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1. 发明专利

JP2015033955A 後輪転舵装置审中-公开
标题翻译：后轮转向装置
公开(公告)号：JP2015033955A
公开(公告)日：2015-02-19
申请号：JP2013166464
申请日：2013-08-09
申请人： Ntn株式会社 , Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , TOKUNAGA HIROAKI , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： B62D5/04 , B62D7/14
CPC分类号： B62D7/1581 , B62D17/00
摘要：【課題】後輪の転舵及びトー角調整をスムーズに行うこと。【解決手段】第1のロッド13と、第1のロッド13に対して同軸にかつ伸縮可能に設けられる第2のロッド21と、第1のロッド13をその軸方向に変位させる第1の駆動手段と、第2のロッド21に設けられ、第1のロッド13に対して第2のロッド21を軸方向に伸縮させる第2の駆動手段と、を備えた後輪転舵装置を構成する。第1の駆動手段で第1のロッド13を第2のロッド21とともに駆動することにより後輪10、11が転舵する。また、第2の駆動手段で第2のロッド21を第1のロッド13に対して相対的に伸縮することにより後輪10、11のトー角調整がなされる。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：顺利执行后轮转向和脚趾角度调节。解决方案：后轮转向装置被构造成包括第一杆13，第一杆13，第一杆21，第一杆13和第二杆21，第一杆13和第二杆21，用于使第一杆13沿其轴向移动的驱动装置，以及设置在第二杆21上的第二驱动装置，以使第二杆21相对于第一杆13沿轴向膨胀/收缩。后轮10和第一驱动装置11与第二杆21一起驱动第一杆13而被转向。另外，通过第二驱动装置来调节后轮10和11的脚趾角度，第二驱动装置相对于第二杆21相对地扩展/收缩第二杆21 第一杆13。

2. 发明专利

JP2015012002A 欠陥修正方法および欠陥修正装置审中-公开
标题翻译：缺陷修正方法和缺陷修正装置
公开(公告)号：JP2015012002A
公开(公告)日：2015-01-19
申请号：JP2013133714
申请日：2013-06-26
申请人： Ntn株式会社 , Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： YAMANAKA AKIHIRO , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： H05K3/22 , B05C1/02 , B05D1/28 , B05D3/02 , B05D3/06 , B05D7/00 , H05K3/10
摘要：【課題】電極の膜厚が厚く、電極の幅および間隔が狭い場合でも、短時間で安定した修正が可能な欠陥修正方法を提供する。【解決手段】この欠陥修正方法では、塗布径が電極51の幅よりも大きな塗布針1を使用して電極51a,51bの断線欠陥部52側の端部の各々に修正液53を塗布し、塗布径が電極51の幅と略同じ塗布針2を使用して電極51a,51bの端部間に修正液53を塗布する。電極51aの端(A部)における修正液53の幅Waと、電極51bの端(B部)における修正液53の幅Wbと、電極51の幅Wとを略同じにできる。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种缺陷校正方法，其中即使电极的膜厚度较厚，电极的宽度和电极之间的间隔窄，可以在短时间内稳定地校正。解决方案：在该缺陷校正方法中，通过使用涂布直径大于电极51的宽度的涂布针1，在电极51a，51b的断开缺陷部52侧的各端涂布校正液53，并且校正液53涂覆在两端通过使用其涂布直径与电极51的宽度几乎相同的涂布针2，电极51a，51b的电极51a，51b的端部（A部分）处的校正液体53的宽度Wa，宽度Wb 在电极51b的端部（B部分）处的校正液体53，并且可以使电极51的宽度W具有几乎相同的宽度。

