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显影辊、处理卡盒、成像设备和成像方法

阅读：1142发布：2020-08-25

IPRDB可以提供显影辊、处理卡盒、成像设备和成像方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且提供的是显影辊，其包括轴体22、在轴体22的外周上形成的弹性层23和在弹性层23的外周上形成的表面层24。表面层24由含有氟乙烯乙烯基醚共聚物和异氰酸酯的异氰脲酸酯形式的反应产物且膜厚度为0.5μm至2.0μm的聚氨酯形成。显影辊在显影辊表面中具有槽25。槽25与圆周方向的角度是0度至30度。，下面是显影辊、处理卡盒、成像设备和成像方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.显影辊，其包括：

轴体；

在所述轴体的外周上形成的弹性层；和在所述弹性层的外周上形成的表面层，其中所述表面层包含含有氟乙烯乙烯基醚共聚物和异氰酸酯的异氰脲酸酯形式的反应产物的聚氨酯，所述聚氨酯的膜厚度为0.5μm至2.0μm，和其中所述显影辊在所述显影辊的表面中包含槽，所述槽与圆周方向的角度为0度至30度。

2.根据权利要求1所述的显影辊，其中所述槽的宽度为10μm至20μm。

3.根据权利要求1或2所述的显影辊，其中所述槽的长度为20μm至100μm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的显影辊，其中所述槽的深度为5μm至15μm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的显影辊，其中每1mm形成的所述槽的数目为600至

1,100。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的显影辊，其中所述异氰酸酯的异氰脲酸酯形式包含六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯形式。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的显影辊，其中所述表面层包含无机颗粒。

8.根据权利要求7所述的显影辊，其中所述无机颗粒包括平均初级粒径为5nm至30nm的疏水化二氧化硅。

9.根据权利要求7或8所述的显影辊，其中所述无机颗粒的含量为所述表面层的总量的按质量计0.5％至按质量计3.0％。

10.处理卡盒，其包括根据权利要求1至9中任一项所述的显影辊。

11.成像设备，其包括：

图像载体；

充电单元，其被配置以使所述图像载体表面充电；

潜像形成单元，其被配置以在所述图像载体上形成静电潜像；

显影单元，其被配置以将显影剂附着至所述静电潜像以形成可视图像；

转印单元，其被配置以将所述可视图像转印至记录介质上；和清洁单元，其被配置以移除附着于所述图像载体的所述表面上的所述显影剂，其中所述显影单元包括根据权利要求1至9中任一项所述的显影辊。

12.成像方法，其包括：

通过充电单元使图像载体表面充电；

在所述图像载体上形成静电潜像；

将显影剂附着至所述静电潜像以形成可视图像；

将所述可视图像转印至记录介质上；和移除附着于所述图像载体的所述表面上的所述显影剂，其中在附着所述显影剂中，通过根据权利要求1至9中任一项所述的显影辊将所述显影剂附着至所述静电潜像以形成所述可视图像。

说明书全文

显影辊、处理卡盒、成像设备和成像方法

技术领域

[0001] 本发明涉及显影辊、处理卡盒、成像设备和成像方法。

背景技术

[0002] 作为在电子照相中的显影方法已知有单组份(one-component)显影方法。已知单组份显影是具有简单配置的廉价显影方法。在单组份显影中，已知需要用调节刮刀将高线性压力施加至调色剂以便稳定电荷的输送。

[0003] 显影方法中使用的构件的实例包括显影辊。由于上述因素，显影辊表面在整个持续使用期间用调色剂组分成膜并且不能保持初始状态，导致电荷输送能力退化，其已成为单组份显影方法的固有问题。对于此问题，已知在显影辊表面上使用高度可脱模的(highly releasable)材料以抑制成膜的技术，和在显影辊表面中提供微小凹面和凸面以降低接触成膜组分的面积的技术。

[0004] 例如，日本未审查专利申请公开号2004-347664公开显影辊的表面层由含有氟基团和羟基基团的树脂和一种或多种氨基树脂的交联反应产物形成，目的是通过将显影辊的表面层涂布氟而阻止调色剂成膜，和阻止表面层剥离，旨在延长产品寿命。

