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1. 发明专利

JP6007100B2 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜及びパターン形成方法有权
标题翻译：光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物中，光化射线敏感或辐射敏感膜和图案形成方法
公开(公告)号：JP6007100B2
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：JP2012284642
申请日：2012-12-27
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：川端健志 , 滝沢裕雄 , 渋谷明規 , 後藤研由 , 小島雅史 , 加藤啓太
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C309/07 , C07C309/12 , C07C311/48 , C07C317/44 , C07C25/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/29 , C07C311/48 , C07C317/04 , C07C381/12 , C07D217/06 , C07D295/185 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D333/48 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07J17/00 , C07J31/006 , C07J9/005 , G03F7/20 , C07C2101/14 , C07C2103/74 , G03F7/038 , G03F7/039

2. 发明专利

JP2014126767A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, and pattern forming method 有权
标题翻译：丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物，丙烯酸敏感或辐射敏感膜和图案形成方法
公开(公告)号：JP2014126767A
公开(公告)日：2014-07-07
申请号：JP2012284642
申请日：2012-12-27
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KAWABATA KENJI , TAKIZAWA HIROO , SHIBUYA AKINORI , GOTO AKIYOSHI , KOJIMA MASASHI , KATO KEITA
IPC分类号： G03F7/004 , C07C25/00 , C07C309/07 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C311/48 , C07C317/44 , C07C381/12 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/29 , C07C311/48 , C07C317/04 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D217/06 , C07D295/185 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D333/48 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07J9/005 , C07J17/00 , C07J31/006 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in various performances such as sensitivity, resolution, roughness characteristics and a pattern shape which are required for a chemically amplified resist composition, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition, and a pattern forming method.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) a resin; and (B) a compound expressed by general formula (I). In formula (I), Rf represents a fluorine atom or a monovalent organic group including one or more fluorine atoms; Rrepresents a hydrogen atom or a monovalent organic group having no fluorine atom; Xrepresents a monovalent organic group including two or more carbon atoms, or a methyl group which may have a substituent except for a fluorine atom, and Xmay be bonded to Rto form a ring; and Z represents a moiety that is changed into a sulfonic acid group, imide acid group or a methide acid group by irradiation with actinic rays or radiation.
摘要翻译：要解决的问题：提供在化学放大抗蚀剂组合物所需的各种性能如灵敏度，分辨率，粗糙度特性和图案形状方面优异的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并提供光化学射线使用该组合物的敏感或辐射敏感膜，以及图案形成方法。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）树脂; 和（B）由通式（I）表示的化合物。式（I）中，Rf表示氟原子或含有1个以上氟原子的一价有机基团， R表示氢原子或不含氟原子的一价有机基团; X表示包含两个以上碳原子的一价有机基团，或可以具有除氟原子以外的取代基的甲基，X可以键合到R而形成环; Z表示通过用光化射线或辐射照射而变成磺酸基，酰亚胺酸基或甲基酸基的部分。

