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1. 发明专利

JP6024653B2 合成石英ガラスの熱処理装置、合成石英ガラスの熱処理方法、光学系の製造方法および露光装置の製造方法有权
标题翻译：合成石英玻璃的热处理装置，该制造方法的光学系统的合成石英玻璃制造过程的热处理方法及曝光装置
公开(公告)号：JP6024653B2
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：JP2013502412
申请日：2012-03-02
申请人：株式会社ニコン
发明人：原雄太
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03B25/02 , C03B29/02 , C03B32/02 , C04B35/64 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , G02B1/02 , Y10T29/49826

2. 发明专利

JP6020234B2 チタニア含有シリカガラス体の製造方法有权
标题翻译：用于制备含二氧化钛的石英玻璃体的方法
公开(公告)号：JP6020234B2
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：JP2013026521
申请日：2013-02-14
申请人：旭硝子株式会社
发明人：仁平敏史 , 小川朝敬 , 民辻慎哉 , 渡邉邦夫
IPC分类号： C03C3/06 , C03C3/112 , H01L21/027 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B25/02 , C03C3/06 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C2201/12 , C03C2201/42 , C03C2203/44 , C03C2203/54

3. 发明专利

JP5406439B2 Method for producing a chemical silica glass and chemical resistance silica glass 有权
公开(公告)号：JP5406439B2
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：JP2007217526
申请日：2007-08-23
申请人：信越石英株式会社
发明人：茂山形 , 友美笛吹
IPC分类号： C03B20/00 , C03C3/06
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B19/09 , C03B25/02 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03B2201/32 , C03C3/06 , C03C4/20 , C03C2201/23 , C03C2201/32 , Y02P40/57

4. 发明专利

JP2011526874A Method of making a molded glass article 有权
公开(公告)号：JP2011526874A
公开(公告)日：2011-10-20
申请号：JP2011516332
申请日：2009-06-30
申请人：コーニングインコーポレイテッド
发明人：ウクラインクジク，ルジェルカ
IPC分类号： C03B23/025
CPC分类号： C03B23/0357 , C03B23/0235 , C03B23/0258 , C03B23/0307 , C03B25/02 , C03B33/00 , C03B40/005 , C03C17/001 , C03C21/002 , C03C2217/78
摘要： In a method of making shaped glass articles, a glass sheet is placed on a mold having a shaping surface with a desired surface profile of a shaped glass article. The glass sheet is preferentially and rapidly heated by radiation while in the vicinity of the mold so that the mold remains substantially cooler than the glass sheet during the heating. The glass sheet is sagged onto the shaping surface of the mold so that at least a portion of the sagged sheet assumes the desired surface profile of the shaped glass article. After sagging and shaping, the sagged and shaped glass sheet is removed from the mold.

