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41. 发明专利

TW201802996A 溼式製程設備审中-公开
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TW201802996A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW105121052
申请日：2016-07-04
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG-LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN-CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING-JU
IPC分类号： H01L21/677 , B65H23/032 , B05D5/08 , B05D7/04
摘要：一種溼式製程設備，用以輸送一基板，該溼式製程設備包含一槽體、複數個導輪以及複數個液浮載板，該槽體用以容置該基板，該複數個導輪設置於該槽體內並用以支撐該基板的一側邊部，該複數個液浮載板設置於該基板下方，各液浮載板包含複數個直行水流通道以及一斜行水流通道，該斜行水流通道設置於該複數個直行水流通道與該液浮載板的一邊緣之間，該斜行水流通道的走向斜交於該複數個直行水流通道，該斜行水流通道與該複數個直行水流通道共同於該基板與該複數個液浮載板間形成能液浮支撐該基板的一薄膜層流。
简体摘要：一种湿式制程设备，用以输送一基板，该湿式制程设备包含一槽体、复数个导轮以及复数个液浮载板，该槽体用以容置该基板，该复数个导轮设置于该槽体内并用以支撑该基板的一侧边部，该复数个液浮载板设置于该基板下方，各液浮载板包含复数个直行水流信道以及一斜行水流信道，该斜行水流信道设置于该复数个直行水流信道与该液浮载板的一边缘之间，该斜行水流信道的走向斜交于该复数个直行水流信道，该斜行水流信道与该复数个直行水流信道共同于该基板与该复数个液浮载板间形成能液浮支撑该基板的一薄膜层流。

42. 发明专利

TW201743396A 溼式製程設備审中-公开
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TW201743396A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW105117311
申请日：2016-06-02
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG-LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN-CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING-JU
IPC分类号： H01L21/673 , B08B11/04 , H01L21/30 , G06F3/041
摘要：一種溼式製程設備，包含一槽體、複數個導輪、複數個液浮載板以及一水路模組，該槽體用以容置一基板，該複數個導輪設置於該槽體內並用以支撐該基板的一側邊部，該複數個液浮載板設置於該基板下方，該複數個液浮載板用以對該基板噴射一處理液，以於該基板與該複數個液浮載板間形成一薄膜層流，該水路模組耦接於該複數個液浮載板，該水路模組控制該複數個液浮載板產生沿一輸送方向流動或沿相反於該輸送方向之一回復方向之該薄膜層流。
简体摘要：一种湿式制程设备，包含一槽体、复数个导轮、复数个液浮载板以及一水路模块，该槽体用以容置一基板，该复数个导轮设置于该槽体内并用以支撑该基板的一侧边部，该复数个液浮载板设置于该基板下方，该复数个液浮载板用以对该基板喷射一处理液，以于该基板与该复数个液浮载板间形成一薄膜层流，该水路模块耦接于该复数个液浮载板，该水路模块控制该复数个液浮载板产生沿一输送方向流动或沿相反于该输送方向之一回复方向之该薄膜层流。

43. 发明专利

TW201738993A 濕式蝕刻裝置审中-公开
简体标题：湿式蚀刻设备
公开(公告)号：TW201738993A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105112137
申请日：2016-04-19
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/673 , H01L21/02 , H01L21/306
摘要：所揭為一種濕式蝕刻裝置，該濕式蝕刻裝置包括一腔體、複數個蝕刻液噴嘴、以及一承載平台。該腔體包括一進氣口以及一出氣口。該些蝕刻液噴嘴設置於該腔體中以對一基板進行蝕刻。該承載平台包括一本體以及複數個平台噴嘴。該本體設置於該基板下方。該些平台噴嘴貫穿該本體，一液體透過該些平台噴嘴提供一液體浮力以承載該基板。該濕式蝕刻裝置能避免基板的背面髒污的問題。
简体摘要：所揭为一种湿式蚀刻设备，该湿式蚀刻设备包括一腔体、复数个蚀刻液喷嘴、以及一承载平台。该腔体包括一进气口以及一出气口。该些蚀刻液喷嘴设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻。该承载平台包括一本体以及复数个平台喷嘴。该本体设置于该基板下方。该些平台喷嘴贯穿该本体，一液体透过该些平台喷嘴提供一液体浮力以承载该基板。该湿式蚀刻设备能避免基板的背面脏污的问题。

44. 发明专利

TW201737302A 具有氣體循環裝置之濕製程設備审中-公开
简体标题：具有气体循环设备之湿制程设备
公开(公告)号：TW201737302A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105110615
申请日：2016-04-01
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/02 , F15B15/00
摘要：本發明提供一種具有氣體循環裝置之濕製程設備，包含：一製程腔體，包含分別位在該製程腔體之相對兩側壁之一第一排氣孔和一第一進氣孔；以及一氣體循環裝置，包括：一抽氣單元，設置在該製程腔體之外；以及一傳輸管路，與該抽氣單元連接，且與該第一排氣孔和該第一進氣孔連通，其中該抽氣單元將該製程腔體內之一氣體通過該第一排氣孔抽進該傳輸管路，並且該氣體通過該第一進氣孔回送至該製程腔體內部。
简体摘要：本发明提供一种具有气体循环设备之湿制程设备，包含：一制程腔体，包含分别位在该制程腔体之相对两侧壁之一第一排气孔和一第一进气孔；以及一气体循环设备，包括：一抽气单元，设置在该制程腔体之外；以及一传输管路，与该抽气单元连接，且与该第一排气孔和该第一进气孔连通，其中该抽气单元将该制程腔体内之一气体通过该第一排气孔抽进该传输管路，并且该气体通过该第一进气孔回送至该制程腔体内部。