3. 发明专利

JP2014085475A Photoresist composition, resist pattern formation method, acid multiplication agent, compound, and method for manufacturing compound 有权
标题翻译：光电组合物，电阻图案形成方法，酸多元化剂，化合物和制备化合物的方法
公开(公告)号：JP2014085475A
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：JP2012233826
申请日：2012-10-23
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： NAMAI HAYATO
IPC分类号： G03F7/004 , C07C303/28 , C07C309/07 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07D207/416 , C07D307/93 , C07D307/94 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoresist composition excellent in terms of line width roughness (LWR) performance, resolution, cross-sectional rectangularity, focal depth, and storage stability.SOLUTION: The provided photoresist composition includes [A] a polymer possessing a structural unit (I) including an acid-dissociable group, [B] a radiation-sensitive acid generator, and [C] a compound expressed by the following formula (1). In the following formula (1), Ris a hydrogen atom or monovalent organic group having 1-20 carbon atoms. X is a single bond, *-COO-, *-OCO-, *-CONR-, *-NRCO-, or *-Ar-CO-. Ris a monovalent linear hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms or monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4-20 carbon atoms. Ar is an arenediyl group having 6-20 carbon atoms. Ris a monovalent acid-dissociable group. * denotes a site bonded with R. m is an integer of 0 to 2.
摘要翻译：要解决的问题：提供在线宽粗糙度（LWR）性能，分辨率，截面矩形性，焦深和存储稳定性方面优异的光致抗蚀剂组合物。溶液：所提供的光致抗蚀剂组合物包括[A] 结构单元（I）包括酸解离基团，[B]辐射敏感性酸产生剂，和[C]由下式（1）表示的化合物。在下式（1）中，R是氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团。 X是单键，* -COO-，* -OCO-，* -CONR-，* -NRCO-或* -Ar-CO-。 R 1为具有1-10个碳原子的一价直链烃基或具有4-20个碳原子的一价脂环族烃基。 Ar是具有6-20个碳原子的甲撑基。 R是一个一价酸解离的基团。 *表示与R键合的位置.m为0〜2的整数。

4. 发明专利

JP2013213033A Novel compound and acid generator 有权
标题翻译：新型化合物和酸发生器
公开(公告)号：JP2013213033A
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：JP2013098712
申请日：2013-05-08
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： KAWAKAMI AKINARI , UTSUMI YOSHIYUKI , HIDESAKA SHINICHI , MARUYAMA NATSUKO
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C309/10 , C07C309/13 , C07C309/17 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07D213/79 , C07D285/00 , C07D307/33 , C07D327/04 , C07D493/18 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, the acid generator comprising the compound, a resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.SOLUTION: A compound is shown by a general formula (b1-11). In the formula (b1-11), Rto Rare each independently an aryl group or an alkyl group, wherein any two of Rto Rmay bond with each other to form a ring along with a sulfur atom in the formula, and at least one of Rto Ris a substituted aryl group having a group shown by a general formula (I) as a substituent; and Xis an anion. In the formula (I), Ris a hydrogen atom of or C1 to C30 organic group which may have a substituent, Qis a divalent linkage group including an ester bond, a thioester bond, or an ether bond.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供可用作抗蚀剂组合物的酸发生剂的新型化合物，包含该化合物的酸产生剂，含有酸产生剂的抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。化合物用通式（b1-11）表示。在式（b1-11）中，Rto Rare各自独立地为芳基或烷基，其中Rto Rmay中的任何两个彼此键合以与式中的硫原子一起形成环，并且至少一个Rto R是具有通式（I）所示基团的取代基的取代基; 而X是阴离子。式（I）中，R为可具有取代基的C 1〜C 30的有机基团的氢原子，Q为包含酯键，硫酯键或醚键的二价连接基团。

5. 发明专利

JP2013505980A 2,3,4-benzothiadiazepines-2,2-dioxide derivatives 审中-公开
公开(公告)号：JP2013505980A
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：JP2012531504
申请日：2010-09-29
申请人：エギシュヂョヂセルヂャールニルヴァーノサンミケデレースヴェーニタールササーグ
发明人：フェッテルヨージェフ , バルタフェレンツ , モーナルバラージュ , シミグジュラ , バルコーツィヨージェフ , ヴォルクバラージュ , レヴァイジェルジ , ガチャリイシュトヴァーン , ギグレルガーボル , コンパーニュハイナルカ , マルコーベルナディッテ , ナジカタリン , キリチペーテル , ガーボルハールシングラースロー , セーナーシガーボル
IPC分类号： C07D285/14 , A61K31/433 , A61K31/554 , A61P25/00 , C07C303/22 , C07C309/07 , C07C309/81 , C07D285/36 , C07D513/04
CPC分类号： C07D285/36 , C07C309/24 , C07C309/81 , C07D285/06
摘要：本発明は、一般式（Ｉ）
【化２】

