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1. 发明专利

JPWO2019240058A1 フラーレン化合物、磁気記録媒体用潤滑剤及び磁気記録媒体审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019240058A1
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2019022850
申请日：2019-06-10
申请人：昭和電工株式会社
发明人：加藤剛 , 渡邉賢太郎 , 上田祥之
IPC分类号： C07C217/42 , C07C309/10 , C10M105/58 , C07D487/22 , C07D303/36 , G11B5/725 , C10N40/18 , C10N30/08 , C10N30/06 , C07C57/50
摘要：フラーレン化合物、それを含む磁気記録媒体用潤滑剤、および磁気記録媒体を提供する。本発明のフラーレン化合物は、下記一般式(1)で示される、ブレンステッド酸(H n1 X)とブレンステッド塩基([(R 2 R 3 )N−] m1 −R 1 )から形成されるイオン液体であり、前記ブレンステッド酸またはブレンステッド塩基のどちらか一方にフラーレンを有する基を含有し、もう一方にパーフルオロアルキル鎖を含有することを特徴とするフラーレン化合物。 [化1]

2. 发明专利

JP6756120B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物有权
公开(公告)号：JP6756120B2
公开(公告)日：2020-09-16
申请号：JP2016041627
申请日：2016-03-03
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C309/10 , C07C309/08 , C09K3/00 , C08F20/18 , C08F20/28 , C08F20/36 , C08F20/38 , C07D317/72 , C07D215/06 , C07D333/08 , C07D317/70 , G03F7/004

3. 发明专利

JP6752177B2 スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物およびその製造方法有权
公开(公告)号：JP6752177B2
公开(公告)日：2020-09-09
申请号：JP2017087078
申请日：2017-04-26
申请人：株式会社日本触媒
发明人：道尭大祐 , 米田淳郎
IPC分类号： C07C303/32 , C08F16/30 , C07C309/10

4. 发明专利

JP2018502909A オキサチアジン様化合物を作製する方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018502909A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：JP2017551388
申请日：2015-12-17
申请人：ガイストリッヒ・ファルマ・アーゲー , GEISTLICH PHARMA AG
发明人：フィルマン、ロルフ・ヴェー
IPC分类号： C07C309/82 , A61K31/33 , A61P31/04 , A61P35/00 , A61P35/02 , A61P35/04 , C07C303/12 , C07C303/38 , C07C303/40 , C07C309/10 , C07C311/24 , C07D291/06
CPC分类号： C07D291/06
摘要：オキサチアジン様化合物、新たなオキサチアジン様化合物を作製する方法、オキサチアジン様化合物の作製に有用な化合物、及びそれらの使用が開示される。また、オキサチアジン様化合物を投与することによる、癌、細菌感染症、真菌感染症、及び/又はウイルス感染症を患う患者を治療する方法が開示される。これらの化合物は、タウロリジン及びタウルルタムと比較して有意に長い半減期を有することがわかった。

5. 发明专利

JP2015506915A ペンダント官能基を有するフッ素化オリゴマー有权
标题翻译：具有侧挂官能团的含氟低聚物
公开(公告)号：JP2015506915A
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：JP2014545973
申请日：2012-12-04
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー , スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：ザイ‐ミンチウ， , ザイ‐ミンチウ， , ミゲルエイ．ゲラ， , ミゲルエイ．ゲラ，
IPC分类号： C07C59/135 , B01F17/00 , B01F17/02 , B01F17/14 , B01F17/52 , C07C51/41 , C07C303/32 , C07C309/10
CPC分类号： C07C317/18 , C07C59/135 , C07C305/10 , C07C309/10 , C07C315/02 , C08F214/184
摘要：本明細書に記載されているのは、式Iに記載のオリゴマーであって:式中、Yは、サルフェート、カルボキシレート、ホスフェート、ホスホネート、及びスルホネートからなる群から選択されるアニオン性基であり、各X1、X2、及びX3は、F、Cl、H、及びCF3から独立して選択され;Rは連結基であり;各Z1及びZ2はF及びCF3から独立して選択され;mは少なくとも2であり;R1及びR2は末端基であり、このオリゴマーが、サルフェート、カルボキシレート、ホスフェート、ホスホネート、及びスルホネートからなる群から選択されるものを除くペンダント官能基を実質的に含まない。【選択図】なし
摘要翻译：是，本文中所描述的，根据式的低聚物：其中，Y为硫酸根，是羧酸盐，磷酸盐，膦酸盐，和选自由磺酸酯组成的组中的阴离子基团每个X 1，X 2，和X 3，氟，氯，H，和独立地选自CF 3; R为连接基团;每个Z 1和Z 2独立地选自F和CF 3; m是至少 2; R1和R2是末端基团，该低聚物不含有硫酸盐，羧酸盐，磷酸盐，膦酸盐，和悬垂除了那些选自由磺酸酯的实质上的组中选择的官能团。系统技术领域