3. 发明专利

JP2015044479A 車両用操舵装置审中-公开
标题翻译：车辆转向装置
公开(公告)号：JP2015044479A
公开(公告)日：2015-03-12
申请号：JP2013176653
申请日：2013-08-28
申请人： Ntn株式会社 , Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , SHIMIZU SHIGEO , TOKUNAGA HIROAKI
IPC分类号： B62D5/04 , B62D6/00 , F16H25/24
CPC分类号： B62D5/003 , B62D3/02
摘要：【課題】ステアリングホイールと転舵アクチュエータの間をバックアップクラッチで機械的に接続したときに十分な転舵角を確保する。【解決手段】ステアリングホイール1に操舵反力を与える反力アクチュエータ2は、反力モータ6の回転トルクをステアリングホイール1に増幅して伝達する減速機7と、バックアップクラッチ3に接続された操舵側連結軸9とを有する。操舵側連結軸9は、ステアリングホイール1の操舵時に、ステアリングホイール1から減速機7を介して回転が伝達することでステアリングホイール1よりも速く回転するように設けられている。転舵アクチュエータ4は、バックアップクラッチ3から転舵側連結軸25に入力された回転をボールナット21に伝達する回転伝達経路37を有する。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：当方向盘和转向致动器通过后备离合器彼此机械地连接时，确保足够的转向角。解决方案：将反作用力致动器2向方向盘施加转向反作用力如图1所示，包括减速齿轮7，将反作用力马达6的旋转力矩放大并传递到方向盘1，以及连接到备用离合器3的转向侧连接轴9.转向侧连接轴9 以便在方向盘1的转向期间通过从方向盘1通过减速齿轮7的转动传递而比方向盘1转动得更快。转向致动器4包括旋转传递路径37，其传送从后方上升离合器3到转向侧连接轴25到滚珠螺母21。

