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1. 发明申请

WO2021017086A1 一种工业机器人打磨抛光设备及其使用方法审中-公开
公开(公告)号：WO2021017086A1
公开(公告)日：2021-02-04
申请号：PCT/CN2019/103558
申请日：2019-08-30
申请人：南京昱晟机器人科技有限公司
发明人：孔坚斌 , 李武 , 李玲
IPC分类号： B24B41/00 , B24B21/00 , B24B27/00 , B24B41/02 , B24B29/02 , B24B47/04 , B24B41/06 , B24B47/12
摘要：一种工业机器人打磨抛光设备，包括：工作台（1）；打磨机构（2）固定在工作台（1）的顶部，以用于对金属件进行打磨；抛光机构（3）固定在工作台（1）的顶部且位于打磨机构（2）的右侧，以用于对金属件进行抛光；上料机构（4）固定在工作台（1）的顶部，以用于对金属件进行放置和固定；移料机构（5）固定在工作台（1）的顶部，以用于带动金属件在打磨机构（2）、抛光机构（3）和上料机构（4）之间进行移动。

2. 发明申请

WO2005105356A3 ELECTROCHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESS AND APPARATUS 审中-公开
标题翻译：电化学机械平面化方法及装置
公开(公告)号：WO2005105356A3
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：PCT/US2005014040
申请日：2005-04-22
申请人： ASM NUTOOL INC , BASOL BULENT M , TALIEH HOMAYOUN
发明人： BASOL BULENT M , TALIEH HOMAYOUN
IPC分类号： B23H7/26 , B23H3/00 , B23H5/08 , B23H7/12 , B24B21/04 , B24B21/22 , B24B37/04 , B24B47/04 , C25D5/02 , C25D5/06 , C25D5/22 , C25D7/12 , C25F3/30 , C25F7/00 , H01L21/288 , H01L21/321 , H01L21/768 , H05K3/07
CPC分类号： C25F7/00 , B23H5/08 , B24B21/04 , B24B21/22 , B24B37/04 , B24B37/205 , B24B47/04 , C25D5/02 , C25D5/06 , C25D5/22 , C25D7/123 , H01L21/2885 , H01L21/3212 , H01L21/76877
摘要： A system for electrochemical mechanical polishing of a conductive surface of a wafer is provided. The system includes a wafer holder to hold the wafer and a belt pad disposed proximate to the wafer to polish the conductive surface. Application of a potential difference between the belt pad and the conductive surface result in material removal from the conductive surface. Electrical contact to the surface is provided through either contacts embedded in the belt pad or contacts placed adjacent the belt pad.
摘要翻译：提供了一种用于晶片的导电表面的电化学机械抛光的系统。该系统包括用于保持晶片的晶片保持器和靠近晶片设置的用于抛光导电表面的带垫。皮带垫和导电表面之间的电位差的施加导致从导电表面去除材料。通过嵌入在皮带垫中的触点或邻近皮带垫的触点提供与表面的电接触。

3. 发明申请

WO2020051485A1 COMPACT MATERIAL REMOVAL MACHINES 审中-公开
公开(公告)号：WO2020051485A1
公开(公告)日：2020-03-12
申请号：PCT/US2019/049996
申请日：2019-09-06
申请人： ILLINOIS TOOL WORKS INC.
发明人： KORDUS, Bryan John
IPC分类号： B24B41/02 , B24B41/04 , B24B47/04 , B24B47/12 , B24B47/20 , B24B27/00 , B24B27/06 , B23D47/12
摘要： Apparatus, assemblies, and/or systems related to material removal are disclosed, such as saws, grinders, polishers, and/or more general material preparation and/or testing machines, for example. A material removal system may include a material removal machine that is configured to move via a material removal assembly. The material removal machine also includes a material removal tool configured to spin on a spindle at the urging of a tool actuator. The tool actuator is integrated into the material removal machine, such that the tool actuator moves along with the material removal machine.