6. 发明专利

JP2014198681A スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物およびその製造方法审中-公开
标题翻译：含有硫酸基团的组合物的组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2014198681A
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：JP2013074178
申请日：2013-03-29
申请人：株式会社日本触媒 , Nippon Shokubai Co Ltd
发明人： MICHITAKA DAISUKE , YONEDA ATSURO
IPC分类号： C07C309/10 , C07C303/02 , C08F16/30 , C11D3/37
摘要：【課題】長期保存した場合においても優れた色調安定性を有するスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物及びその製造方法を提供する。【解決手段】3−アリルオキシ−2−ヒドロキシ−1−プロパンスルホン酸ナトリウムで代表されるスルホン酸基含有エーテル化合物と、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物とを含み、該硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物の含有量は、スルホン酸基含有エーテル化合物100モル%に対して、2.3〜19モル%であるスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种含有含有磺酸基的醚化合物的组合物，即使长期储存也具有优异的色调稳定性，并提供其制备方法。溶液：提供含有含有由3-烯丙氧基-2-羟基-1-丙磺酸钠表示的含磺酸基的醚的含磺酸基的醚化合物和选自含硫化合物，磷 - 含氮化合物和含氮化合物，其中选自含硫化合物，含磷化合物和含氮化合物的至少一种化合物的含量相对于100摩尔％为2.3〜19摩尔％的含磺酸基的醚化合物。

8. 发明专利

JP2014508110A Method for reducing minerals from anionic surfactant solution 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2014508110A
公开(公告)日：2014-04-03
申请号：JP2013543236
申请日：2011-12-05
申请人：ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー
发明人：アール．スミットマーク , ディー．ドーグスエドワード , エム．コリンズレイモンド
IPC分类号： C07C303/44 , B01D61/02 , B01D61/04 , B01D61/12 , C07C303/32 , C07C309/10
CPC分类号： C02F9/00 , B01D61/027 , C07C303/44 , C07C309/10
摘要：亜硫酸塩の存在下に１種以上のハロゲン化アルキルエーテルの１種以上のストレッカースルホン化反応生成物（ここで、１種以上のストレッカースルホン化反応生成物は、各々、乾燥基準で１種以上の無機塩及び１種以上の界面活性剤成分を含む）と脱イオン水を接触させ、ろ過混合物を形成すること、無機塩の優先的な通過を可能とする、例えば２００ダルトン以上の膜分子量カットオフを有する膜を含む高圧ろ過システム中にろ過混合物を装填すること（ここで、高圧ろ過システムは周囲圧よりも高い圧力で操作され、そして膜の表面にそってろ過混合物の横断流を生じさせる構成となっており、膜を通して実質的に通過する透過液及び膜を通して実質的に通過しない残余液を生じ、該透過液はろ過混合物の質量を基準として１５質量％以下の界面活性剤成分を含む）、を含む、方法が提供される。
摘要翻译：一种方法，包括在亚硫酸盐存在下使去离子水与一种或多种卤代烷基醚的一种或多种降解性磺化反应产物接触，其中所述一种或多种Strecker磺化反应产物各自包含一种或多种基于干燥的无机盐，更多的表面活性剂组分，形成过滤混合物; 将过滤混合物装入含有具有膜分子量截留的膜的高压过滤系统，允许无机盐优先通过，例如大于或等于200道尔顿; 其中所述高压过滤系统在大于环境压力的压力下操作并且被配置成使所述过滤混合物沿所述膜的表面交叉流动，导致基本上通过所述膜的渗透液和基本上不通过所述膜的渗余物溶液通过膜; 其中所述渗透物包含基于所述过滤混合物的重量的小于或等于15重量％的表面活性剂组分。

