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1. 发明专利

JP2014115515A Scanning optical device, image forming device, and manufacturing method for reflective member 有权
标题翻译：扫描光学装置，图像形成装置和反射构件的制造方法
公开(公告)号：JP2014115515A
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：JP2012270305
申请日：2012-12-11
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： KIMURA KAZUMI
IPC分类号： G02B26/10 , B41J2/44 , G02B5/08 , G02B13/00 , H04N1/113
CPC分类号： C23C14/5886 , C23C14/18 , G02B26/10 , G03G15/0435 , Y10T29/49885
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scanning optical device which has a reflective member with a reduced size and improved durability and can be manufactured at reduced costs, and to provide a manufacturing method for the reflective member.SOLUTION: A scanning optical device includes: a deflector which deflects and sweeps a light beam from a light source in a main scanning direction; an incident optical system which guides the light beam from the light source to the deflector; an image forming optical system which forms an image from the light beam from the deflector on a scanning surface; and a reflective member which is located in an optical path of the light beam deflected and swept in the main scanning direction by the deflector to reflect a portion of the deflected and swept light beam. The reflective member has a reflective surface for reflecting the deflected and swept light beam, first end faces parallel to the main scanning direction, and second end faces perpendicular to the main scanning direction. The second end faces are more corrosion resistant than the first end faces.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种扫描光学装置，其具有尺寸减小和耐久性改善并且可以以低成本制造的反射构件，并提供反射构件的制造方法。解决方案：扫描光学装置包括：偏转器，其在主扫描方向上偏转并扫描来自光源的光束; 入射光学系统，其将光束从光源引导到偏转器; 图像形成光学系统，其在来自所述偏转器的光束在扫描表面上形成图像; 以及反射构件，其位于通过偏转器在主扫描方向上偏转和扫掠的光束的光路中，以反射偏转和扫掠的光束的一部分。反射构件具有用于反射偏转和扫掠光束的反射表面，第一端面平行于主扫描方向，第二端面垂直于主扫描方向。第二端面比第一端面更耐腐蚀。

2. 发明专利

JP5160231B2 Machining tool 有权
公开(公告)号：JP5160231B2
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：JP2007543646
申请日：2005-11-28
申请人：セラティチットオーストリアゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
发明人：ヴァルグラム、ヴォルフガング , シュラインコーファー、ウヴェ , ギグル、カール , トゥルナー、ヨーゼフ , シントルマイスター、ヴィルフリート
IPC分类号： B23B27/14 , B24C1/06 , C23C14/18 , C23C14/58 , C23C16/56 , C23C30/00
CPC分类号： C23C14/5886 , B24C1/06 , C23C16/56 , C23C30/005 , Y10T407/27 , Y10T428/265
摘要： A tool for machining is made from a hard-metal, cermet or ceramic base material and a single-layer or multi-layer hard material coating on the base material. An additional coating of one or more metals from the group of aluminum, copper, zinc, titanium, nickel, tin or base alloys of these metals is applied to the hard material coating.

