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1. 发明专利

JP6635492B1 基板回転装置有权
公开(公告)号：JP6635492B1
公开(公告)日：2020-01-29
申请号：JP2019188681
申请日：2019-10-15
申请人：サンテック株式会社
发明人：上原昇
IPC分类号： C23C14/50
摘要：【課題】均一な薄膜を形成すること。【解決手段】基板回転装置100は、主回転機構150と、副回転機構171,175,179と、ガイド構造137Aとを備える。主回転機構は、第一の回転軸を中心に回転する。主回転機構は、副回転機構を備える。副回転機構は、主回転機構の回転に伴って第一の回転軸の周りを公転し、第二の回転軸を中心に自転する。第二の回転軸は、第一の回転軸に対する径方向に変位する。ガイド構造は、第一の回転軸に対する周方向に延びる接触面137Bを有する。ガイド構造は、径方向における第二の回転軸の変位を制御し、接触面と副回転機構とが接触するとき、副回転機構を接触面に沿った軌道で公転運動させる。【選択図】図2

2. 发明专利

JP2021063266A 基板回転装置有权
公开(公告)号：JP2021063266A
公开(公告)日：2021-04-22
申请号：JP2019188681
申请日：2019-10-15
申请人：サンテック株式会社
发明人：上原昇
IPC分类号： G02B1/115 , C23C14/50
摘要：【課題】均一な薄膜を形成すること。【解決手段】基板回転装置100は、主回転機構150と、副回転機構171,175,179と、ガイド構造137Aとを備える。主回転機構は、第一の回転軸を中心に回転する。主回転機構は、副回転機構を備える。副回転機構は、主回転機構の回転に伴って第一の回転軸の周りを公転し、第二の回転軸を中心に自転する。第二の回転軸は、第一の回転軸に対する径方向に変位する。ガイド構造は、第一の回転軸に対する周方向に延びる接触面137Bを有する。ガイド構造は、径方向における第二の回転軸の変位を制御し、接触面と副回転機構とが接触するとき、副回転機構を接触面に沿った軌道で公転運動させる。【選択図】図2

3. 发明专利

JP6142258B2 光ノード装置有权
公开(公告)号：JP6142258B2
公开(公告)日：2017-06-07
申请号：JP2012164555
申请日：2012-07-25
申请人：サンテック株式会社
发明人：上原昇 , 堀田雄二
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/31
CPC分类号： G02F1/1326 , G02F1/01 , G02F1/13 , G02F1/31 , G02F2203/585 , H04Q11/0005 , H04Q2011/0026

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