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1. 发明授权

US07695874B2 Color filter and fabrication method thereof 有权
标题翻译：滤色器及其制造方法
公开(公告)号：US07695874B2
公开(公告)日：2010-04-13
申请号：US11426388
申请日：2006-06-26
申请人： Yen-Heng Huang , Yu-Wei Liu , Yu-Hsin Ting , Kuo-Yu Huang
发明人： Yen-Heng Huang , Yu-Wei Liu , Yu-Hsin Ting , Kuo-Yu Huang
IPC分类号： G02B5/20 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/201 , G02B5/223 , G02F1/133516
摘要： A color filter and a method for fabricating the same. At least one conductive film is provided above a light shielding layer between R/G/B color filter units. The conductive film is electrically connected to an electrode layer, thereby reducing the resistance thereof.
摘要翻译：滤色器及其制造方法。在R / G / B滤色器单元之间的遮光层上方设置至少一个导电膜。导电膜电连接到电极层，从而降低其电阻。

2. 发明申请

US20070148563A1 COLOR FILTER AND FABRICATION METHOD THEREOF 有权
标题翻译：彩色滤光片及其制作方法
公开(公告)号：US20070148563A1
公开(公告)日：2007-06-28
申请号：US11426388
申请日：2006-06-26
申请人： Yen-Heng Huang , Yu-Wei Liu , Yu-Hsin Ting , Kuo-Yu Huang
发明人： Yen-Heng Huang , Yu-Wei Liu , Yu-Hsin Ting , Kuo-Yu Huang
IPC分类号： G02B5/20
CPC分类号： G02B5/201 , G02B5/223 , G02F1/133516
摘要： A color filter and a method for fabricating the same. At least one conductive film is provided above a light shielding layer between R/G/B color filter units. The conductive film is electrically connected to an electrode layer, thereby reducing the resistance thereof.
摘要翻译：滤色器及其制造方法。在R / G / B滤色器单元之间的遮光层上方设置至少一个导电膜。导电膜电连接到电极层，从而降低其电阻。

3. 发明授权

US07829393B2 Copper gate electrode of liquid crystal display device and method of fabricating the same 有权
标题翻译：液晶显示装置的铜栅电极及其制造方法
公开(公告)号：US07829393B2
公开(公告)日：2010-11-09
申请号：US12366693
申请日：2009-02-06
申请人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
发明人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L29/4908
摘要： A copper gate electrode, applied in a thin-film-transistor liquid crystal display (LCD) device, at least comprises a patterned copper layer formed on a glass substrate, and a barrier layer formed on the patterned copper layer. The barrier layer comprises at least one of nitrogen and phosphorus, or comprises an alloy formularized as M1M2R wherein M1 is cobalt (Co) or molybdenum (Mo), M2 is tungsten (W), molybdenum (Mo), rhenium (Re) or vanadium (V), and R is boron (B) or phosphorus (P).
摘要翻译：施加在薄膜晶体管液晶显示器（LCD）装置中的铜栅电极至少包括形成在玻璃基板上的图案化铜层和形成在图案化铜层上的阻挡层。阻挡层包括氮和磷中的至少一种，或包含形式为M1M2R的合金，其中M1是钴（Co）或钼（Mo），M2是钨（W），钼（Mo），铼（Re）或钒（V），R为硼（B）或磷（P）。

4. 发明授权

US07569333B2 Wiring line structure and method for forming the same 有权
标题翻译：接线结构及其形成方法
公开(公告)号：US07569333B2
公开(公告)日：2009-08-04
申请号：US11852365
申请日：2007-09-10
申请人： Tzeng-Guang Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin , Yu-Wei Liu
发明人： Tzeng-Guang Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin , Yu-Wei Liu
IPC分类号： G03F7/00 , G03C5/00 , C23C28/00
CPC分类号： H01L21/76885 , G02F2001/136295 , H01L21/76834 , H05K3/0023 , H05K3/064 , H05K3/108 , H05K3/388 , H05K2201/0108 , H05K2203/0571 , H05K2203/0585 , H05K2203/0597
摘要： The wiring line structure comprises a transparent substrate, a barrier layer, a metal layer, and a photosensitive protecting layer. The barrier layer and a metal layer are successively disposed on the transparent substrate. The photosensitive protecting layer is formed on the barrier layer and both sides of the metal layer. A method for fabricating the wiring line structure is also disclosed.
摘要翻译：布线线结构包括透明基板，阻挡层，金属层和光敏保护层。阻挡层和金属层依次设置在透明基板上。感光保护层形成在阻挡层和金属层的两侧。还公开了一种用于制造布线结构的方法。

