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    • 9. 发明申请
    • METHOD FOR MANUFACTURING NONVOLATILE MEMORY DEVICE
    • 制造非易失性存储器件的方法
    • US20130029431A1
    • 2013-01-31
    • US13534673
    • 2012-06-27
    • Shigeki TAKAHASHIKyoichi SUGUROJunichi ITOYuichi OHSAWAHiroaki YODA
    • Shigeki TAKAHASHIKyoichi SUGUROJunichi ITOYuichi OHSAWAHiroaki YODA
    • H01L21/306
    • H01L43/12
    • According to one embodiment, a method for manufacturing a nonvolatile memory device including a plurality of memory cells is disclosed. Each of the plurality of memory cells includes a base layer including a first electrode, a magnetic tunnel junction device provided on the base layer, and a second electrode provided on the magnetic tunnel junction device. The magnetic tunnel junction device includes a first magnetic layer, a tunneling barrier layer provided on the first magnetic layer, and a second magnetic layer provided on the tunneling barrier layer. The method can include etching a portion of the second magnetic layer and a portion of the first magnetic layer by irradiating gas clusters onto a portion of a surface of the second magnetic layer or a portion of a surface of the first magnetic layer.
    • 根据一个实施例,公开了一种用于制造包括多个存储单元的非易失性存储器件的方法。 多个存储单元中的每一个包括基底层,其包括第一电极,设置在基底层上的磁性隧道结器件和设置在磁性隧道结装置上的第二电极。 磁隧道结装置包括第一磁性层,设置在第一磁性层上的隧道势垒层,以及设置在隧道势垒层上的第二磁性层。 该方法可以包括通过将气体簇照射到第二磁性层的表面的一部分或第一磁性层的表面的一部分上来蚀刻第二磁性层的一部分和第一磁性层的一部分。