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1. 发明专利

NO20024641A 未知
公开(公告)号：NO20024641A
公开(公告)日：2002-10-29
申请号：NO20024641
申请日：2002-09-27
申请人： IT CLEAN I AASTORP AB
发明人： HOLM BERTH
IPC分类号： A47L11/40 , B08B13/00 , A47L
CPC分类号： A47L11/4011 , B08B13/00

2. 发明专利

TW201705241A 異物去除裝置、異物去除方法、剝離裝置、異物檢測方法及異物檢測裝置审中-公开
简体标题：异物去除设备、异物去除方法、剥离设备、异物检测方法及异物检测设备
公开(公告)号：TW201705241A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105110586
申请日：2016-04-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：平河修 , HIRAKAWA, OSAMU , 大慶崇 , OTSUKA, YOSHITAKA
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/66 , B08B5/00 , G01N21/88
CPC分类号： B08B7/04 , B08B3/02 , B08B5/02 , B08B5/04 , B08B13/00 , B08B15/04 , B08B2203/0229 , H01L21/67028 , H01L21/67253 , H01L21/67288
摘要：去除附著於吸附保持部之保持面的異物。實施形態的異物去除裝置，係具備有檢測部、去除部及移動機構。檢測部，係檢測附著於吸附保持基板之吸附保持部之保持面的異物。去除部，係使用流體去除附著於保持面的異物。移動機構，係使檢測部及去除部移動。又，實施形態的異物去除裝置，係具備有噴出部與吸引部。噴出部，係對吸附保持基板之吸附保持部的保持面噴出流體。吸引部，係配置為鄰接於噴出部，吸引流體。而且，實施形態之的異物檢測方法，係包含有投光工程與受光工程。投光工程，係從傾斜方向對吸附保持基板之吸附保持部的保持面照射光。受光工程，係從傾斜方向對保持面接收照射至保持面之光的反射光。
简体摘要：去除附着于吸附保持部之保持面的异物。实施形态的异物去除设备，系具备有检测部、去除部及移动机构。检测部，系检测附着于吸附保持基板之吸附保持部之保持面的异物。去除部，系使用流体去除附着于保持面的异物。移动机构，系使检测部及去除部移动。又，实施形态的异物去除设备，系具备有喷出部与吸引部。喷出部，系对吸附保持基板之吸附保持部的保持面喷出流体。吸引部，系配置为邻接于喷出部，吸引流体。而且，实施形态之的异物检测方法，系包含有投光工程与受光工程。投光工程，系从倾斜方向对吸附保持基板之吸附保持部的保持面照射光。受光工程，系从倾斜方向对保持面接收照射至保持面之光的反射光。

3. 发明专利

TW201422320A 光罩之吹氣清潔系統及其清潔方法审中-公开
简体标题：光罩之吹气清洁系统及其清洁方法
公开(公告)号：TW201422320A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW101145299
申请日：2012-12-03
申请人：家登精密工業股份有限公司 , GUDENG PRECISION INDUSTRAL CO, LTD
发明人：潘詠晉 , PAN, YUNG CHIN , 楊宗益 , YANG, TSUNG YI , 賴良瑋 , LAI, LIANG WEI
IPC分类号： B08B5/02 , G06K9/62
CPC分类号： B08B5/02 , B08B13/00 , G03F1/82
摘要：一種光罩之吹氣清潔系統，用以清潔一光罩，該光罩之吹氣清潔系統包括一影像擷取模組、一辨識選取暨控制模組、以及一風刀裝置。影像擷取模組用以擷取該光罩的影像，並劃分成多個區域；辨識選取暨控制模組用以辨識該光罩上待清潔的該區域並儲存一待清潔資料庫；風刀裝置具有至少一風刀模組，用以接收該待清潔資料庫，並控制該風刀模組依該待清潔資料庫吹拂該光罩的該些待清潔區域。本發明另提供一種光罩之吹氣清潔方法。
简体摘要：一种光罩之吹气清洁系统，用以清洁一光罩，该光罩之吹气清洁系统包括一影像截取模块、一辨识选取暨控制模块、以及一风刀设备。影像截取模块用以截取该光罩的影像，并划分成多个区域；辨识选取暨控制模块用以辨识该光罩上待清洁的该区域并存储一待清洁数据库；风刀设备具有至少一风刀模块，用以接收该待清洁数据库，并控制该风刀模块依该待清洁数据库吹拂该光罩的该些待清洁区域。本发明另提供一种光罩之吹气清洁方法。