（ここで、「ａ」は単結合又は二重結合であり、Ｒ
1 及びＲ
2 は、互いに独立して、水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、トリフルオロメチルであるか、又は「ａ」が単結合である場合、Ｒ
1 及びＲ
2 は一緒になって=NSN=を形成し、Ｒ
3 及びＲ
4 は、互いに独立して、水素、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、Ｒ
5 及びＲ
6 は、互いに独立して、水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、トリフルオロメチルである）で表される化合物２,３,４-ベンゾチアジアゼピン-２,２-ジオキシド誘導体及び／又はその鏡像異性体及び／又はその薬学上好適な酸付加塩に係る。本発明は、さらに、その製法、前記化合物を含有する医薬品及び中枢神経系の疾患の治療における使用にも係る。
【選択図】図１

7. 发明专利

JP4262402B2 Positive resist composition 有权
公开(公告)号：JP4262402B2
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：JP2000321128
申请日：2000-10-20
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：邦彦児玉 , 利明青合
IPC分类号： G03F7/004 , C07C25/02 , C07C309/06 , C07C309/07 , C07C309/08 , C07C309/10 , C07C309/17 , C07C381/12 , C08K5/00 , C08L101/02 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027

8. 发明专利

JP2007525408A Ketone compounds and compositions for cholesterol management and related use 审中-公开
公开(公告)号：JP2007525408A
公开(公告)日：2007-09-06
申请号：JP2005513788
申请日：2003-12-24
申请人：エスペリオンセラピューティクス,インコーポレイテッド
发明人：ダニエラオニシウカルメン , ダシュージーン−ルイス
IPC分类号： C07C49/17 , A61K31/122 , A61K31/131 , A61K31/185 , A61K31/191 , A61K31/20 , A61K31/225 , A61K31/275 , A61K31/337 , A61K31/341 , A61K31/351 , A61K31/41 , A61K31/4166 , A61K31/42 , A61K31/4365 , A61K31/6615 , A61K31/664 , A61P1/18 , A61P3/00 , A61P3/04 , A61P3/06 , A61P3/10 , A61P7/02 , A61P9/10 , A61P9/12 , A61P13/12 , A61P15/10 , A61P25/28 , A61P29/00 , A61P31/04 , A61P35/00 , A61P43/00 , C07C49/185 , C07C49/215 , C07C49/245 , C07C49/258 , C07C49/507 , C07C49/723 , C07C49/743 , C07C49/747 , C07C49/784 , C07C49/82 , C07C49/83 , C07C49/86 , C07C50/30 , C07C59/347 , C07C59/82 , C07C59/84 , C07C59/90 , C07C62/18 , C07C62/22 , C07C69/716 , C07C69/738 , C07C69/757 , C07C235/74 , C07C261/04 , C07C309/07 , C07C309/24 , C07D233/72 , C07D233/74 , C07D233/84 , C07D233/86 , C07D257/04 , C07D261/12 , C07D305/12 , C07D307/33 , C07D309/12 , C07D309/30 , C07D309/40 , C07D495/04 , C07D519/00 , C07F9/09 , C07F9/24 , C07F9/44
CPC分类号： C07C59/353 , C07C49/17 , C07C49/185 , C07C49/215 , C07C49/245 , C07C49/258 , C07C49/507 , C07C49/723 , C07C49/743 , C07C49/747 , C07C49/784 , C07C49/82 , C07C49/86 , C07C50/30 , C07C59/347 , C07C59/82 , C07C59/84 , C07C59/90 , C07C69/716 , C07C69/738 , C07C235/74 , C07C261/04 , C07C309/07 , C07C309/24 , C07C2601/08 , C07C2601/10 , C07C2601/14 , C07C2601/16 , C07D233/72 , C07D233/84 , C07D233/86 , C07D257/04 , C07D261/12 , C07D305/12 , C07D307/33 , C07D309/12 , C07D309/30 , C07D309/40 , C07F9/093 , C07F9/2425 , C07F9/4423
摘要：本発明は、新規ケトン化合物、ケトン化合物を含む組成物、およびケトン化合物を含む組成物を投与することを含む心血管疾患、異常脂質血症、異常タンパク質血症、およびグルコース代謝障害を治療および予防するのに有用な方法に関する。本発明の化合物、組成物、および方法は、アルツハイマー病、Ｘ症候群、ペルオキシソーム増殖因子活性化受容体関連障害、敗血症、血栓障害、肥満症、膵炎、高血圧症、腎疾患、癌、炎症、およびインポテンスを治療および予防するのにも有用である。特定の実施形態において、本発明の化合物、組成物、および方法は、コレステロール低下剤および血糖降下剤などの他の治療薬との併用療法に有用である。