[0005] 但是，根据专利文件1，当接触显影辊的构件上存在很多粘附时，显影辊具有由于高脱模性所致的差擦除能力，并且不能降低调色剂组分和成膜组分粘附于该构件上。因此，此显影辊不能够克服在显影辊上的薄调色剂层中产生条纹，从而最终在图像如实心图像和半色调图像上生成异常图像如纵向白色条纹的问题。

[0006] 引用列表

[0007] 专利文件

[0008] 专利文件1：日本未经审查专利申请公开号2004-347664

[0009] 发明概述

[0010] 技术问题

[0011] 考虑到上述问题，本发明的目标是提供这样的显影辊，其即便当显影辊具有抑制成膜的高脱模性时，也可以在持续使用中抑制异常图像如纵向白色条纹。

[0012] 问题解决方案

[0013] 为了解决上述问题，本发明的显影辊包括轴体、在轴体的外周上形成的弹性层、和在弹性层的外周上形成的表面层。表面层由聚氨酯形成，所述聚氨酯含有氟乙烯乙烯基醚共聚物和异氰酸酯的异氰脲酸酯形式的反应产物并且膜厚度为0.5μm至2.0μm。显影辊在显影辊的表面中具有槽。槽与圆周方向的角度是0度至30度。

[0014] 发明效果

[0015] 本发明可以提供即便当显影辊具有抑制成膜的高脱模性时，也可以在持续使用中抑制异常图像如纵向白色条纹的显影辊。附图简介

[0016] 图1是呈现显影辊的实例的横截面的示意图；

[0017] 图2A是当对角线地观看时本发明的显影辊的实例的示意图；

[0018] 图2B是呈现当对角线地观看时本发明的显影辊的实例的部分横截面的示意图；

[0019] 图3A是本发明的显影辊的实例中的弹性层的表面的图像视图；

[0020] 图3B是显影辊的另一个实例中的弹性层的表面的图像视图；

[0021] 图4是呈现本发明的显影辊的实例中从圆周方向测量的槽的角度的示意图；

[0022] 图5是示例本发明的处理卡盒的实例的示意图；

[0023] 图6是示例本发明的成像设备的实例的示意图；和

[0024] 图7是示例其中显影辊的表面用调色剂成膜的状态的实例的视图。

[0025] 实施本发明的方式

[0026] 本发明的显影辊、处理卡盒、成像设备和成像方法将参考附图在下面进行描述。本发明并不限于以下描述的实施方式，但任意其它实施方式、增加、修改、删减等在本领域技术人员可想到的范围内是可得的。任意具有本发明的作用和效果的方式意图包括在本发明的范围内。

[0027] (显影辊)

[0028] 本发明的显影辊包括轴体22、轴体22的外周上形成的弹性层23、和弹性层23的外周上形成的表面层24。表面层24由聚氨酯形成，所述聚氨酯含有氟乙烯乙烯基醚共聚物和异氰酸酯的异氰脲酸酯形式的反应产物并且膜厚度为0.5μm至2.0μm。显影辊在显影辊的表面中具有槽25。槽25与圆周方向的角度为0度至30度。

[0029] 图1示例显影辊的实例的横截面的示意图。在图1中，示例了显影辊21、轴体22、轴体22的外周上形成的弹性层23、和弹性层23的外周上形成的表面层24。细节将在下面进行描述。

[0030] <轴体>

[0031] 轴体22不被具体限定并且可为细长正圆柱形金属(例如，铁、铝合金和不锈钢)。

[0032] <弹性层>

[0033] 弹性层23不被具体限定并且可为橡胶组合物。橡胶组合物的橡胶组分的实例包括天然橡胶、氯丁二烯橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、乙烯-丙烯橡胶(EPDM)、丁基橡胶、丙烯腈-丁二烯橡胶(NBR)、异戊二烯橡胶、硅酮橡胶、表氯醇橡胶和尿烷橡胶。

[0034] 弹性层23的厚度优选为1mm至10mm。

[0035] 形成弹性层23的方法不被具体限定，并且方法的实例包括将橡胶组合物在轴体22上挤出成型以及将所得物烧制和硫化的方法。

[0036] <槽>

[0037] 根据本实施方式的显影辊21在显影辊的表面中具有槽。槽与圆周方向的角度是0度至30度。在本实施方式中，显影辊21在具有微小凹面和凸面的弹性层23的表面上具有高度可脱模的薄膜(表面层24)，以在表面中具有槽。