45. 发明专利

TW201736306A 濕式蝕刻裝置审中-公开
简体标题：湿式蚀刻设备
公开(公告)号：TW201736306A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105111331
申请日：2016-04-12
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： C03C15/00 , B05B1/14 , B05B15/00
摘要：一種濕式蝕刻裝置，包括一腔體以及一蝕刻噴灑模組。該腔體包括一進氣口以及一出氣口。該蝕刻噴灑模組設置於該腔體中以對一基板進行蝕刻。該蝕刻噴灑模組包括一網板以及複數個噴嘴。該網板包括複數個孔洞。該些噴嘴設置於該網板之上方，該些孔洞之口徑小於該些噴嘴之口徑。該濕式蝕刻裝置能將蝕刻液均勻地噴灑在基板上。
简体摘要：一种湿式蚀刻设备，包括一腔体以及一蚀刻喷洒模块。该腔体包括一进气口以及一出气口。该蚀刻喷洒模块设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻。该蚀刻喷洒模块包括一网板以及复数个喷嘴。该网板包括复数个孔洞。该些喷嘴设置于该网板之上方，该些孔洞之口径小于该些喷嘴之口径。该湿式蚀刻设备能将蚀刻液均匀地喷洒在基板上。

46. 发明专利

TWI601191B 溼式製程設備有权
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TWI601191B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105131446
申请日：2016-09-30
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG-LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN-CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING-JU
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/84

47. 发明专利

TW201735151A 具有內置式氣液分離單元之濕製程設備审中-公开
简体标题：具有内置式气液分离单元之湿制程设备
公开(公告)号：TW201735151A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105108798
申请日：2016-03-22
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING JU
IPC分类号： H01L21/306
摘要：本發明提供一種具有內置式氣液分離單元之濕製程設備，包含：一製程腔體；一氣體處理單元；以及一氣液分離單元，連接在該製程腔體與該氣體處理單元之間，包含一傳輸管道和一過濾元件，該傳輸管道包括：一進入段，用於將該製程腔體內之一化學性氣液混合物輸入該氣液分離單元內；一反應段，用於容置該過濾元件，使得通過該過濾元件之該化學性氣液混合物分離為一化學液體和一廢氣；以及一排氣段，用於將該廢氣排入該氣體處理單元，其中該氣液分離單元之該進入段與該反應段設置在該製程腔體之內部。
简体摘要：本发明提供一种具有内置式气液分离单元之湿制程设备，包含：一制程腔体；一气体处理单元；以及一气液分离单元，连接在该制程腔体与该气体处理单元之间，包含一传输管道和一过滤组件，该传输管道包括：一进入段，用于将该制程腔体内之一化学性气液混合物输入该气液分离单元内；一反应段，用于容置该过滤组件，使得通过该过滤组件之该化学性气液混合物分离为一化学液体和一废气；以及一排气段，用于将该废气排入该气体处理单元，其中该气液分离单元之该进入段与该反应段设置在该制程腔体之内部。

48. 发明专利

TWI597799B 溼式製程設備有权
简体标题：湿式制程设备
公开(公告)号：TWI597799B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105133141
申请日：2016-10-14
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：黃榮龍 , HUANG, JUNG-LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN-CHIEH , 陳瀅如 , CHEN, YING-JU
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , H01L21/64

49. 发明专利

TWI572533B 用以承載平板構件之卡匣結構有权
简体标题：用以承载平板构件之卡匣结构
公开(公告)号：TWI572533B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105100030
申请日：2016-01-04
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：林子中 , LIN, TZU-CHUNG , 黃榮龍 , HUANG, JUNG-LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN-CHIEH
IPC分类号： B65D25/04 , B65D25/10 , B65D83/08
CPC分类号： Y02P40/57

50. 发明专利

TW201704116A 用以承載平板構件之卡匣本體审中-公开
简体标题：用以承载平板构件之卡匣本体
公开(公告)号：TW201704116A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105100047
申请日：2016-01-04
申请人：盟立自動化股份有限公司 , MIRLE AUTOMATION CORPORATION
发明人：林子中 , LIN, TZU-CHUNG , 黃榮龍 , HUANG, JUNG-LUNG , 呂峻杰 , LU, CHUN-CHIEH
IPC分类号： B65D85/48 , B65D85/86 , H01L21/673 , H01L21/68
CPC分类号： Y02P40/57
摘要：一種用以承載一平板構件卡匣本體，該平板構件具有一第一側面以及相對該第一側面之一第二側面，該卡匣本體包含一第一側柱、一第二側柱以及一底柱，該第一側柱上形成有一第一夾持槽，該平板構件的該第一側面可活動地設置於該第一夾持槽內，該第二側柱相對該第一側柱，該第二側柱上形成有一第二夾持槽，該平板構件的該第二側面可活動地設置於該第二夾持槽內，該底柱連接該第一側柱與該第二側柱。
简体摘要：一种用以承载一平板构件卡匣本体，该平板构件具有一第一侧面以及相对该第一侧面之一第二侧面，该卡匣本体包含一第一侧柱、一第二侧柱以及一底柱，该第一侧柱上形成有一第一夹持槽，该平板构件的该第一侧面可活动地设置于该第一夹持槽内，该第二侧柱相对该第一侧柱，该第二侧柱上形成有一第二夹持槽，该平板构件的该第二侧面可活动地设置于该第二夹持槽内，该底柱连接该第一侧柱与该第二侧柱。

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