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1. 发明专利

TW201812974A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201812974A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106131253
申请日：2017-09-12
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI , 西村讓一 , NISHIMURA, JOICHI
IPC分类号： H01L21/677 , B05C11/08
摘要：本發明即便於外部之排氣設備之排氣量不足之情形時亦可將腔室內之環境氣體充分地進行排氣。本發明之基板處理裝置具備有：腔室；基板處理機構，其包含可將基板大致水平地保持之保持構件且被收容於腔室內，並對保持構件所保持之基板吐出處理用流體而進行基板之處理；連接配管，其包含有被設置於保持構件之下方且面向腔室內之下側開口、及被設置於保持構件之上方並面向腔室內之上側開口，且自下側開口至上側開口為止至少一部分係通過腔室之外被配設；以及氣流產生器，其係設置於連接配管；氣流產生器係以使包含既定之氣體之腔室內之環境氣體自下側開口被排出至連接配管並通過連接配管自上側開口再次被導入腔室內，藉此於腔室內產生環境氣體之降流之方式，使腔室內之環境氣體進行循環。
简体摘要：本发明即便于外部之排气设备之排气量不足之情形时亦可将腔室内之环境气体充分地进行排气。本发明之基板处理设备具备有：腔室；基板处理机构，其包含可将基板大致水平地保持之保持构件且被收容于腔室内，并对保持构件所保持之基板吐出处理用流体而进行基板之处理；连接配管，其包含有被设置于保持构件之下方且面向腔室内之下侧开口、及被设置于保持构件之上方并面向腔室内之上侧开口，且自下侧开口至上侧开口为止至少一部分系通过腔室之外被配设；以及气流产生器，其系设置于连接配管；气流产生器系以使包含既定之气体之腔室内之环境气体自下侧开口被排出至连接配管并通过连接配管自上侧开口再次被导入腔室内，借此于腔室内产生环境气体之降流之方式，使腔室内之环境气体进行循环。

2. 发明专利

TWI691009B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI691009B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW107146672
申请日：2018-12-22
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI , 村元僚 , MURAMOTO, RYO , 西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI
IPC分类号： H01L21/67

3. 发明专利

TWI693670B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI693670B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW107146817
申请日：2018-12-24
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI , 沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/304

4. 发明专利

TW201830552A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201830552A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106141166
申请日：2017-11-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：津田祥太郎 , TSUDA, SHOTARO , 平岡伸康 , HIRAOKA, NOBUYASU , 沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI , 西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/14
摘要：本發明提供一種減少附著於杯體之異物再次附著於基板之情況的技術。本發明之基板處理裝置1具有上杯體部32，該上杯體部32具有形成為可將保持於基板保持部10之基板W包圍之筒狀的第1筒狀部321及第2筒狀部322，且第2筒狀部322連結於第1筒狀部321之上側。又，基板處理裝置1具備杯體移動部36，該杯體移動部36係藉由使上杯體部32於鉛直方向上移動，而使上杯體部32分別於第1筒狀部321包圍基板W之位置、及第2筒狀部322包圍基板W之位置停止。
简体摘要：本发明提供一种减少附着于杯体之异物再次附着于基板之情况的技术。本发明之基板处理设备1具有上杯体部32，该上杯体部32具有形成为可将保持于基板保持部10之基板W包围之筒状的第1筒状部321及第2筒状部322，且第2筒状部322链接于第1筒状部321之上侧。又，基板处理设备1具备杯体移动部36，该杯体移动部36系借由使上杯体部32于铅直方向上移动，而使上杯体部32分别于第1筒状部321包围基板W之位置、及第2筒状部322包围基板W之位置停止。

5. 发明专利

TWI652122B 基板處理裝置、基板處理方法及程式記錄媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及进程记录媒体
公开(公告)号：TWI652122B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW106108916
申请日：2017-03-17
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI , 篠原敬 , SHINOHARA, TAKASHI
IPC分类号： B08B1/04 , B08B3/02

6. 发明专利

TW201739528A 基板處理裝置、基板處理方法及程式記錄媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及进程记录媒体
公开(公告)号：TW201739528A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106108916
申请日：2017-03-17
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI , 篠原敬 , SHINOHARA, TAKASHI
IPC分类号： B08B1/04 , B08B3/02
摘要：本發明係關於一種基板處理裝置(1)，其包含：基板保持旋轉機構(41)，其以水平姿勢保持基板(W)，使上述基板(W)圍繞通過上述基板(W)之主面之鉛垂旋轉軸線(AX)旋轉；刷子(30)，其抵接於由上述基板保持旋轉機構保持之上述基板(W)之上述主面對上述基板(W)之上述主面進行洗淨；第1噴嘴(10)，其向由上述基板保持旋轉機構保持之上述基板(W)之上述主面吐出處理液；及第2噴嘴(20)，其於由上述基板保持旋轉機構保持之上述基板(W)之上述主面，向下游鄰接區域(DR)吐出處理液，該下游鄰接區域(DR)自上述基板(W)之旋轉方向之下游側鄰接於上述刷子(30)抵接於上述基板(W)之上述主面之抵接區域(AR)。
简体摘要：本发明系关于一种基板处理设备(1)，其包含：基板保持旋转机构(41)，其以水平姿势保持基板(W)，使上述基板(W)围绕通过上述基板(W)之主面之铅垂旋转轴线(AX)旋转；刷子(30)，其抵接于由上述基板保持旋转机构保持之上述基板(W)之上述主面对上述基板(W)之上述主面进行洗净；第1喷嘴(10)，其向由上述基板保持旋转机构保持之上述基板(W)之上述主面吐出处理液；及第2喷嘴(20)，其于由上述基板保持旋转机构保持之上述基板(W)之上述主面，向下游邻接区域(DR)吐出处理液，该下游邻接区域(DR)自上述基板(W)之旋转方向之下游侧邻接于上述刷子(30)抵接于上述基板(W)之上述主面之抵接区域(AR)。

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