4. 发明专利

TW201010659A 用以清潔建築物之方法及系統 A METHOD AND SYSTEM FOR CLEANING BUILDINGS 审中-公开
简体标题：用以清洁建筑物之方法及系统 A METHOD AND SYSTEM FOR CLEANING BUILDINGS
公开(公告)号：TW201010659A
公开(公告)日：2010-03-16
申请号：TW098117388
申请日：2009-05-25
申请人：阿里伊布拉罕G M , 納賈菲塞希德 , 法茲波瑪奇亞尼蒙迪 , 法茲波瑪奇亞尼阿里
发明人：阿里伊布拉罕G M , 納賈菲塞希德 , 法茲波瑪奇亞尼蒙迪 , 法茲波瑪奇亞尼阿里
IPC分类号： A47L , E04G
CPC分类号： E04G23/002 , B08B3/024 , B08B13/00
摘要：一種用於清潔建築物之方法及系統被提供。在該系統中，從高處跌落的危險被減少至最小。清潔建築物的所有階段都可從遠距及任何位置被操縱、指揮及控制。數個絞盤、鋼絲、某些型態的接頭、數個液體及氣體噴嘴、液體及氣體槽、一電腦，及由控制室控制的連接系統被使用於該系統中。
简体摘要：一种用于清洁建筑物之方法及系统被提供。在该系统中，从高处跌落的危险被减少至最小。清洁建筑物的所有阶段都可从远距及任何位置被操纵、指挥及控制。数个绞盘、钢丝、某些型态的接头、数个液体及气体喷嘴、液体及气体槽、一电脑，及由控制室控制的连接系统被使用于该系统中。

5. 发明专利

TW201737342A 利用低溫製程之原位ＥＵＶ集光器清洗审中-公开
简体标题：利用低温制程之原位ＥＵＶ集光器清洗
公开(公告)号：TW201737342A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106105268
申请日：2017-02-17
申请人：格羅方德半導體公司 , GLOBALFOUNDRIES US INC.
发明人：何思樂艾瑞克羅伯特 , HOSLER, ERIK ROBERT
IPC分类号： H01L21/3105
CPC分类号： B08B13/00 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70925
摘要：本發明揭示利用低溫製程及磁阱進行原位EUV收集器清洗的方法及裝置。實施例包括提供包括反射表面的光源收集器；向該收集器的表面施加冷卻劑，以加速該反射表面上的污染物的特性轉換；向該反射表面施加清潔劑，以去除該轉換後的污染物；以及將該去除的污染物移至遠離該反射表面的收集艙。
简体摘要：本发明揭示利用低温制程及磁阱进行原位EUV收集器清洗的方法及设备。实施例包括提供包括反射表面的光源收集器；向该收集器的表面施加冷却剂，以加速该反射表面上的污染物的特性转换；向该反射表面施加清洁剂，以去除该转换后的污染物；以及将该去除的污染物移至远离该反射表面的收集舱。

6. 发明专利

TW201725078A 處理半導體基材的設備审中-公开
简体标题：处理半导体基材的设备
公开(公告)号：TW201725078A
公开(公告)日：2017-07-16
申请号：TW105131928
申请日：2016-10-03
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：徐暐智 , HSU, WEI CHIH , 莊凱麟 , CHUANG, KAI LIN , 簡淵基 , CHIEN, YUAN CHI , 楊政輝 , YANG, JENG HUEI , 劉俊秀 , LIU, JUN XIU
IPC分类号： B08B13/00 , B08B3/04 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/67 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/02057 , B08B3/04 , B08B13/00 , B08B17/00 , H01L21/30604 , H01L21/67017 , H01L21/67057 , H01L21/67086 , H01L21/68735
摘要：一種處理半導體基材之設備包括夾盤、固持器、液體供應系統以及正壓單元。夾盤具有主表面以及形成於主表面上之至少一孔。固持器能夠將半導體基材保持在主表面上方的位置處。液體供應系統經配置以經由孔提供液體膜層至主表面上。正壓單元經配置用於提供氣流至夾盤上方的空間。本文亦揭示一種處理半導體基材的方法。
简体摘要：一种处理半导体基材之设备包括夹盘、固持器、液体供应系统以及正压单元。夹盘具有主表面以及形成于主表面上之至少一孔。固持器能够将半导体基材保持在主表面上方的位置处。液体供应系统经配置以经由孔提供液体膜层至主表面上。正压单元经配置用于提供气流至夹盘上方的空间。本文亦揭示一种处理半导体基材的方法。

7. 发明专利

TW201631680A 負荷測定裝置以及負荷測定方法审中-公开
简体标题：负荷测定设备以及负荷测定方法
公开(公告)号：TW201631680A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW105105095
申请日：2016-02-22
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：田中英明 , TANAKA, HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01L1/048 , B08B1/04 , B08B13/00 , G01L1/04 , G01L5/0085 , H01L21/67046
摘要：本發明提供一種能夠準確地測定施加於晶圓等基板的輥型清洗件的負荷的負荷測定裝置。負荷測定裝置具備：防水型負荷元(30)，該防水型負荷元(30)具有與基板(W)的直徑相同的長度的負荷測定面(30a)以及支承防水型負荷元(30)的基台板(31)。該負荷測定裝置與基板(W)相同地安設於基板清洗裝置，通過防水型負荷元(30)測定從基板清洗裝置的輥型清洗件(7)承受的負荷。
简体摘要：本发明提供一种能够准确地测定施加于晶圆等基板的辊型清洗件的负荷的负荷测定设备。负荷测定设备具备：防水型负荷元(30)，该防水型负荷元(30)具有与基板(W)的直径相同的长度的负荷测定面(30a)以及支承防水型负荷元(30)的基台板(31)。该负荷测定设备与基板(W)相同地安设于基板清洗设备，通过防水型负荷元(30)测定从基板清洗设备的辊型清洗件(7)承受的负荷。