9. 发明专利

JP2014029506A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2014029506A
公开(公告)日：2014-02-13
申请号：JP2013132412
申请日：2013-06-25
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , YASUE TAKAHIRO , FUJITA SHINGO
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/06 , C07C309/10 , C07C309/17 , G03F7/038 , G03F7/039
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition from which a resist pattern with excellent pattern collapse resistance can be produced.SOLUTION: The resist composition comprises a resin including a structural unit having an acid labile group, an acid generator expressed by formula (I), and an acid generator expressed by formula (II). In the formulae, Rand Reach represent a hydrocarbon group, an alkoxy group, or the like; m and n each represent an integer of 0 to 4; Arepresents an organic anion; Xrepresents an alkanediyl group optionally having a substituent, in which a methylene group constituting the alkanediyl group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Rrepresents a hydrocarbon group optionally having a substituent, in which a methylene group included in the hydrocarbon group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; and Zrepresents an organic cation.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，由此可以产生具有优异图案抗塌陷性的抗蚀剂图案。解决方案：抗蚀剂组合物包括具有酸不稳定基团的结构单元的树脂，由式（I ）和由式（II）表示的酸发生剂。在式中，Rand Reach代表烃基，烷氧基等; m和n各自表示0〜4的整数，表示有机阴离子; X表示任选具有取代基的烷二基，其中构成链烷二基的亚甲基可以被氧原子或羰基取代; R表示任选具有取代基的烃基，其中包括在烃基中的亚甲基可以被氧原子或羰基代替; Z代表有机阳离子。

10. 发明专利

JP2013213033A Novel compound and acid generator 有权
标题翻译：新型化合物和酸发生器
公开(公告)号：JP2013213033A
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：JP2013098712
申请日：2013-05-08
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： KAWAKAMI AKINARI , UTSUMI YOSHIYUKI , HIDESAKA SHINICHI , MARUYAMA NATSUKO
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C309/10 , C07C309/13 , C07C309/17 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07D213/79 , C07D285/00 , C07D307/33 , C07D327/04 , C07D493/18 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, the acid generator comprising the compound, a resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.SOLUTION: A compound is shown by a general formula (b1-11). In the formula (b1-11), Rto Rare each independently an aryl group or an alkyl group, wherein any two of Rto Rmay bond with each other to form a ring along with a sulfur atom in the formula, and at least one of Rto Ris a substituted aryl group having a group shown by a general formula (I) as a substituent; and Xis an anion. In the formula (I), Ris a hydrogen atom of or C1 to C30 organic group which may have a substituent, Qis a divalent linkage group including an ester bond, a thioester bond, or an ether bond.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供可用作抗蚀剂组合物的酸发生剂的新型化合物，包含该化合物的酸产生剂，含有酸产生剂的抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。化合物用通式（b1-11）表示。在式（b1-11）中，Rto Rare各自独立地为芳基或烷基，其中Rto Rmay中的任何两个彼此键合以与式中的硫原子一起形成环，并且至少一个Rto R是具有通式（I）所示基团的取代基的取代基; 而X是阴离子。式（I）中，R为可具有取代基的C 1〜C 30的有机基团的氢原子，Q为包含酯键，硫酯键或醚键的二价连接基团。

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