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    • 10. 发明专利
    • フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
    • 玻璃基板和用于平板显示器及其制造方法
    • JPWO2013005680A1
    • 2015-02-23
    • JP2012530015
    • 2012-06-29
    • AvanStrate株式会社
    • 小山 昭浩昭浩 小山諭 阿美諭 阿美学 市川学 市川
    • C03C3/091C03B17/06C03B25/12G02F1/1333G09F9/00G09F9/30
    • C03C3/091C03B25/00
    • 本発明は、低粘特性温度が高く、かつ直接通電加熱による熔解において熔解槽熔損の問題の発生を回避しつつ製造が可能であるガラスからなる、p−Si・TFTフラットパネルディスプレイ用ガラス基板とその製造方法を提供する。本発明のガラス基板は、SiO252〜78質量%、Al2O33〜25質量%、B2O33〜15質量%、RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量) 3〜20質量%、R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量)0.01〜0.8質量%、Sb2O30〜0.3質量%、を含有し、As2O3は実質的に含有せず、質量比CaO/ROは0.65以上であり、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3は7〜30の範囲であり、かつ質量比(SiO2+Al2O3)/ROは5以上である。本発明のガラス基板の製造方法は、上記ガラス組成となるように調合したガラス原料を少なくとも直接通電加熱を用いて熔解して熔融ガラスを得る熔解工程と、前記熔融ガラスを平板状ガラスに成形する成形工程と、前記平板状ガラスを徐冷する徐冷工程と、を有する。
    • 本发明是由玻璃制成的,可以产生,同时避免低粘度特性温度的发生是高和熔化槽熔损通过电加热直接的p-Si TFT·平板玻璃的显示基板中熔化的问题 并提供制造其的方法。 本发明的玻璃基板,SiO252〜78质量%,Al2O33〜25重量%,B2O33〜15重量%,RO(其中,RO为MgO,CaO,SrO和BaO总共量)为3〜20重量%,R2 O( 然而,R2ö含有的Li 2 O,NA2 O和K 2 O的合计量)0.01〜0.8重量%,Sb2O30〜0.3质量%,一,三氧化二砷实质上不含有,质量比的CaO / RO是0.65或更大,质量 比(二氧化硅+氧化铝)/ B2O3是在7至30的范围内,重量比(二氧化硅+氧化铝)/ RO为5以上。 制造本发明的玻璃基板的方法,包括:获得通过熔化熔融玻璃的熔化工序中,将熔融玻璃由至少直接电加热玻璃原料,其是准备具有上述玻璃组合物来形成为平板玻璃 具有模制步骤,并缓慢冷却该板状玻璃缓慢冷却步骤。