5. 发明专利

JP2010155778A High purity fused silica with low absolute refractive index 审中-公开
$High purity fused silica with low absolute refractive index$
标题翻译：具有低绝对折射率的高纯度二氧化硅
公开(公告)号：JP2010155778A
公开(公告)日：2010-07-15
申请号：JP2010000130
申请日：2010-01-04
申请人： Corning Inc , コーニングインコーポレイテッド
发明人： DURAN CARLOS , FIACCO RICHARD MICHAEL , HRDINA KENNETH E , SEMPOLINSKI DANIEL RAYMOND
IPC分类号： C03B20/00 , C03C3/06 , G02B1/02 , G03F1/14 , H01L21/027
CPC分类号： C03B25/02 , C03B19/1453 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03C3/06 , C03C2201/22 , C03C2201/23
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide fused silica glass which has excellent birefringence and resistance to laser damage. SOLUTION: The fused silica article has combined concentration of protium-containing hydroxy groups and deuteroxy groups less than about 10 ppm, and also has an absolute refractive index of less than or equal to 1.560835 at a wavelength of about 193.368 nm. A method of annealing fused silica glass is also provided. The method comprises the steps of: heating provided fused silica glass to a first temperature above the anneal point; cooling the fused silica glass to a second temperature below the strain point at a progressively decreasing cooling rate that is less than the anneal rate, wherein the progressively decreasing cooling rate is lower than the anneal rate of the fused silica glass; and cooling the fused silica glass from the second temperature to room temperature at a third cooling rate. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供具有优异的双折射和耐激光损伤的熔融石英玻璃。解决方案：熔融二氧化硅制品具有小于约10ppm的含腙羟基和氘代基的组合浓度，并且在约193.368nm的波长下具有小于或等于1.560835的绝对折射率。还提供了退火熔融石英玻璃的方法。该方法包括以下步骤：将熔融石英玻璃加热至退火点之上的第一温度; 以小于退火速率的逐渐降低的冷却速率将熔融石英玻璃冷却至低于应变点的第二温度，其中逐渐降低的冷却速率低于熔融石英玻璃的退火速率; 并以第三冷却速度将熔融石英玻璃从第二温度冷却至室温。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2009501452A Local surface annealing of the component for a substrate processing chamber 审中-公开
公开(公告)号：JP2009501452A
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：JP2008521576
申请日：2006-07-12
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
发明人：パドマゴパラクリシュナン , アシシュバハトナガー , ラックスマンムルゲシュ
IPC分类号： H01L21/3065 , C03B25/02 , H01L21/205
CPC分类号： C04B41/0036 , B23K26/0066 , C03B25/02 , H01L21/67115 , H01L21/6831 , Y10T428/131
摘要：基板処理チャンバコンポーネントは、アニールされたマイクロクラックを有する局所表面領域を備えた構造体を有している。アニールされたマイクロクラックによって、クラック伝播が減じ、破壊抵抗が増大する。一製造方法において、コンポーネントの構造体は、通常の手段により形成され、表面マイクロクラックをアニールするのに十分な時間にわたって、構造体の局所表面領域に、レーザービームが向けられる。

7. 发明专利

JP2007269613A Method of manufacturing glass optical device 有权
标题翻译：制造玻璃光学器件的方法
公开(公告)号：JP2007269613A
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：JP2006100819
申请日：2006-03-31
申请人： Hoya Corp , Hoya株式会社
发明人： SUU GAKUROKU , FUJIWARA YASUHIRO
IPC分类号： C03B11/00 , C03C3/068 , C03C3/14 , C03C3/15 , C03C3/155 , G02B1/02
CPC分类号： C03C17/3441 , C03B25/02 , C03C3/068 , C03C3/155 , C03C2218/154 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , Y02P40/57
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing mold press lens having high optical performance by preventing the appearance defect of the optical device comprising a high temperature vitreous material havng ≥50°C transition point Tg. SOLUTION: The method of manufacturing the glass optical device includes obtaining the optical device by press molding a glass base material having a core part comprising optical glass (first glass) having ≥550°C Tg and a covering part covering the surface of the core part and comprising second glass into a lens shape, annealing the resultant press molded product and removing the covering layer existing on the surface of the press molded product. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过防止包含高于+ 50℃转变点Tg的高温玻璃材料的光学装置的外观缺陷来制造具有高光学性能的模压透镜的方法。解决方案：制造玻璃光学器件的方法包括：通过压制成型具有包括具有≥550℃Tg的光学玻璃（第一玻璃）的核心部分的玻璃基材和覆盖表面的覆盖部分来获得光学器件芯部，并且将第二玻璃形成为透镜形状，对得到的压制成型品退火，除去存在于压制成型体的表面上的覆盖层。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2005247643A Annealing method and apparatus therefor 审中-公开
标题翻译：退火方法及其设备
公开(公告)号：JP2005247643A
公开(公告)日：2005-09-15
申请号：JP2004061419
申请日：2004-03-04
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： MIYAZAKI SUNAO
IPC分类号： G02B3/00 , B29C71/02 , C03B25/02
CPC分类号： C03B25/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that the annealing of an injection molded plastic made optical device, not to mention an optical glass to be a base material of a press molded glass made optical device requires time of approximately a half day to several weeks to remarkably deteriorate the efficiency.
SOLUTION: When the glass made or plastic made optical device W such as a lens, a prism or a grating is annealed to eliminate internal residual strain or to adjust to a desired optical characteristic such as a desired refractive index, the annealing time is shortened by carrying out the annealing under an pressurized atmosphere higher than atmospheric pressure to give compressive force to the optical device W.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题为了解决注射成型的塑料制造的光学器件的退火的问题，更不用说作为压制玻璃制成的光学器件的基材的光学玻璃需要大约半天的时间几个星期来显着降低效率。解决方案：当将诸如透镜，棱镜或光栅的玻璃制造或塑料制成的光学器件W退火以消除内部残余应变或调节到期望的光学特性，例如所需折射率时，退火时间通过在高于大气压的加压气氛下进行退火以对光学装置W施加压缩力来缩短。（C）2005，JPO和NCIPI

