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1. 发明专利

JPWO2017013904A1 メタルマスク基材、メタルマスク基材の管理方法、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017013904A1
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2016553484
申请日：2016-03-22
申请人：凸版印刷株式会社
发明人：田村純香 , 三上菜穂子 , 藤戸大生 , 西辻清明 , 西剛広
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/024 , C23C14/028 , C23C14/085 , C23C14/12 , C23C14/225 , C23F1/44 , G01N21/55 , H01L51/0011 , H01L51/50 , H01L51/5012 , H01L51/5271 , H05B33/10
摘要：メタルマスク基材は、レジストが配置されるように構成された金属製の表面を備え、表面に入射した光の正反射における反射率が、45.2%以上である。

2. 发明专利

JP2017190527A Li含有酸化物ターゲット接合体およびその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017190527A
公开(公告)日：2017-10-19
申请号：JP2017101658
申请日：2017-05-23
申请人：株式会社コベルコ科研
发明人：武富雄一 , 金丸守賀 , 吉田慎太郎
IPC分类号： C04B35/01 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3417 , C04B35/01 , C04B35/447 , C04B35/645 , C04B37/026 , C23C14/082 , C23C14/085 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , H01J37/3429 , H01J37/3435 , H01J37/3491 , C04B2235/3203 , C04B2235/3275 , C04B2235/6565 , C04B2235/72 , C04B2235/721 , C04B2235/96 , C04B2235/963 , C04B2237/12 , C04B2237/34 , C04B2237/402 , C04B2237/407
摘要：【課題】Li含有酸化物スパッタリングターゲットと、Al系やCu系などのバッキングプレートとを、ボンディング材を介してターゲット接合体とする際の反りや割れの発生を抑制し得るLi含有酸化物ターゲット接合体を提供する。【解決手段】Li含有酸化物スパッタリングターゲットとバッキングプレートが、ボンディング材を介して接合されたターゲット接合体であって、Li含有酸化物ターゲット接合体を得る工程を、非水系の条件下で吸湿し難い環境下に制御したり、吸湿した水分がLi含有酸化物スパッタリングターゲットに再付着したりしないように制御する。曲げ強度は20MPa以上であるLi含有酸化物スパッタリングターゲット。比抵抗の平均値が100Ω・cm以下で、最大値が1000Ω・cm以下であるLi含有酸化物スパッタリングターゲット。【選択図】なし

4. 发明专利

JP2014231639A Ｌｉ含有酸化物ターゲット接合体有权
标题翻译：含锂氧化物目标接合体
公开(公告)号：JP2014231639A
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：JP2014092534
申请日：2014-04-28
申请人：株式会社コベルコ科研 , Kobelco Kaken:Kk
发明人： TAKETOMI YUICHI , KANAMARU MORIYOSHI , YOSHIDA SHINTARO
IPC分类号： C23C14/34 , C04B35/00 , C04B37/02
CPC分类号： H01J37/3417 , C04B35/01 , C04B35/447 , C04B35/645 , C04B37/026 , C04B2235/3203 , C04B2235/3275 , C04B2235/6565 , C04B2235/72 , C04B2235/721 , C04B2235/96 , C04B2235/963 , C04B2237/12 , C04B2237/34 , C04B2237/402 , C04B2237/407 , C23C14/082 , C23C14/085 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , H01J37/3429 , H01J37/3435 , H01J37/3491
摘要：【課題】Li含有酸化物スパッタリングターゲットと、Al系やCu系などのバッキングプレートとを、ボンディング材を介してターゲット接合体とする際の反りや割れの発生を抑制し得るLi含有酸化物ターゲット接合体を提供する。【解決手段】Li含有酸化物スパッタリングターゲットとバッキングプレートが、ボンディング材を介して接合されたターゲット接合体であって、Li含有酸化物ターゲット接合体を得る工程を、非水系の条件下で吸湿し難い環境下に制御したり、吸湿した水分がLi含有酸化物スパッタリングターゲットに再付着したりしないように制御する。曲げ強度は20MPa以上であるLi含有酸化物スパッタリングターゲット。比抵抗の平均値が100&OHgr;・cm以下で、最大値が1000&OHgr;・cm以下であるLi含有酸化物スパッタリングターゲット。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种含Li氧化物靶接合体，其可以抑制在含Li氧化物溅射靶和Al-或Cu基衬垫将目标接合体接合到目标接合体中时发生翘曲和/或裂纹接合材料。解决方案：通过接合材料将含Li氧化物溅射靶和背板接合在一起获得目标接合体，并且在这种环境中控制获得含Li氧化物靶接合体的步骤抑制非水性条件下的吸湿和/或防止吸附的水分再次附着在含Li氧化物溅射靶上。含锂氧化物溅射靶的弯曲强度为20MPa以上，电阻率平均值为100＆OHgr; cm或更低，最大值为1000＆OHgr; 厘米或更低。