5. 发明授权

US07528466B2 Copper gate electrode of liquid crystal display device and method of fabricating the same 有权
标题翻译：液晶显示装置的铜栅电极及其制造方法
公开(公告)号：US07528466B2
公开(公告)日：2009-05-05
申请号：US11178436
申请日：2005-07-12
申请人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
发明人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： H01L29/4908
摘要： A copper gate electrode, applied in a thin-film-transistor liquid crystal display (LCD) device, at least comprises a patterned copper layer formed on a glass substrate, and a barrier layer formed on the patterned copper layer. The barrier layer comprises at least one of nitrogen and phosphorus, or comprises an alloy formularized as M1M2R wherein M1 is cobalt (Co) or molybdenum (Mo), M2 is tungsten (W), molybdenum (Mo), rhenium (Re) or vanadium (V), and R is boron (B) or phosphorus (P).
摘要翻译：施加在薄膜晶体管液晶显示器（LCD）装置中的铜栅电极至少包括形成在玻璃基板上的图案化铜层和形成在图案化铜层上的阻挡层。阻挡层包括氮和磷中的至少一种，或包含形式为M1M2R的合金，其中M1是钴（Co）或钼（Mo），M2是钨（W），钼（Mo），铼（Re）或钒（V），R为硼（B）或磷（P）。

6. 发明申请

US20060246713A1 Wiring line structure and method for forming the same 审中-公开
公开(公告)号：US20060246713A1
公开(公告)日：2006-11-02
申请号：US11206381
申请日：2005-08-18
申请人： Tzeng-Guang Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin , Yu-Wei Liu
发明人： Tzeng-Guang Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin , Yu-Wei Liu
IPC分类号： H01L21/4763 , H01L29/94 , H01L29/76 , H01L31/00
CPC分类号： H01L21/76885 , G02F2001/136295 , H01L21/76834 , H05K3/0023 , H05K3/064 , H05K3/108 , H05K3/388 , H05K2201/0108 , H05K2203/0571 , H05K2203/0585 , H05K2203/0597
摘要： The wiring line structure comprises a transparent substrate, a barrier layer, a metal layer, and a photosensitive protecting layer. The barrier layer and a metal layer are successively disposed on the transparent substrate. The photosensitive protecting layer is formed on the barrier layer and both sides of the metal layer. A method for fabricating the wiring line structure is also disclosed.

7. 发明申请

US20060138659A1 Copper gate electrode of liquid crystal display device and method of fabricating the same 有权
标题翻译：液晶显示装置的铜栅电极及其制造方法
公开(公告)号：US20060138659A1
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：US11178436
申请日：2005-07-12
申请人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
发明人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
IPC分类号： H01L29/40 , H01L21/44
CPC分类号： H01L29/4908
摘要： A copper gate electrode, applied in a thin-film-transistor liquid crystal display (LCD) device, at least comprises a patterned copper layer formed on a glass substrate, and a barrier layer formed on the patterned copper layer. The barrier layer comprises at least one of nitrogen and phosphorus, or comprises an alloy formularized as M1M2R wherein M1 is cobalt (Co) or molybdenum (Mo), M2 is tungsten (W), molybdenum (Mo), rhenium (Re) or vanadium (V), and R is boron (B) or phosphorus (P).
摘要翻译：施加在薄膜晶体管液晶显示器（LCD）装置中的铜栅电极至少包括形成在玻璃基板上的图案化铜层和形成在图案化铜层上的阻挡层。阻挡层包括氮和磷中的至少一种，或者包含配位为M 1 M 2 R 2的合金，其中M 1是钴（ Co）或钼（Mo），M 2是钨（W），钼（Mo），铼（Re）或钒（V），R是硼（B）或磷（P）。

