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2. 发明专利

TW202004983A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202004983A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108118198
申请日：2019-05-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：遠藤亨 , ENDO, TORU , 林昌之 , HAYASHI, MASAYUKI , 柴山宣之 , SHIBAYAMA, NOBUYUKI , 菅原雄二 , SUGAHARA, YUJI , 東克栄 , HIGASHI, KATSUEI , 阿野誠士 , ANO, SEIJI
IPC分类号： H01L21/683
摘要：本發明之基板處理方法包含：第1夾持步驟，其係與淋洗步驟及旋轉乾燥步驟中之至少一者並行地，一面使至少3個第2夾持部自基板之周緣部離開一面使至少3個第1夾持部與基板之周緣部接觸，藉此，實現藉由第1夾持單元夾持基板且不藉由第2夾持單元夾持上述基板之第1夾持狀態，並維持該第1夾持狀態特定之第1期間；及第2夾持步驟，其係於上述第1夾持步驟之後，與上述旋轉乾燥步驟並行地，一面使上述至少3個第1夾持部自上述基板之周緣部離開一面使上述至少3個第2夾持部與上述基板之周緣部接觸，藉此，實現藉由上述第2夾持單元夾持上述基板且不藉由上述第1夾持單元夾持上述基板之第2夾持狀態，並維持該第2夾持狀態特定之第2期間。
简体摘要：本发明之基板处理方法包含：第1夹持步骤，其系与淋洗步骤及旋转干燥步骤中之至少一者并行地，一面使至少3个第2夹持部自基板之周缘部离开一面使至少3个第1夹持部与基板之周缘部接触，借此，实现借由第1夹持单元夹持基板且不借由第2夹持单元夹持上述基板之第1夹持状态，并维持该第1夹持状态特定之第1期间；及第2夹持步骤，其系于上述第1夹持步骤之后，与上述旋转干燥步骤并行地，一面使上述至少3个第1夹持部自上述基板之周缘部离开一面使上述至少3个第2夹持部与上述基板之周缘部接触，借此，实现借由上述第2夹持单元夹持上述基板且不借由上述第1夹持单元夹持上述基板之第2夹持状态，并维持该第2夹持状态特定之第2期间。

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