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    • 12. 发明专利
    • 温度センサのためのナノ磁性多層膜とその製造方法
    • 纳米磁性多层膜和用于温度传感器及其制造方法
    • JP2016541112A
    • 2016-12-28
    • JP2016526771
    • 2014-01-23
    • 中国科学院物理研究所
    • 秀峰 ▲韓▼秀峰 ▲韓▼忠▲輝▼ 袁忠▲輝▼ 袁▲ぱん▼ ▲劉▼▲ぱん▼ ▲劉▼国▲強▼ 于国▲強▼ 于家峰 ▲豊▼家峰 ▲豊▼殿琳 ▲張▼殿琳 ▲張▼
    • H01L43/08G01K7/36H01L43/12
    • H01L43/08G01K7/36G01K7/38H01F10/3272H01L43/02H01L43/12
    • 温度センサのための面内ナノ磁性多層膜とその製造方法。多層フィルムは、3つのタイプに分類される。第1のタイプの構造は、基板(1)、底部層(2)、底部磁性複合材料層(3)、中間バリア層(4)、上部磁性複合材料層(5)及びキャップ層(6)を下から上の順序で含む。第1のタイプにおいて、上部磁性複合層(5)と底部磁性複合層(3)は、直接ピニング構造又は間接ピニング構造を採用する。第2のタイプは、基板、底部層、底部ピニング層、中間バリア層、上部ピニング層、及びキャップ層を下から上の順序で、含む。第2のタイプにおいて、上部ピニング層及び底部ピニング層は、直接ピニング構造又は間接ピニング構造を採用する。磁性ナノ多層膜構造の第3のタイプは、基板、底部層、底部磁性多層膜、底部磁性層、中間バリア層、上部磁性膜、上部磁性多層膜及びキャップ層を下から上の順序で含む。第3のタイプにおいて、磁性多層膜の磁気モーメントは、膜面に垂直であり、底部多層膜と上部多層膜の保磁力が異なり、2つの強磁性層、すなわち上部強磁性層及び底部強磁性層の磁気モーメントは、アニーリングを介して反平行配置にある。
    • 平面纳米磁性多层膜和用于温度传感器及其制造方法。 所述多层膜可分为三种类型。 第一种类型的结构中,在基板(1),底层(2),底部磁性复合材料层(3),中间层(4),上部磁性复合材料层(5)和所述覆盖层(6) 包括在从底部顺序到顶部。 在第一种类型中,上部磁性复合层(5)和底磁性复合层(3)采用直接钉扎结构或间接钉扎结构。 第二种类型,一基板,一底层,底钉扎层,中间势垒层,上钉扎层,并从底部,包括上帽层的顺序。 在第二种类型中,上钉扎层和钉扎底部层采用直接钉扎结构或间接钉扎结构。 第三种类型的磁性纳米多层膜结构的包括基板,底层,底磁性多层膜,底磁性层,中间势垒层,上磁膜,在上部磁性多层膜,并从底部的帽层之上的顺序。 在第三类型中,磁性多层膜的磁矩是垂直于膜平面的,不像底部多层膜的矫顽力和两个铁磁层的上部多层膜,即上侧强磁性层和底部铁磁层 磁矩通过退火反平行地布置。
    • 13. 发明专利
    • ナノパターン化及び超広帯域電磁特性測定システム
    • 纳米图形化和超宽带电磁特性测量系统
    • JP2014529839A
    • 2014-11-13
    • JP2014521921
    • 2012-07-17
    • 中国科学院物理研究所北京匯徳信科技有限公司
    • 韓秀峰馬勤礼于国強劉厚方余天周向前艾金虎孫曉玉
    • H01J37/28G01R29/00G01R33/12H01J37/244H01J37/305H01L21/027
    • H01J37/26G01R31/2822G01R31/315H01J37/3174H01J2237/24564H01J2237/28H01L22/12
    • 本発明は、電源1と、制御装置2と、測定装置3とを備え、前記制御装置2は前記測定装置3に接続され、前記制御装置2と前記測定装置3は、それぞれ前記電源1に接続されており、前記測定装置3は、SEM結像又はEBLパターン化機能を有する結像装置31と、真空チャンバー32と、真空システム33と、試料ステージ34と、磁場応答特性測定装置35とを備え、前記真空システム33は前記真空チャンバー32に接続され、前記結像装置31、前記試料ステージ34及び前記磁場応答特性測定装置35は、いずれも前記真空チャンバー32内に設置され、前記結像装置31と前記磁場応答特性測定装置35は前記試料ステージ34に応じて設置されている、ナノパターン化及び超広帯域電磁特性測定システムを提供する。本発明によれば、高速で効率よくナノ材料とデバイス、及びそのアレイ試料の測定と研究を行うことができ、幅広い応用分野を有している。