5. 发明专利

JPS60189704A Multi-layered oxide film having periodicity 失效
标题翻译：具有周期性的多层氧化膜
公开(公告)号：JPS60189704A
公开(公告)日：1985-09-27
申请号：JP4636484
申请日：1984-03-09
申请人： Univ Kyoto
发明人： BANDOU HISANORI , TERAJIMA TAKAHITO
IPC分类号： B32B9/00 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C28/04 , G02B5/28 , G03F1/88 , G21K3/00
CPC分类号： C23C28/04 , C23C14/085 , C23C14/10 , G02B5/285
摘要： PURPOSE:To obtain periodic multi-layered films which satisfy the requirement as a spacer by laminating alternately an Si oxide having a specified film thickness and a metallic oxide. CONSTITUTION:The oxide of Co, Ni, Fe and other metal and the oxide of Si are alternately deposited by evaporation to a specified film thickness on a substrate to form periodic multi-layered films. The substrate 1 placed in the upper part in a vacuum vessel 1 for the above-mentioned purpose is heated to a suitable temp. by a heater 2 and while oxygen is introduced into the vessel through a gas introducing port 5, SiO and metals such as Co, etc. in vapor sources 31, 32 are alternately evaporated in an oxygen atmosphere kept under 4X10 Torr. The periodic multi-layered films satisfying the conditions as a spacer are thus obtd.
摘要翻译：目的：通过交替层叠具有特定膜厚度的Si氧化物和金属氧化物来获得满足作为间隔物要求的周期性多层膜。构成：通过蒸发将Co，Ni，Fe等金属的氧化物和Si的氧化物交替地沉积在基板上以规定的膜厚度形成周期性的多层膜。将用于上述目的的放置在真空容器1中的上部的基板1加热到合适的温度。通过加热器2，并且当通过气体导入口5将氧气引入容器中时，蒸气源31,32中的SiO和诸如Co等的金属在保持在4×10 -4 Torr的氧气氛中交替蒸发。因此，满足作为间隔物的条件的周期性多层膜。

7. 发明专利

JPWO2016067943A1 積層体フィルムと電極基板フィルムおよびこれ等の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2016067943A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016533730
申请日：2015-10-19
申请人：住友金属鉱山株式会社
发明人：大上　秀晴 , 秀晴大上
IPC分类号： C23C14/34 , B32B9/00 , B32B15/08 , C23C14/06 , G06F3/041
CPC分类号： C23C14/0089 , B32B15/08 , C23C14/0015 , C23C14/0057 , C23C14/06 , C23C14/085 , C23C14/205 , C23C14/548 , C23C14/562 , C23C14/5873 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H05K1/0274 , H05K1/09 , H05K3/06 , H05K3/064 , H05K3/467 , H05K2201/0108 , H05K2201/0338 , H05K2201/0373 , H05K2201/09681 , H05K2201/10128 , H05K2203/087
摘要：【課題】エッチング性に優れ、エッチング加工された回路パターンが高輝度照明下で視認され難い積層体フィルムと電極基板フィルムを提供しこれ等の製造方法を提供する。【解決手段】樹脂フィルムから成る透明基板60と透明基板の少なくとも一方の面に設けられた積層膜とで構成される積層体フィルムであって、上記積層膜が、透明基板側から数えて第1層目の金属吸収層61,63と第2層目の金属層(62,65),(64,66)を有すると共に、金属吸収層が、Ni単体またはNi、Ti、Al、V、W、Ta、Si、Cr、Ag、Mo、Cuより選ばれた2種以上の元素を含む合金から成る金属ターゲットと酸素を含む反応性ガスを用いた反応スパッタリング法により形成されかつ反応性ガスに水素が含まれていることを特徴とする。【選択図】図3