8. 发明专利

TW200950893A 清洗海綿滾輪用的核心 CORE FOR A CLEANING SPONGE ROLLER 审中-公开
简体标题：清洗海绵滚轮用的内核 CORE FOR A CLEANING SPONGE ROLLER
公开(公告)号：TW200950893A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW097146615
申请日：2008-12-01
申请人：艾翁股份有限公司
发明人：大廣永世 , 川口覺嗣 , 宮地宏
IPC分类号： B08B
CPC分类号： B08B1/04 , B08B13/00
摘要：一種清洗海綿滾輪用的核心，用於解決當在核心上被覆海綿滾輪而用於清洗時，隨著時間的流逝，海綿滾輪在旋轉方向（圓周方向）上發生扭曲及在軸方向上發生偏離，由此而使清洗不均勻之問題。該清洗海綿滾輪用的核心是一種具有沿著軸方向延伸的內孔（2）及從該內孔而與圓周外表面連通的多個小孔（3）之清洗海綿滾輪用的大致圓筒形的核心（1），其特徵在於，在該核心的外表面上，沿著圓周方向設置有多個軸方向細長的突起（4），且該突起（4）的從與軸方向成直角的方向所觀察的橫斷面具有凹凸（5A、5B）。
简体摘要：一种清洗海绵滚轮用的内核，用于解决当在内核上被覆海绵滚轮而用于清洗时，随着时间的流逝，海绵滚轮在旋转方向（圆周方向）上发生扭曲及在轴方向上发生偏离，由此而使清洗不均匀之问题。该清洗海绵滚轮用的内核是一种具有沿着轴方向延伸的内孔（2）及从该内孔而与圆周外表面连通的多个小孔（3）之清洗海绵滚轮用的大致圆筒形的内核（1），其特征在于，在该内核的外表面上，沿着圆周方向设置有多个轴方向细长的突起（4），且该突起（4）的从与轴方向成直角的方向所观察的横断面具有凹凸（5A、5B）。

9. 发明申请

US20190201942A1 Flexible Parts Fixturing for Automated Parts Washing 审中-公开
公开(公告)号：US20190201942A1
公开(公告)日：2019-07-04
申请号：US16297183
申请日：2019-03-08
申请人： Woodward, Inc.
发明人： Shannon P. Milligan , Mark E. McGinty
IPC分类号： B08B3/04 , B08B13/00 , B08B11/02
CPC分类号： B08B3/045 , B08B3/04 , B08B11/02 , B08B13/00
摘要： The subject matter of this specification can be embodied in, among other things, a parts holder assembly that includes a basket having a basket floor and one or more posts each attached to the basket floor at a proximal post end and extending away from the basket floor at a distal post end, a retaining device having a frame having an open interior frame space, one or more mounting devices, each of the mounting devices being adapted to constrain the frame at a selected position along a length of a corresponding one of the posts between the proximal post end and the selected position, and a web having at least one outer edge attached to the frame and a plurality of cords extending across the open interior frame space.

10. 发明申请

US20180354000A1 WASHING SYSTEM OF MACHINE TOOL 审中-公开
公开(公告)号：US20180354000A1
公开(公告)日：2018-12-13
申请号：US16108252
申请日：2018-08-22
申请人： FANUC CORPORATION
发明人： Ryuji Takikawa
IPC分类号： B08B3/02 , B25J11/00 , B23Q17/24 , B23Q11/00 , B05B15/60 , B08B5/02 , B05B13/04 , B05B12/12 , B08B13/00
CPC分类号： B08B3/024 , B05B12/122 , B05B13/0431 , B05B15/60 , B08B5/02 , B08B13/00 , B23Q11/005 , B23Q17/249 , B25J11/0085
摘要： A washing system that can reliably remove chips attached to the surface of a jig on which a workpiece is placed. The washing system includes a nozzle, a manipulator for moving the nozzle, an imaging part for capturing an image of a region on which a workpiece is placed, a chip detecting part for detecting a chip in the region based on the image captured by the imaging part, a arrangement determining part for determining a position and posture of the nozzle when the fluid is sprayed to the chip, a manipulator controlling part for controlling the manipulator so that the nozzle is located at the determined position and posture, and a fluid supplying part for injecting, through the nozzle, the fluid that has been supplied to the nozzle.

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