4. 发明申请

WO2011092745A1 等速往復直線運動装置および光ファイバー研磨装置审中-公开
标题翻译：恒定速度回转线性运动装置和光纤抛光装置
公开(公告)号：WO2011092745A1
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：PCT/JP2010/000545
申请日：2010-01-29
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 , 杉田尚樹 , 安東和俊 , 木村敏典
发明人：杉田尚樹 , 安東和俊 , 木村敏典
IPC分类号： B24B19/00 , B24B47/04 , B24B47/20
CPC分类号： B24B19/226
摘要：　第１の方向に延在する案内面（１５ａ）を有する案内部材（１５）の案内面（１５ａ）に沿って移動可能なスライダー（１６）を往復運動させるためのスライダー駆動手段（１７）を具え、このスライダー駆動手段（１７）が、駆動モーター（４９）と、この駆動モーター（４９）により第１の方向と直交する軸線回りに駆動回転する回転部材（５１）と、この回転部材（５１）の回転軸線と平行に回転部材（５１）に突設された偏心ピン（５２）と、第１の方向および回転部材（５１）の回転軸線に対して直交する第２の方向に延在するようにスライダー（１６）に形成されて偏心ピン（５２）が摺動自在に嵌合する案内溝（５３）とを有する本発明の往復直線運動装置は、第１の方向に沿ったスライダー（１６）の直線移動速度がその往復動端を除いて一定となるように、回転部材（５１）の回転速度を制御する手段（５８）を具える。
摘要翻译：往复式线性运动装置配备有滑块驱动装置（17），其确保可沿着具有引导表面（15a）的引导构件（15）的引导表面（15a）移动的滑块（16）的往复运动，其沿第一方向延伸。该滑块驱动装置（17）包括：驱动马达（49）; 旋转构件（51），其由所述驱动马达（49）围绕与所述第一方向相交的轴线驱动; 偏心销（52），其以与该旋转构件（51）的旋转轴线平行的旋转构件（51）突出设置; 以及引导槽（53），偏心销（52）可以滑动地接合，并且以这样的方式形成在滑块（16）上，以便在与轴线相交的第一方向和第二方向上延伸旋转构件（51）的旋转。本发明的往复直线运动装置装备有用于控制旋转构件（51）的旋转速度的装置（58），使得滑块（16）在第一方向上的线速度恒定，除了在互惠运动的结尾。

5. 发明申请

WO00032356A1 REVERSE LINEAR POLISHER WITH LOADABLE HOUSING 审中-公开
标题翻译：反向线性抛光机带有可负载的外壳
公开(公告)号：WO00032356A1
公开(公告)日：2000-06-08
申请号：PCT/US1999/027477
申请日：1999-11-19
IPC分类号： B24B21/04 , B24B37/04 , B24B47/04 , H01L21/304
CPC分类号： B24B21/04 , B24B37/04 , B24B47/04
摘要： The present invention is directed to a method and apparatus (2) for polishing a surface of a semiconductor wafer (18) using a pad (6) moveable in both forward and reverse directions. In both VLSI and ULSI applications, polishing the wafer surface (18) to complete flatness is highly desirable. The forward and reverse movement of the polishing pad (16) provides superior planarity and uniformity to the surface of the wafer (18). The wafer surface is pressed against the polishing pad (6) as the pad moves in both forward and reverse directions while polishing the wafer (18) surface. During polishing, the wafer (18) is supported by a wafer housing (4) having a novel wafer loading and unloading method.
摘要翻译：本发明涉及一种用于使用可沿前后方向移动的衬垫（6）来研磨半导体晶片（18）的表面的方法和装置（2）。在VLSI和ULSI应用中，抛光晶片表面（18）以完成平坦度是非常需要的。抛光垫（16）的正向和反向移动为晶片（18）的表面提供了优异的平面性和均匀性。当抛光晶片（18）表面时，焊盘在正向和反向两个方向上移动时，将晶片表面压在抛光垫（6）上。在抛光期间，晶片（18）由具有新颖的晶片装载和卸载方法的晶片壳体（4）支撑。

6. 发明公开

CN118003196A 一种曲面轮廓随形自动打磨臂及打磨装置审中-公开
公开(公告)号：CN118003196A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202410328625.4
申请日：2024-03-21
申请人：中国船舶集团有限公司第七一三研究所
发明人：袁伟 , 王廷军 , 裴大石
IPC分类号： B24B19/00 , B24B41/04 , B24B47/22 , B24B47/12 , B24B47/04
摘要：本发明涉及用于磨削或抛光的装置技术领域，尤其涉及一种曲面轮廓随形自动打磨臂及打磨装置。一种曲面轮廓随形自动打磨臂，包括打磨臂安装架，打磨臂安装架包括打磨安装座，打磨安装座上转动装配有第一连杆，第一连杆上铰接有用于装配打磨头的第二连杆，打磨臂安装架上设置有驱使第二连杆绕其铰接轴方向往复运动的往复驱动机构，第二连杆上设置有平行于其铰接轴方向的导向销，打磨安装架上设置有约束组件，约束组件具有用于符合曲面轮廓工件设计要求的打磨导轨，导向销与打磨导轨导向配合用于约束打磨头仅沿着曲面轮廓工件的标准打磨轨迹进行打磨，保持稳定的打磨状态，使得打磨精度更高，提高打磨效果。

