H01J37/304A61N5/1044A61N5/1067A61N2005/1087H01J37/317
    • Die Erfindung betrifft eine Bestrahlungsanlage mit einer Beschleunigereinrichtung mit einem Teilchenbeschleuniger, mit dem Partikel beschleunigbar sind und mit dem ein Partikelstrahl erzeugbar ist, wobei der Partikelstrahl eine Strahlintensität aufweist, mit einer Strahlmonitoreinrichtung zum Messen einer Strahlqualität des extrahierten Partikelstrahls, wobei die Strahlmonitoreinrichtung mehrere einstellbare Messbereiche aufweist, mit einer Steuerungseinrichtung zur Steuerung der Beschleunigereinrichtung und der Strahlmonitoreinrichtung, wobei der Messbereich der Strahlmonitoreinrichtung abhängig von einer Strahlintensität des Partikelstrahls und/oder auf eine zu applizierende Teilchenzahl einstellbar ist. Bei dem Steuerungsverfahren zum Steuern einer Bestrahlungsanlage wird ein Partikelstrahls mit einer Strahlintensität erzeugt, eine Strahlqualität des Partikelstrahls mit einer Strahlmonitoreinrichtung überwacht, wobei einer von mehreren einstellbaren Messbereichen ausgewählt wird, wobei der Messbereich der Strahlmonitoreinrichtung abhängig von der Strahlintensität des Partikelstrahls und/oder abhängig von einer zu applizierende Teilchenzahl eingestellt wird.
    • 本发明涉及与具有粒子加速器的加速装置中的照射系统,被加速与颗粒,并产生其中粒子束,其中所述粒子束具有束强度,射线监控装置,用于测量所提取的粒子束的束质量,其中,所述光束监视装置多个可调节的范围包括 ,有用于控制油门装置和所述束的监测设备,其中所述光束显示器的测量范围装置的控制装置根据颗粒束和/或上的粒子的束强度被施加是可调节的。 在用于控制照射系统的控制方法,与光束强度生成粒子束监视与一个光束监视装置的粒子束的束质量,其特征在于,一个由多个可调节的范围内,光束监视装置的测量范围,这取决于粒子束的束强度和/或依赖于所选择的 被设置为施加的颗粒。