4. 发明专利

JP2009251121A Device for pattern correction 审中-公开
标题翻译：用于图案校正的装置
公开(公告)号：JP2009251121A
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：JP2008096407
申请日：2008-04-02
申请人： Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： G02F1/1343 , G03F1/72 , H01L21/027 , H05K3/22
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for pattern correction, with which electrical resistance of a section to be corrected is made lower by forming a correcting layer with uniform film thickness on a defective section of a broken pattern (wire), without repeating operations and with a simple process. SOLUTION: The device for pattern correction is used, with which an alloy layer of a metal film of a transfer member and a metal film for wire forming is formed on their bonded interface and they are bonded to each other by making them irradiated with a laser beam, in a state in which the metal film composed of a low-melting point metal formed on one principal surface of the base member is made to be in intimate contact with the defective section of pattern (wire). Further, in a section lacking the metal film constituting the wire, the defective section of the wire is recovered by tightly bonding them via an interfacial reaction between the metal film on the transfer member and glass or silicon oxide exposed on the surface. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种用于图案校正的装置，通过在破损图案（导线）的缺陷部分上形成具有均匀膜厚的校正层，使待校正部分的电阻降低，没有重复的操作和简单的过程。解决方案：使用用于图案校正的装置，通过该装置，在其接合界面上形成转印构件的金属膜的合金层和用于形成线的金属膜，并且通过使它们照射而彼此结合使用形成在基材的一个主表面上的由低熔点金属构成的金属膜与图案（导线）的缺陷部分紧密接触的状态的激光束。此外，在缺少构成金属丝的金属膜的部分中，通过在转印部件上的金属膜和暴露在表面上的玻璃或氧化硅之间的界面反应紧密地接合，从而回收线的缺陷部分。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2008281603A Pattern correction method 审中-公开
标题翻译：模式校正方法
公开(公告)号：JP2008281603A
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：JP2007123151
申请日：2007-05-08
申请人： Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： G09F9/00 , G02F1/13
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern correction method capable of correcting an electrode disconnection part or the like with a thin wire of about 10 μm and reducing contamination around a defective part. SOLUTION: In the pattern correction method, a film 3 is irradiated with a laser beam to form a hole 3a in a shape based on the defective part 2a, the opening of the hole 3a is made to face the defective part 2a with a prescribed gap, correction paste 10 is attached to the distal end of an application needle 9 and is made to stand by for prescribed time, then the application needle 9 is lowered, the film 3 is pressurized to a substrate 1 in a prescribed range including the hole 3a, and the correction paste 10 is applied to the detective part 2a through the hole 3a. Thus, since the correction paste 10 is attached to the distal end of the application needle 9 and is made to stand by for the prescribed time, the amount of the correction paste 10 on a flat surface 9a at the distal end of the application needle 9 is reduced, and the correction paste 10 is prevented from intruding a gap between the film 3 and the substrate 1. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够用约10μm的细线校正电极断开部分等的图案校正方法，并减少缺陷部分周围的污染。解决方案：在图案校正方法中，用激光束照射膜3以形成基于缺陷部分2a的形状的孔3a，使孔3a的开口面向缺陷部分2a与规定的间隙，将修正膏10安装在施加针9的前端，使其静置规定时间，然后将施加针9下降，将膜3加压至规定范围的基板1，包括孔3a和校正膏10通过孔3a施加到检测部分2a。因此，由于校正膏10被附着到施用针9的前端并使其静置规定时间，所以在施加针9的前端的平面9a上的校正膏10的量减少了校正膏10侵入薄膜3和基片1之间的间隙。版权所有：（C）2009，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2008122854A Defect correction method and correcting device 有权
标题翻译：缺陷校正方法和校正装置
公开(公告)号：JP2008122854A
公开(公告)日：2008-05-29
申请号：JP2006309256
申请日：2006-11-15
申请人： Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： G09F9/00 , G02F1/1368 , H01L29/786
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect correction method and a defect correcting device for correcting a disconnected defective portion in a wiring line thinner than 10 μm by an easy method without contaminating a TFT substrate nor damaging the nearby area of the defective portion. SOLUTION: The defect correction method comprises: forming a hole 12a in a film 12 in a shape corresponding to the disconnected defective portion 8b; placing the aperture of the hole 12a to oppose to the disconnected defective portion with a gap G; and pressing the film 12 in a predetermined range including the hole 12a by using a coating needle 19 to the TFT substrate 1, and applying a correction paste 20 to the disconnected defective portion 8b through the hole 12a. Since the film 12 is brought into contact to the TFT substrate 1 only when the correction paste 20 is applied, the correction paste 20 is prevented from intruding into the gap between the film 12 and the TFT substrate 1 by a capillary phenomenon. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：为了提供一种缺陷校正方法和缺陷校正装置，用于通过简单的方法来校正薄于10μm的布线中的断开的缺陷部分，而不会污染TFT基板，也不损坏附近的有缺陷的区域一部分。解决方案：缺陷校正方法包括：在与断开的缺陷部分8b对应的形状的膜12中形成孔12a; 将孔12a的孔径与间隙G对置于断开的缺陷部分; 并且通过使用涂布针19将薄膜12压在包括孔12a的预定范围内，并通过孔12a将修正膏20施加到断开的缺陷部分8b。由于膜12仅在施加校正膏20时与TFT基板1接触，所以可以通过毛细管现象防止校正膏20侵入到薄膜12和TFT基板1之间的间隙中。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2008107467A Method for correcting pattern and pattern correcting device 审中-公开
标题翻译：校正图案和图案校正装置的方法
公开(公告)号：JP2008107467A
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：JP2006288838
申请日：2006-10-24
申请人： Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： G03F7/40 , G02B5/20 , G02F1/13 , G02F1/1335 , G09F9/00 , H01J9/50 , H01J11/02 , H01J11/44 , H05K3/22