[0038] 图2A和图2B示例当对角线地观看时本发明的显影辊的实施方式的示意图和本发明的显影辊的实施方式的部分横截面的示意图。图2A示例在圆周方向的槽25。图2B示例呈现垂直于圆周方向的表面(即，与辊的轴向平行的表面)的部分横截面视图。图2B示意性地示意图2A的区域A的放大视图。

[0039] 如图2B中所示例的，在表面中形成的槽25具有相对于圆周方向的宽度25a和深度25b。在本实施方式中，如图2B中所示例的，在弹性层23中的凹面的表面上也形成表面层24。
无需在弹性层23中的每个槽中形成表面层24，也可存在其中未形成表面层24的槽，只要本发明可以实现预期效果。

[0040] 根据本实施方式，高度可脱模的薄膜可以抑制成膜并且槽25可以提高擦除成膜组分的能力。在本实施方式中，可以同时实现这些效果。因此，即使显影辊具有抑制成膜的高脱模性，也可以在显影辊的持续使用中抑制异常图像。

[0041] 通过槽25擦除的成膜组分可以与槽25结合至一定程度。因此，能够抑制异常图像的同时抑制成膜。

[0042] 在本实施方式中，已经粘附于接触显影辊21的构件(被称为接触构件)上的成膜组分可以通过在显影辊21的表面中形成的槽25进行擦除。接触构件的实例包括感光体、充电辊和调节刮刀。

[0043] 优选地，槽25具有宽度、长度和深度，其可以结合调色剂至一定程度而不使具有5μm至6μm直径的调色剂颗粒或具有1μm至2μm直径的成膜组分在显影辊21的表面中的凹面中卡住。成膜组分的实例包括调色剂组分中包含的二氧化硅形成的具有约1μm至约2μm直径的聚集体。

[0044] 槽25可具有任意宽度、任意长度和任意深度，其不被具体限定并且可以根据例如成膜组分的大小和调色剂颗粒的大小而改变，只要槽25与圆周方向的角度是0度至30度。但是，优选地，槽25与圆周方向的角度为0度至15度。在本实施方式中，优选地，槽25具有10μm至20μm的宽度、20μm至100μm的长度和5μm至15μm的深度。在这些范围内，可以更好地抑制鳞状图像、条状图像和成膜。

[0045] 图3A和图3B均示例在形成表面层24之前弹性层23的表面的SEM图像的实例。图3A涉及本发明。图3B未涉及本发明。如示例的，沿着由图3A中的标记26所指示的圆周方向形成槽，而在图3B中沿着圆周方向未形成槽，但是条纹以垂直于圆周方向的方向产生。形成槽25的方法将在下面进行描述，但是可以通过研磨表面层23以形成上述的微小凹面和凸面并且随后形成表面层24而形成槽25。

[0046] 图4示例描述槽25与圆周方向的角度的示意图。在图4中，由箭头26指示的槽25与圆周方向的角度由θ表示。角度θ，即，槽25与圆周方向的角度为0度至30度。在此范围内，能够抑制异常图像的同时抑制成膜。当角度大于30度时，可生成异常图像如纵向白色条纹。图4是描述槽25的角度的方便视图。因此，图4中的-30度至0度的角度也被包括在本发明的范围内。

[0047] 当存在多个槽25时，无需所有的槽25以相同方向对齐，而是方向可被改变至一定程度。槽25可彼此交错或可不彼此交错。

[0048] 优选地，每1mm2形成的槽25的数目为600至1,100。在此范围内，可以更好地抑制鳞状图像、条状图像和成膜。当槽的数目少于600时，可产生异常图像如条状图像。当槽的数目大于1,100时，成膜可不被抑制并且可产生异常图像如鳞状图像(图像不均)。

[0049] 形成槽25的方法不被具体限定，并且方法的实例包括以下描述的方法。在轴体22的外周上形成弹性层23。研磨因此形成的弹性层23以形成微小凹面和凸面。在研磨后，涂布用于表面层24的涂布液以形成具有预定膜厚度的表面层24。以这种方式，可以获得在表面中具有槽25的显影辊21。

[0050] 可以将研磨分为粗研磨步骤和最后(finish-up)研磨步骤。

[0051] 对于粗研磨例如可使用可购自Minakuchi Machinery Works Ltd.的LEO600-F4L-BME。对于最后研磨，可使用可购自Minakuchi Machinery Works Ltd.的SZC。

