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1. 发明专利

JP6982701B2 静電チャック、真空処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6982701B2
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：JP2020559708
申请日：2019-08-08
申请人：株式会社アルバック
发明人：酒田現示 , 横尾秀和
IPC分类号： H01L21/3065 , C23C14/50 , H01L21/683

2. 发明专利

JP2021179010A プレートタイプ加熱装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021179010A
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：JP2021081626
申请日：2021-05-13
申请人：ケーエスエム・コンポーネント・カンパニー・リミテッド
发明人：金周煥
IPC分类号： C23C14/50 , H05B3/16 , H05B3/18 , H05B3/74 , H01L21/205 , H01L21/683 , C23C16/46
摘要：【課題】本発明はセラミックスプレート基材の亀裂及び損傷を効果的に防ぐことができるプレートタイプ加熱装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、セラミックスプレート基材;前記セラミックスプレート基材の内部または上部面に位置する熱線層;電源供給ライン;及び前記熱線層に位置し、熱線と電源供給ラインを連結するブリッジ;を含み、前記ブリッジは熱線と電源供給ラインとの間の最短距離を基準にして1.2倍〜5倍の長さのブリッジ素材を屈曲させて熱線と電源供給ラインを連結したことを特徴とするプレートタイプ加熱装置及びこれを含む気相蒸着装置を提供する。【選択図】図4

3. 发明专利

JP2021143377A 基板処理装置及び基板処理装置の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021143377A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：JP2020042207
申请日：2020-03-11
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：中川西学 , 武田聡
IPC分类号： F25B9/14 , C23C14/50
摘要：【課題】冷凍装置の昇降に当たり、圧縮装置と冷媒移送管との接続固定部の破損を抑制できる基板処理装置とその製造方法を提供すること。【解決手段】載置台とターゲットホルダとを内部に備えている処理容器と、前記載置台の下面との間に隙間を備えて配設され、冷凍機と前記冷凍機に積層される冷凍熱媒体とを備えている冷凍装置と、前記冷凍装置を昇降させる第一昇降装置と、前記冷凍装置の内部に設けられ、前記隙間に冷媒を供給する冷媒流路と、前記冷媒流路に供給される冷媒を圧縮する圧縮装置と、前記冷凍装置における前記冷媒流路の流路口である第一接続固定部と、前記圧縮装置に流体連通する第二接続固定部との双方に接続固定される冷媒移送管とを有し、前記冷媒移送管は、前記第一接続固定部と前記第二接続固定部との間において、少なくとも一部が湾曲した状態で延設し、前記第二接続固定部において前記冷媒移送管がサポート部材の上に載置されている。【選択図】図1

4. 发明专利

JP6936205B2 成膜装置及びこれを用いる有機EL表示装置の製造方法有权
公开(公告)号：JP6936205B2
公开(公告)日：2021-09-15
申请号：JP2018200297
申请日：2018-10-24
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：石井博 , 柏倉一史
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10 , H01L27/32 , H01L21/683 , G09F9/30 , G09F9/00 , C23C14/50

5. 发明专利

JP6935306B2 成膜装置有权
公开(公告)号：JP6935306B2
公开(公告)日：2021-09-15
申请号：JP2017220641
申请日：2017-11-16
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：西垣寿 , 加茂克尚 , 吉村浩司 , 田辺昌平 , 鈴木端生
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/683 , C23C14/34

6. 发明专利

JP2021109985A 基板ホルダ及び成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021109985A
公开(公告)日：2021-08-02
申请号：JP2020000464
申请日：2020-01-06
申请人：株式会社アルバック
发明人：林利典 , 岩井治憲 , 細田郁雄 , 柳坪秀典
IPC分类号： C23C14/50 , H01L21/683 , C23C14/34
摘要：【課題】歪曲された基板に形成される膜の厚みのばらつきを抑制する。【解決手段】基板ホルダは、中心軸を中心に回転する回転ドラム機構の側部に設置される。上記基板ホルダの少なくとも一部は、上記中心軸に向かって突き出るように歪曲する。上記基板ホルダが基板を保持する保持領域面と、上記保持領域面外の領域面とが連続面で構成される。上記回転ドラム機構が回転する回転方向において、上記側部に2つの上記基板ホルダが並設されたとき、一方の基板ホルダの両端部の中、他方の基板ホルダの側に位置する第1端部が他方の基板ホルダの両端部の中、上記一方の基板ホルダの側に位置する第2端部に沿うように並設される。【選択図】図1

7. 发明专利

JP6909399B2 基板保持装置有权
公开(公告)号：JP6909399B2
公开(公告)日：2021-07-28
申请号：JP2017050018
申请日：2017-03-15
申请人：日新電機株式会社
发明人：入澤一彦
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/04 , H01L21/683 , C23C14/50

8. 发明专利

JP2021101471A 成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021101471A
公开(公告)日：2021-07-08
申请号：JP2021027154
申请日：2021-02-24
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：塩入信朗
IPC分类号： C23C14/50 , H05B33/10 , H01L51/50 , H01L21/683
摘要：【課題】基板を押圧具に貼り付かせることなく、挟持状態から解放状態に移行できる基板挟持装置の提供。【解決手段】基板1を支持する支持具2と、この支持具2に対向配置され、前記基板1を押圧する押圧具3とを有し、前記支持具2と前記押圧具3とで前記基板1を挟持する基板挟持装置であって、前記押圧具3には、大押圧部4と、この大押圧部4より基板1との接触面積が小さい小押圧部5とを設け、前記大押圧部4には、前記小押圧部5を前記基板1側に付勢する小押圧部付勢機構を備える。【選択図】図1

9. 发明专利

JP6892713B2 基板の両側面部の蒸着装置有权
公开(公告)号：JP6892713B2
公开(公告)日：2021-06-23
申请号：JP2020074810
申请日：2020-04-20
申请人：テトスカンパニー,リミテッド
发明人：ソンクンホ
IPC分类号： C23C14/50 , H01L21/285 , C23C14/34

10. 发明专利

JP6881010B2 真空処理装置有权
公开(公告)号：JP6881010B2
公开(公告)日：2021-06-02
申请号：JP2017094939
申请日：2017-05-11
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：阪上博充
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31 , C23C14/56 , C23C14/50 , C23C16/54 , C23C16/44 , H01L21/677

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