CPC分类号： Y02W30/828
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for correcting a pattern by which a residue around a defective portion removed by laser irradiation can be easily and rapidly removed without damaging a nondefective portion.
SOLUTION: A pattern correcting device 1 is provided, which irradiates a foreign matter defect 22 generated in a pixel 19 formed on a glass substrate 23 with a laser beam α to open a rectangular hole 19a in the pixel 19, presses a cylindrical adhesive material 30 to remove a residue 25 around the hole 19a, and applies a correction ink 33 on the hole 19a. This method minimizes the damage to a nondefective portion compared to removing a residue 25 by irradiation with a lower power laser beam.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供一种用于校正图案的方法，通过该图案校正通过激光照射去除的缺陷部分周围的残留物可以容易且快速地去除而不损坏非缺陷部分。解决方案：提供一种图案校正装置1，其用激光束α照射形成在玻璃基板23上的像素19中产生的异物缺陷22，以打开像素19中的矩形孔19a，将圆柱形粘合剂材料30以除去孔19a周围的残留物25，并在孔19a上施加校正油墨33。与通过用较低功率的激光束照射去除残留物25相比，该方法最大限度地减少对无损部分的损伤。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2008039977A Pattern correction method and device 审中-公开
标题翻译：模式校正方法和装置
公开(公告)号：JP2008039977A
公开(公告)日：2008-02-21
申请号：JP2006211914
申请日：2006-08-03
申请人： Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： G09F9/00 , G02F1/13 , H01J9/50 , H01J11/02 , H01J11/20 , H01J11/22 , H01J11/34
CPC分类号： Y02W30/828
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern correction method which corrects disconnected electrodes by using a fine wire as thin as 10 μm while less contaminating the panel. SOLUTION: The pattern correction method forms a recess 3b on the panel 1 side surface of the film 3 by partly deforming the film 3, makes the hole 3a formed on the bottom of the recess 3b and the defective section 2a face each other with a gap G in between, presses the bottom of the recess 3b to the panel 1 in the predetermined area including the hole 3a by using an application needle 31, and applies the correction paste 30 to the defective section 2a through the hole 3a, then peels the bottom of the recess 3b from the panel 1 by using the resilience of the film 3. Thus, it prevents the correction paste 30 from entering the gap between the bottom of the recess 3b and panel 1 by the capillarity. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案校正方法，其通过使用薄至10μm的细线来校正断开的电极，同时较少地污染面板。解决方案：图案校正方法通过使膜3部分变形而在膜3的面板1侧表面上形成凹部3b，使形成在凹部3b的底部的孔3a和缺陷部2a彼此面对在间隙G之间，通过使用施加针31将凹部3b的底部压在包括孔3a的预定区域中的面板1上，并且通过孔3a将修正膏30施加到缺陷部2a，然后通过使用膜3的弹性从面板1剥离凹部3b的底部。因此，防止了校正膏30通过毛细管作用进入凹部3b的底部和面板1之间的间隙。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2008015341A Pattern correction method and device 审中-公开
标题翻译：模式校正方法和装置
公开(公告)号：JP2008015341A
公开(公告)日：2008-01-24
申请号：JP2006188138
申请日：2006-07-07
申请人： Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： G09F9/00 , G02F1/13 , H01J9/50
CPC分类号： Y02W30/828
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern correction method which can correct an electrode disconnection part or else with a fine line of about 10 μm and hardly causes contamination around a defective part. SOLUTION: In the pattern correction method, a ring-like groove 3b is formed so as to surround an opening part on the substrate 1 side of a hole 3a opened in a film 3. Therefore, even when a correction paste 13 is sucked into a gap between the film 3 and the substrate 1 by a capillary phenomenon upon the filling of the correction paste 13 into the hole 3a, the correction paste 13 is not spread outside the groove 3b. Therefore, the contamination of the surrounding of the defective part 2a with the correction paste 13 can be prevented. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够校正电极断开部分或者以约10μm的细线校正并且几乎不会在缺陷部分周围引起污染的图案校正方法。解决方案：在图案校正方法中，形成环状槽3b，以围绕在膜3中打开的孔3a的基板1侧的开口部分。因此，即使校正膏13是在将校正膏13填充到孔3a中时，通过毛细管现象在薄膜3和基板1之间被吸入，校正膏13不会扩散到凹槽3b的外部。因此，可以防止用修正膏13污染缺陷部分2a的周围。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2007333868A Pattern correcting method and pattern correcting device 审中-公开
标题翻译：图案校正方法和图案校正装置
公开(公告)号：JP2007333868A
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：JP2006163516
申请日：2006-06-13
申请人： Ntn Corp , Ntn株式会社
发明人： KOIKE TAKASHI , SHIMIZU SHIGEO
IPC分类号： G09F9/00 , G02F1/13 , G02F1/1343 , G02F1/1345 , H01J9/50
CPC分类号： Y02W30/828
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern correcting method in which an electrode breaking part etc., are corrected with a thin wire of about 10 μm and a defective portion periphery is less damaged and contaminated. SOLUTION: In the pattern correcting method, a low-viscosity film 41 is irradiated with laser light in the state wherein the defective portion is not irradiated with the laser light to form a mask 40 having a hole 40a, the mask 40 is stuck to a substrate 14, and correction liquid 20 is applied to the defective portion 13a through the hole 40a. Consequently, a periphery of the defective portion 13a is prevented from being damaged by the laser light, and the correction liquid 20 is prevented from entering the gap between the mask 40 and substrate 14. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种图案校正方法，其中用约10μm的细线校正电极断裂部分等，并且缺陷部分周边损坏和污染较少。解决方案：在图案校正方法中，在缺陷部分未被激光照射的状态下用激光照射低粘度膜41，以形成具有孔40a的掩模40，掩模40为粘贴到基板14上，并且校正液20通过孔40a施加到缺陷部分13a。因此，防止缺陷部分13a的周边被激光损坏，并且防止校正液20进入掩模40和基板14之间的间隙。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

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