3. 发明专利

JP2012232344A Press forming die, and method for manufacturing press forming die protection film 有权
标题翻译：压制成型机，以及制造压制成型保护膜的方法
公开(公告)号：JP2012232344A
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：JP2012094997
申请日：2012-04-18
申请人： Nippon Koshuha Steel Co Ltd , 日本高周波鋼業株式会社 , Kobe Steel Ltd , 株式会社神戸製鋼所
发明人： KASHI TAKAHARU , YAMAMOTO KENJI
IPC分类号： B21D37/01 , B21D37/20 , C23C14/06
CPC分类号： B29C33/68 , B21D37/01 , C23C14/0641 , C23C14/5886
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a press forming die having a protection film formed by the PVD process and having a high resistance to seizure, and a method for manufacturing a press forming die protection film.SOLUTION: In the press forming die, a protection film to prevent seizure upon press forming is formed at least on a molding surface that comes into contact with an object to be molded. This protection film is formed by the PVD process and when an arbitrarily selected section picked up from the surface of the protection film is divided into a plurality of individual sections and the number of divisions is taken to be N, and the slope of the surface at the n-th division point from the end of the selected section is taken to be (dZ/dX), a root-mean-square value RΔq calculated from Mathematical expression 1 is 0.032 or less.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有通过PVD工艺形成的保护膜并具有高抗咬合性的压制成型模具，以及用于制造冲压成型模具保护膜的方法。解决方案：在冲压成形模具中，至少在与被成型体接触的成型面上至少形成有用于防止冲压成形时的卡塞的保护膜。该保护膜通过PVD工艺形成，当从保护膜的表面拾取的任意选择的部分被分割为多个单独部分并且分割数为N时，表面的斜率为从所选择的部分的结尾处的第n个分割点被认为是（dZ n / dX n ），从数学式1计算出的均方根值RΔq为0.032以下。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2011525547A 1 axis oriented polymer substrate film 审中-公开
公开(公告)号：JP2011525547A
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：JP2010550086
申请日：2009-03-12
申请人：テトララバルホールデイングスエフイナンスソシエテアノニム
发明人：カマチョ、ウォーカー , シケ、アンドレ , ジャクウ、ベルトラン , トフト、ニルス , ファイエ、ピエール , ボンヌボー、アラン , ロシャト、ジル
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/06 , B32B15/085 , B32B27/32 , C08J7/04
CPC分类号： B32B27/10 , B32B7/12 , B32B27/18 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B2255/10 , B32B2255/12 , B32B2255/20 , B32B2255/205 , B32B2255/26 , B32B2255/28 , B32B2264/10 , B32B2307/31 , B32B2307/40 , B32B2307/50 , B32B2307/514 , B32B2307/7244 , B32B2307/7246 , B32B2307/7248 , B32B2307/7265 , B32B2439/70 , C23C14/20 , C23C14/5886 , D21H19/20 , D21H19/40 , D21H19/60 , D21H19/822 , Y10T428/1397 , Y10T428/25 , Y10T428/259 , Y10T428/265 , Y10T428/266 , Y10T428/273 , Y10T428/2826
摘要：本発明は、低密度ポリエチレンをベースにしたポリマーから実質的になる、熱機械的に安定なヒートシール性１軸配向ポリマー基材フィルム（１２）に関する。本発明はさらに、そのような蒸着コーティング基材フィルム、特に金属化されたそのようなフィルムに関する。本発明は、蒸着コーティングポリマー基材フィルムを含む包装ラミネートと、そのような包装ラミネートから製造された包装容器とにも関する。本発明はさらに、熱機械的に安定なヒートシール性ポリマー基材フィルムを生成するための方法と、このフィルムを蒸着コーティングする方法とに関する。

5. 发明专利

JP2009020962A Forming method of minute pattern, and stamper 审中-公开
标题翻译：分钟图形和冲压器的形成方法
公开(公告)号：JP2009020962A
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：JP2007183200
申请日：2007-07-12
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： DEGUCHI KYOSUKE
IPC分类号： G11B7/26
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C23C14/083 , C23C14/5846 , C23C14/5886 , G11B7/261 , G11B7/263 , Y10T428/24736
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology for forming a minute pattern, using a simple method. SOLUTION: In a forming method of the minute pattern, including a step for forming a heating type resist film on a substrate, a step for applying energy in a region where the minute pattern of the resist film is formed and a step for developing the resist film; the material of the resist film is a metal oxide, having a composition in which oxygen is deficient in trace amount from stoichiometric composition; the energy applied to the resist film is pressure; and the resist film is developed by using an alkaline developer. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于形成微小图案的技术，使用简单的方法。解决方案：在微型图案的形成方法中，包括在基板上形成加热型抗蚀剂膜的步骤，在形成抗蚀剂膜的微小图案的区域中施加能量的步骤和用于开发抗蚀膜; 抗蚀剂膜的材料是金属氧化物，其具有氧化学计量组成的微量缺乏的组成; 施加到抗蚀剂膜的能量是压力; 并且通过使用碱性显影剂显影抗蚀剂膜。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2008521630A Machining tool 有权
公开(公告)号：JP2008521630A
公开(公告)日：2008-06-26
申请号：JP2007543646
申请日：2005-11-28
申请人：セラティチットオーストリアゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
发明人：ヴァルグラム、ヴォルフガング , ギグル、カール , シュラインコーファー、ウヴェ , シントルマイスター、ヴィルフリート , トゥルナー、ヨーゼフ
IPC分类号： B23B27/14 , B24C1/06 , C23C14/18 , C23C14/58 , C23C16/56 , C23C30/00
CPC分类号： C23C14/5886 , B24C1/06 , C23C16/56 , C23C30/005 , Y10T407/27 , Y10T428/265
摘要：本発明は、超硬合金、サーメット、または、セラミックをベースにした材料、及び、前記ベース材料に施される単層または多層の硬質材料のコーティングから造られた機械加工用工具に関するものである。本発明によれば、硬質材料のコーティングに、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン、ニッケル、スズ、または、これらの金属ベースの合金を含むグループの内の１つまたはそれ以上の金属の追加コーティングが施される。