9. 发明专利

JP2018184312A 合成石英ガラスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018184312A
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：JP2017085708
申请日：2017-04-24
申请人：信越石英株式会社
发明人：内海学
IPC分类号： C03B20/00 , G02B1/00 , C03B25/02
CPC分类号： C03B25/02 , C03C3/06 , C03C23/007 , C03C2201/02 , C03C2203/52
摘要：【課題】徐冷を行う合成石英ガラスの大きさに応じて、適切な徐冷速度を選択することができ、該適切な徐冷速度で徐冷を行うことができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】母材である合成石英ガラスを熱処理炉に投入する工程と、前記熱処理炉内の温度を、徐冷点以上である所定の保持温度まで昇温させる工程と、前記保持温度で保持する工程と、前記合成石英ガラスを徐冷する工程と、合成石英ガラスを前記熱処理炉から搬出する工程とを含むアニール処理を含み、前記母材である合成石英ガラスの表面積をS[mm 2 ]とし、体積をV[mm 3 ]としたときのS/V[mm 2 /mm 3 ]の値、及び、前記徐冷を行った後の合成石英ガラスにおいて目標とする複屈折値Re[nm/cm]に基づいて、前記徐冷工程の徐冷速度v[℃/時間]を決定する工程を有し、該決定した徐冷速度vで前記徐冷工程を行う合成石英ガラスの製造方法。【選択図】図1

10. 发明专利

JPWO2016125787A1 ガラス基板、積層基板、およびガラス基板の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016125787A1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：JP2016573375
申请日：2016-02-02
申请人：旭硝子株式会社
发明人：周平野村 , 周平野村 , 和孝小野 , 和孝小野
IPC分类号： C03C3/091 , C03B25/00 , C03C3/085 , C03C3/087 , H01L21/52 , H01L23/15
CPC分类号： C03C3/091 , B32B7/12 , B32B9/041 , B32B17/064 , B32B2307/306 , B32B2383/00 , C03B17/067 , C03B25/02 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/093 , C03C4/082 , C03C4/085 , C03C17/25 , C03C27/00 , G02B5/208 , G02B5/223 , G02B5/226 , Y02P40/57
摘要：本発明は、シリコン基板とガラス基板を貼り合わせる熱処理工程において、アルカリイオンが前記シリコン基板に拡散しにくく、前記シリコン基板に発生する残留歪が小さいガラス基板を提供する。本発明のガラス基板は、50℃〜100℃での平均熱膨張係数α50/100が2.70ppm/℃〜3.20ppm/℃であり、200℃〜300℃での平均熱膨張係数α200/300が3.45ppm/℃〜3.95ppm/℃であり、200℃〜300℃の平均熱膨張係数α200/300を50℃〜100℃の平均熱膨張係数α50/100で除した値α200/300/α50/100が、1.20〜1.30であり、アルカリ金属酸化物の含有量が酸化物基準のモル百分率表示で0%〜0.1%である。

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