7. 发明公开

CN118003195A 一种汽车轮毂抛光设备审中-公开
公开(公告)号：CN118003195A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202410247830.8
申请日：2024-03-05
申请人：金华涂驰汽车服务有限公司
发明人：朱戈 , 黄燕
IPC分类号： B24B19/00 , B24B27/00 , B24B47/04 , B24B47/12 , B24B47/22 , B24B9/04 , B24B55/06 , B24B55/12 , B24B55/00
摘要：本发明涉及抛光设备领域，且公开了一种汽车轮毂抛光设备，包括抛光机，抛光机的内部底端设有底座，底座的顶部设有转盘，底座的内部设有间隙转动机构，转盘的顶部环绕设置有四个转轮，四个转轮的内部分别设置有固定机构，抛光机的内部一端设有安装柱，抛光机的内部另一端设有固定板，抛光机的内部一侧设有安装块，固定板的内部设有去毛刺装置，安装块的底部设有抛光装置，安装柱的底部设有清洁装置，该发明集多种工序为一体，避免浪费时间和人力，可以自动快速的对轮毂进行处理，提高了生产加工的效率。

8. 发明授权

CN117900952B 一种带有切换检测功能的光学玻璃抛光夹具有权
公开(公告)号：CN117900952B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202410307988.X
申请日：2024-03-18
申请人：内蒙古工业大学
发明人：邹云鹤 , 王宁飞 , 武建新 , 秦建国 , 李宗学 , 吕贺 , 王琪冰 , 袁言杰 , 葛佳
IPC分类号： B24B13/00 , B24B13/005 , B24B49/02 , B24B47/04
摘要：本发明公开了一种带有切换检测功能的光学玻璃抛光夹具，包括底板、工作台，工作台安装在底板上，工作台设置有两个，两个工作台旁分别设置有抛光机构和抛光度检测机构，工作台旁设置有移动组件，移动组件上安装有夹持机构，夹持机构上夹持光学玻璃，通过移动机构带动光学玻璃在两个工作台之间切换进行抛光和检测。本发明夹具可以适应异形光学玻璃的形状，从而更好地夹紧光学玻璃，保证光学玻璃在抛光过程中的加持稳定性，从而达到良好的抛光效果，同时，夹具可以进行移动，带动光学玻璃切换至检测端进行抛光度检测，无需人工手动拆卸，在节约了时间的同时避免了光学玻璃在拆卸过程中的损坏。

9. 发明授权

CN116475886B 一种角度可调节的汽车零部件用打磨装置及调节方法有权转让
公开(公告)号：CN116475886B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202310445721.2
申请日：2023-04-24
申请人：佛山卓普汽车部件有限公司
发明人：祁玉玲
IPC分类号： B24B19/00 , B24B41/04 , B24B47/12 , B24B47/04 , B24B47/22 , B24B41/06 , B24B55/06 , B24B55/12 , B24B55/00
摘要：本发明涉及汽车零部件技术领域，且公开了一种角度可调节的汽车零部件用打磨装置，包括处理箱、支撑腿，所述处理箱内部设置有调节机构，所述调节机构包括有电机、连接板一、移动板一、夹持板、转动杆一，所述电机一端与处理箱内壁固定连接，所述电机输出端与连接板一一侧固定连接，所述连接板一另一侧与移动板一一端滑动连接，所述移动板一另一端与夹持板一侧固定连接，所述转动杆一一端通过轴承一与处理箱内壁转动连接，实现了能够将不同规格的汽车零部件进行夹持固定，解决了通过大量组件实现角度调节，在实际使用时，太过繁琐的问题，提高了汽车零部件打磨装置的打磨效率，更加方便进行维修，降低了操作人员的工作难度。

10. 发明公开

CN117984207A 一种用于铝合金结构件精密处理的工作台审中-公开
公开(公告)号：CN117984207A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202410308227.6
申请日：2024-03-18
申请人：徐州市福日威科技有限公司
发明人：曾宪金 , 吴剑治 , 吴婷婷
IPC分类号： B24B27/02 , B24B47/06 , B24B41/06 , B24B47/04 , B24B47/12 , B24B47/22
摘要：本发明公开了一种用于铝合金结构件精密处理的工作台，包括有加工台，所述加工台的底部边角处设置有支脚，位于所述加工台的内部中间开设有腔槽，且腔槽中设置有加工座板，位于所述加工台的底部设置有支座框，所述支座框的内部设置有液压缸一，位于所述液压缸一的输出端连接加工座板，靠近所述腔槽的两侧对称设置有铸台，所述铸台上设置有液压缸二，所述液压缸二的输出端连接有横架板，位于所述横架板的中间位置处设有打磨结构，所述加工座板的中心处设置有固定结构，位于所述加工台的两侧对称设置有导轨，所述导轨上设置有可滑动的冲孔加工结构。本发明可以进行快速的对铝合金结构件进行精密加工处理，整体效率较高。

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