8. 发明申请

US20090142923A1 COPPER GATE ELECTRODE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME 有权
标题翻译：液晶显示装置的铜门电极及其制造方法
公开(公告)号：US20090142923A1
公开(公告)日：2009-06-04
申请号：US12366693
申请日：2009-02-06
申请人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
发明人： Yu-Wei Liu , Wen-Ching Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin
IPC分类号： H01L21/283
CPC分类号： H01L29/4908
摘要： A copper gate electrode, applied in a thin-film-transistor liquid crystal display (LCD) device, at least comprises a patterned copper layer formed on a glass substrate, and a barrier layer formed on the patterned copper layer. The barrier layer comprises at least one of nitrogen and phosphorus, or comprises an alloy formularized as M1M2R wherein M1 is cobalt (Co) or molybdenum (Mo), M2 is tungsten (W), molybdenum (Mo), rhenium (Re) or vanadium (V), and R is boron (B) or phosphorus (P).
摘要翻译：施加在薄膜晶体管液晶显示器（LCD）装置中的铜栅电极至少包括形成在玻璃基板上的图案化铜层和形成在图案化铜层上的阻挡层。阻挡层包括氮和磷中的至少一种，或包含形式为M1M2R的合金，其中M1是钴（Co）或钼（Mo），M2是钨（W），钼（Mo），铼（Re）或钒（V），R为硼（B）或磷（P）。

9. 发明申请

US20080003527A1 WIRING LINE STRUCTURE AND METHOD FOR FORMING THE SAME 有权
标题翻译：接线结构及其形成方法
公开(公告)号：US20080003527A1
公开(公告)日：2008-01-03
申请号：US11852365
申请日：2007-09-10
申请人： Tzeng-Guang Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin , Yu-Wei Liu
发明人： Tzeng-Guang Tsai , Kuo-Yu Huang , Hui-Fen Lin , Yu-Wei Liu
IPC分类号： G03C5/00 , B05D5/12 , C23C28/00
CPC分类号： H01L21/76885 , G02F2001/136295 , H01L21/76834 , H05K3/0023 , H05K3/064 , H05K3/108 , H05K3/388 , H05K2201/0108 , H05K2203/0571 , H05K2203/0585 , H05K2203/0597
摘要： The wiring line structure comprises a transparent substrate, a barrier layer, a metal layer, and a photosensitive protecting layer. The barrier layer and a metal layer are successively disposed on the transparent substrate. The photosensitive protecting layer is formed on the barrier layer and both sides of the metal layer. A method for fabricating the wiring line structure is also disclosed.
摘要翻译：布线线结构包括透明基板，阻挡层，金属层和光敏保护层。阻挡层和金属层依次设置在透明基板上。感光保护层形成在阻挡层和金属层的两侧。还公开了一种用于制造布线结构的方法。

10. 发明授权

US08772780B2 Array substrate structure of display panel and method of making the same 有权
标题翻译：显示面板的阵列基板结构及其制作方法
公开(公告)号：US08772780B2
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：US13609272
申请日：2012-09-11
申请人： Kuo-Yu Huang , Te-Chun Huang
发明人： Kuo-Yu Huang , Te-Chun Huang
IPC分类号： H01L29/04
CPC分类号： H01L27/1244 , G02F2001/13456 , H01L27/1259
摘要： An array substrate structure of a display panel includes a substrate, a plurality of first wirings, a first patterned insulating layer, a plurality of second wirings, a plurality of first protective patterns, and a plurality of second protective patterns. The substrate has a wiring region. The first wirings are disposed in the wiring region. The first patterned insulating layer is disposed on the first wirings. The second wirings are disposed on the first patterned insulating layer. The first protective patterns are disposed in the wiring region and disposed on the corresponding second wiring, respectively, where the first protective pattern includes a semiconductor material. The second protective patterns are disposed on the corresponding first protective pattern, respectively, where the second protective pattern includes an inorganic insulating material.
摘要翻译：显示面板的阵列基板结构包括基板，多个第一布线，第一图案化绝缘层，多个第二布线，多个第一保护图案和多个第二保护图案。基板具有布线区域。第一布线布置在布线区域中。第一图案化绝缘层设置在第一布线上。第二布线布置在第一图案化绝缘层上。第一保护图案分别布置在布线区域中并且分别布置在第一保护图案包括半导体材料的相应的第二布线上。第二保护图案分别设置在相应的第一保护图案上，其中第二保护图案包括无机绝缘材料。

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