7. 发明专利

JP4073002B2 A method for manufacturing a magnetic recording medium 有权
公开(公告)号：JP4073002B2
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：JP2002088941
申请日：2002-03-27
申请人：キヤノン株式会社
发明人：達也斉藤 , 透田
IPC分类号： G11B5/65 , G11B5/855 , C23C14/58 , C25D11/04 , C25D11/16 , C25D11/20 , G11B5/82 , G11B5/84 , G11B5/858
CPC分类号： C23C14/5853 , C23C14/5886 , C25D11/045 , C25D11/16 , C25D11/20 , G11B5/855 , G11B5/858

8. 发明专利

JP2008014853A Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel 审中-公开
标题翻译：辐射图像转换板及制造辐射图像变换面板的方法
公开(公告)号：JP2008014853A
公开(公告)日：2008-01-24
申请号：JP2006187429
申请日：2006-07-07
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KUBOTA SO , HASEGAWA AKIRA
IPC分类号： G21K4/00 , C09K11/00 , G01T1/00 , G03B42/02
CPC分类号： G21K4/00 , C09K11/7733 , C23C14/5886 , G21K2004/06
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image conversion panel which can prevent a degradation in image quality such as point defects appearing on an image caused by a protrusion or a concave part formed by the same appearing on the surface of a phosphor layer, and also to provide a method for manufacturing the radiation image conversion panel which makes it possible to obtain images of such high definition. SOLUTION: The radiation image conversion panel is manufactured by forming the phosphor layer on a substrate by a gas phase lay-up method in a vacuum chamber. The panel and the method for manufacturing it are characterized in that the protrusion or the concave part formed by the same which appears on the surface of the phosphor layer has been processed to be repaired. Notably, it is preferable to give the repair processing before the first cleaning of the surface of the phosphor layer after the completion of vapor deposition (before a heat treatment process). COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够防止图像质量劣化的放射线图像转换面板，例如由出现在荧光体表面上的由其形成的突起或凹部形成的图像上出现的图像上的缺陷并且还提供用于制造放射线图像转换面板的方法，其使得可以获得这样高清晰度的图像。解决方案：通过在真空室中通过气相层叠法在基板上形成荧光体层来制造辐射图像转换面板。面板及其制造方法的特征在于，在荧光体层的表面上出现的由其形成的突起或凹部已经被处理以进行修复。特别优选在蒸镀结束后（热处理工序之前）对荧光体层的表面进行第一次清洗之前进行修补处理。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP6174028B2 被膜付き切削工具有权
公开(公告)号：JP6174028B2
公开(公告)日：2017-08-02
申请号：JP2014530280
申请日：2012-09-19
申请人：ラミナテクノロジーズソシエテアノニム , LAMINA TECHNOLOGIES S.A.
发明人：ベールマルクヨハン , カーティンスヘルマン , ジェンヴァードアクセル
IPC分类号： B23B51/00 , B23C5/16 , B23G5/00 , C23C14/06 , B23B27/14
CPC分类号： C23C14/0641 , B23B27/148 , C23C14/325 , C23C14/5886 , H01J37/32055 , B23B2224/24 , B23B2228/105 , Y10T407/27

10. 发明专利

JP6105849B2 位相差素子有权
公开(公告)号：JP6105849B2
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：JP2012059618
申请日：2012-03-16
申请人：デクセリアルズ株式会社
发明人：小池伸幸
IPC分类号： G02F1/13363 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3083 , C23C14/083 , C23C14/226 , C23C14/5806 , C23C14/5886 , G02F1/0126 , G02F1/13363 , C23C14/225 , G02B5/32 , G02F2202/13 , Y10T428/24612

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