9. 发明专利

JP2004534008A Novel amlodipine camphorsulfonate and a method of manufacturing the same 有权
公开(公告)号：JP2004534008A
公开(公告)日：2004-11-11
申请号：JP2002577785
申请日：2002-03-28
申请人：ハンミファーム. シーオー., エルティーディー.
发明人：ウー、ジョン・ソー , キム、ナム・ドゥ , ムーン、ユン・ホ , リー、キュン・イク , リー、グァン・スン
IPC分类号： C07D211/84 , A61K31/4422 , A61P9/00 , A61P9/04 , A61P9/10 , A61P9/12 , C07C309/07 , C07D211/90
CPC分类号： C07D211/90
摘要：【課題】毒性が低く、且つ、薬剤学的に許容可能な塩の物理化学的な条件を満たすアムロジピンの新規結晶型の酸付加塩を提供する。
【解決手段】アムロジピンを（１Ｓ）−（＋）−１０−カンファースルホン酸（ｃｈａｍｐｏｒｓｕｌｐｈｏｎｉｃａｃｉｄ）、（１Ｒ）−（−）−１０−とカンファースルホン酸、又は（±）−１０−カンファースルホン酸と反応させて、溶解度、安定性、非吸湿性、及び錠剤付着性の優れた化学式１の新規なアムロジピンカンファースルホン酸塩を製造する。
【化１】

10. 发明专利

JPH10330784A NOVEL SURFACTANT AND DETERGENT COMPOSITION CONTAINING THE SAME 失效
公开(公告)号：JPH10330784A
公开(公告)日：1998-12-15
申请号：JP15811197
申请日：1997-05-30
申请人： LION CORP
发明人： YOKOI KENJI , NAKAGAWA RYUICHI
IPC分类号： A61K8/00 , A61K8/36 , A61K8/37 , A61K8/39 , A61K8/40 , A61K8/42 , A61K8/46 , A61Q5/02 , A61Q19/10 , B01F17/20 , B01F17/44 , C07C59/125 , C07C309/07 , C07C317/18 , C07C323/12 , C07F9/38 , C11D1/06 , C11D1/29 , C11D1/34
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a detergent compsn. which is excellent in stability even when it contains a high concn. of a surfactant and which hardly irritates the skin and exhibits a good lathering by incorporating, into the comsn., a surfactant which is obtd. e.g. by unionizing one end of an alkylene oixde adduct to a glycol compd. SOLUTION: The surfactant is the one represented by the formula, esp. the one which has a nonionic ether group represented by the formula: O(B)m -R and a cationic group represented by the formula: O(B)n -Y and in which the sum of the numbers of carbon atoms of R and R is 6-32. In these formulas, R and R are each H or a 1-30C alkyl or alkenyl group; R is H or a 1-4C alkyl; X is a 1-10C akylene; B is a 2-4C alkyleneoxy; (l) is 0 or 1; (m) is 1-20; (n) is 0-20; Y is (CH2 )p COOM, P(O)(OM)2 , (CH2 )q SO3 M, or CH2 CH(OH)CH2 SO3 M; (p) is 1-3; (q) is 2-4; and M is an alkali or an alkaline earth metal, ammonium, or an org. ammonium.

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