    • 本发明连接在电源1,一个控制单元2,和一个测量装置3中,控制单元2被连接到测量装置3,所述的控制装置2测量装置3中,分别对电源1的 是,测量装置3设置有成像装置具有SEM成像或EBL图案化功能,真空室32,真空系统33,试样台34和磁场响应特性的测量装置31 35 真空系统33连接到真空室32,成像装置31中,样品台34和磁场响应特性的测量装置35都位于真空室32内,成像设备31 其中,所述磁场响应特性的测量装置35是安装在根据样品台34,以提供纳米图案化和超宽带电磁特性测量系统。 根据本发明,可以进行快速和有效的纳米材料和设备,并且阵列样本研究的测定中,具有广泛的应用范围。
    • 17. 发明授权
    • 一种二维纳米材料的STEM样品的制备方法
    • CN114428180B
    • 2024-01-30
    • CN202210049857.7
    • 2022-01-17
    • 中国科学院物理研究所北京理工大学中国科学院大学
    • 朱知力王业亮时金安刘中流武旭周武高鸿钧
    • G01Q30/20
    • 结构被破坏的问题。本发明公开了一种二维纳米材料的STEM样品的制备方法,在真空环境中对制备好的二维纳米材料原位进行第一层保护层的蒸镀;在真空环境中对已经蒸镀第一层保护层的二维纳米材料原位进行第二层保护层的蒸镀;从真空环境中取出蒸镀二层保护层的二维纳米材料,通过电子束与离子束诱导沉积的方式沉积铂金薄膜,然后采用聚焦离子束进行取样,得到样品薄片,采用聚焦离子束对所述样品薄片进行减薄,至样品薄片在扫描电子显微镜(SEM)中衬度变白,得到二维纳米材料的STEM样品。本发明通过真空中原位蒸镀富勒烯(C60)薄膜和金属薄膜或非金属薄膜的(56)对比文件赵兴钰 等.C60-有机聚合物薄膜的结构.《真空科学与技术》.1994,第14卷(第2期),第119-122页.马浚 等.银加载爆轰实验中生成的固体粒子表征《.爆炸与冲击》.2013,第33卷(第06期),第639-646页.吴克 等.富勒烯薄膜上二维金属渗流系统的电击穿现象《.物理学报》.1996,第45卷(第11期),第1905-1912页.Zhu, Zhi-Li 等.Charge density wavestates in phase-engineered monolayerVTe2《.Chinese Physics B》.2022,第31卷(第7期),第077101- 1-6页.Imran,M 等.Highly efficient andstable inverted perovskite solar cellswith two-dimensional ZnSe deposited usinga thermal evaporator for electroncollection《.Journal of MaterialsChemistry A》.2018,第6卷(第45期),第22713-22720页.伍春燕 等.Sn-C60薄膜的紫外吸收光谱和X-射线衍射谱分析《.光谱学与光谱分析》.2002,第22卷(第3期),第495-497页.Moritz Riede 等.Optimization oforganic tandem solar cells based on smallmolecules《.2010 35th IEEE PhotovoltaicSpecialists Conference》.2010,第000513-000517页.傅继业.应用于纳米孔光学检测的石墨烯薄膜转移方法的研究《.中国优秀硕士学位论文全文数据库 工程科技Ⅰ辑》.2020,(第5期),第B014-5页.朱知力.新型二维钒碲化合物材料的制备与物性研究《.中国博士学位论文全文数据库 基础科学辑》.2023,(第2期),第A005-332页.