8. 发明专利

JP2016035605A エレクトロクロミック素子の製造方法、及び、成膜システム有权
标题翻译：制造电子元件和沉积系统的方法
公开(公告)号：JP2016035605A
公开(公告)日：2016-03-17
申请号：JP2015246682
申请日：2015-12-17
申请人：ビュー, インコーポレイテッド ,
发明人：ワン、チョンチュン , カーマン、エリック , コズロウスキー、マーク , スコビー、マイク , ディクソン、ジェレミー , プラダン、アンシュ
IPC分类号： G02F1/155 , G02F1/15
CPC分类号： G02F1/1523 , B05D5/06 , B23K20/10 , C03C17/3417 , C23C10/28 , C23C14/021 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/046 , C23C14/08 , C23C14/083 , C23C14/085 , C23C14/086 , C23C14/14 , C23C14/185 , C23C14/3407 , C23C14/568 , C23C14/58 , C23C14/5806 , C23C14/5853 , G02F1/15 , G02F1/153 , G02F1/1533 , G02F1/155 , C03C2217/94
摘要：【課題】信頼性の高いエレクトロクロミックウィンドウを提供する。【解決手段】建築用ガラス基板102と、前記建築用ガラス基板上に設けられている積層体120とを備え、前記積層体は、(i)酸化タングステンのエレクトロクロミック層106、(ii)固体且つ無機材料のリチウムイオン伝導層108、(iii)酸化ニッケルタングステンのカウンタ電極層110を有し、前記イオン伝導層108は、前記エレクトロクロミック層106および前記カウンタ電極層110を分離しており、前記エレクトロクロミックウィンドウは、エレクトロクロミック活性領域のいずれの部分においても、1平方センチメートルにつき可視欠陥の総数が約0.045個未満であるエレクトロクロミックウィンドウ。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供高度可靠的电致变色窗口。解决方案：电致变色窗包括建筑玻璃基板102和设置在建筑玻璃基板上的层压体120。层压体具有（i）氧化钨的电致变色层106，（ii）固体和无机材料的锂离子传导层108，和（iii）镍氧化钨的对电极层110。离子导电层108分离电致变色层106和对电极层110.关于电致变色窗，在电致变色活性区的任何部分中，每平方厘米的可见缺陷的总数约为0.045。图示：图 1

9. 发明专利

JP3993464B2 Rubber-based composite materials and rubber articles using the same 有权
公开(公告)号：JP3993464B2
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：JP2002150582
申请日：2002-05-24
申请人：株式会社ブリヂストン
发明人：研二佐藤 , 信子加藤 , 信一郎杉 , 健一杉本
IPC分类号： B32B25/10 , C08J5/12 , B32B25/08 , C08J7/04 , C08K7/02 , C08K9/02 , D06M11/00
CPC分类号： B32B15/06 , B32B25/08 , B32B25/10 , C08J7/123 , C08J2367/02 , C08K7/02 , C08K9/02 , C23C14/085 , C23C14/205 , Y10S428/938 , Y10T428/249924 , Y10T428/249933 , Y10T428/249947 , Y10T428/31569 , Y10T442/674 , C08L21/00

10. 发明专利

JP2003500534A An electrochemical device 有权
公开(公告)号：JP2003500534A
公开(公告)日：2003-01-07
申请号：JP2000620150
申请日：2000-05-19
申请人：サン−ゴバングラスフランス
发明人：ジロン，ジャン−クリストフ , ブテイユ，ファビアン , ベルメルシュ，マルク
IPC分类号： C22C19/03 , C23C14/08 , C23C14/34 , G02F1/15
CPC分类号： G02F1/1523 , C23C14/085 , C23C14/3414
摘要： (57)【要約】この発明は、陰極スパッタ装置、特に磁場アシスト装置、の本質的に金属のターゲットに関し、該ターゲットは強磁性を減少もしくは消去するために少くとも１つの他の少ない元素と合金化されたニッケルから主としてなる。さらに、この発明はニッケル合金酸化物にもとづく薄層として、陽極発色を有するエレクトロクロミック物質を製造するためのターゲットの使用に関する。

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