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    • 6. 发明申请
    • DOUBLE LAYER INTERLEAVED P-N DIODE MODULATOR
    • 双层隔离型P-N二极管调制器
    • US20150011040A1
    • 2015-01-08
    • US14492410
    • 2014-09-22
    • International Business Machines Corporation
    • William M. GreenJessie C. RosenbergYurii Vlasov
    • G02B6/134G02B6/12
    • G02B6/1347G02B6/12G02B2006/12061G02F1/025G02F2201/063G02F2201/15G02F2202/06G02F2202/105
    • A method for fabricating an optical modulator includes forming n-type layer, a first oxide portion on a portion of the n-type layer, and a second oxide portion on a second portion of the n-type layer, patterning a first masking layer over the first oxide portion, portions of a planar surface of the n-type layer, and portions of the second oxide portion, implanting p-type dopants in the n-type layer to form a first p-type region and a second p-type region, removing the first masking layer, patterning a second masking layer over the first oxide portion, a portion of the first p-type region, and a portion of the n-type layer, and implanting p-type dopants in exposed portions of the n-type layer, exposed portions of the first p-type region, and regions of the n-type layer and the second p-type region disposed between the substrate and the second oxide portion.
    • 一种光学调制器的制造方法包括在n型层的一部分上形成n型层,第一氧化物部分和n型层的第二部分上的第二氧化物部分,将第一掩模层图案化 第一氧化物部分,n型层的平面表面的部分和第二氧化物部分的部分,在n型层中注入p型掺杂剂以形成第一p型区和第二p型 去除所述第一掩蔽层,在所述第一氧化物部分上形成第二掩模层,所述第一p型区域的一部分和所述n型层的一部分,以及在所述第一掩模层的暴露部分中注入p型掺杂剂 n型层,第一p型区域的露出部分以及设置在基板和第二氧化物部分之间的n型层和第二p型区域的区域。