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    • 2. 发明公开
    • 制造基于栅控横向晶闸管的随机存取存储器(GLTRAM)单元的方法
    • CN102089881A
    • 2011-06-08
    • CN200980119832.2
    • 2009-05-28
    • 格罗方德半导体公司
    • H-J·曹
    • H01L27/102G11C11/39H01L21/332H01L29/74H01L27/06
    • H01L27/1027G11C11/39H01L27/0817
    • 提供一种用以制造基于栅控横向晶闸管存储器装置(gltram)的方法。设置半导体层(406),该半导体层(406)中包含第一导电性类型的第一、第二、第三和第四阱区(463、471、486、493)。第一栅极结构(465/408)覆盖该第一阱区(463),第二栅极结构(475/408)覆盖该第二阱区(471),第三栅极结构(485/408)覆盖该第三阱区(486)且与该第二栅极结构(475/408)成为一体,且第四栅极结构(495/408)覆盖该第四阱区(493)。形成相邻于该第一栅极结构(465/408)的第一侧壁(414)与相邻于第二到第四栅极结构(475/408、485/408、495/408)的侧壁(412、413、416、417、418、419)的侧壁间隔件(467)。此外,形成覆盖该第一阱区(463)的一部分(468)与该第一栅极结构(465/408)的一部分的绝缘间隔块(469)。该绝缘间隔块(469)相邻于该第一栅极结构(465/408)的第二侧壁(415)。形成相邻于该第一栅极结构(465/408)的第一源极区(472),形成在该第一和第二栅极结构(465/408、475/408)之间的公共漏极/阴极区(474/464),形成相邻于该第三栅极结构(485/408)的第二源极区(482),形成在该第三和第四栅极结构(485/408、495/408)之间的公共漏极/源极区(484/492),并形成相邻于该第四栅极结构(495/408)的漏极区(494)。形成延伸至相邻于在该第一栅极结构(465/408)的该绝缘间隔块(467)之下的该第一阱区(463)中的第一基极区(468),并形成延伸至相邻于该第一基极区(468)的该第一阱区(463)中的该第一阱区(463)中的阳极区(466)。