[0052] 可以通过改变研磨条件如带的种类(带计数)、振动频率、带接触频率和完成时间控制槽25的形状(宽度、长度和深度)。

[0053] <表面层>

[0054] 接下来，将描述弹性层23的外周上形成的表面层24。在本实施方式中，表面层24是含有氟乙烯乙烯基醚共聚物和异氰酸酯的异氰脲酸酯形式的反应产物的聚氨酯膜。优选地，表面层24含有无机颗粒(填料)。表面层24可按需要含有其它组分如导电材料。

[0055] 在本实施方式中，表面层24的膜厚度为0.5μm至2.0μm。当表面层24的膜厚度满足上述范围时，弹性层23的微小凹面和凸面可以露出表面。这使其能够阻止异常图像的同时抑制成膜。弹性层23的露出表面的微小凹面和凸面形成显影辊21的表面中的槽25。因此，有助于异常图像的调色剂组分和成膜组分可以与显影辊21结合至一定程度，并且可以提高擦除能力。而且，可以通过高度可脱模的薄膜抑制成膜。

[0056] 当表面层的膜厚度小于0.5μm时，成膜不可以被充分抑制，并且可产生鳞状图像(图像不均)。当表面层的膜厚度大于2.0μm时，成膜不可以被充分抑制，并且可产生条状图像。

[0057] 图7示例其中显影辊——普遍存在的显影辊——的表面用调色剂成膜的状态的实例。图7的下侧中的黑色部分是轴体周围上的弹性体，并且上侧中的稍微白色部分是涂布弹性体的成膜组分。此处的成膜组分是例如，粒径为约1μm的颗粒、壳材料和外加处理油的聚集体。

[0058] 在本实施方式中，通过在显影辊21的表面上提供由上述具体材料形成的表面层24能够抑制这样的成膜。在本实施方式的表面层24中，归因于聚氨酯的氟乙烯乙烯基醚共聚物的部位具有可归因于氟的高脱模功能并且有助于抑制成膜。

[0059] -氟乙烯乙烯基醚共聚物-

[0060] 氟乙烯乙烯基醚共聚物是通过将氟乙烯和乙烯基醚共聚获得的产物。氟乙烯乙烯基醚共聚物不被具体限定。氟乙烯乙烯基醚共聚物的实例包括四氟化基氟树脂(tetrafluoride-based fluororesins)和三氟化基氟树脂(trifluoride-based fluororesins)。在溶剂中的溶解度和与固化剂的反应性方面，优选三氟化基氟树脂，特别优选三氟单氯基氟树脂(trifluoromonochloro-based fluororesins)。

[0061] 商业可购买产品的实例包括可购自Asahi Glass Co.,Ltd的LUMIFLON。此系列商业可购买产品的实例包括可购自Asahi Glass Co.,Ltd的LUMIFLON LF-200。

[0062] -异氰酸酯-

[0063] 在本实施方式中，异氰酸酯的异氰脲酸酯形式被用于表面层24的聚氨酯膜中。

[0064] 作为聚氨酯构成组分的异氰酸酯的实例包括异氰酸酯，如亚甲基二苯基二异氰酸酯(MDI)、甲代亚苯基二异氰酸酯(TDI)、亚二甲苯基二异氰酸酯(XDI)、亚萘基1,5-二异氰酸酯(NDI)、四甲基亚二甲苯基二异氰酸酯(TMXDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、氢化亚二甲苯基二异氰酸酯(H6XDI)、二环己基甲烷二异氰酸酯(H12MDI)、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、二聚酸二异氰酸酯(DDI)、降冰片烯二异氰酸酯(NBDI)和三甲基六亚甲基二异氰酸酯(TMDI)。这些异氰酸酯的异氰脲酸酯形式被使用。这些异氰脲酸酯形式中的一种可被单独使用或这些异氰脲酸酯形式中的两种或多种可被组合使用。

[0065] 在这些异氰脲酸酯形式中，优选甲代亚苯基二异氰酸酯的异氰脲酸酯形式和六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯形式，因为剩余的异氰酸酯具有相对低反应性以使其获取贮存期(pot life)。这些异氰脲酸酯形式中，特别优选六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯形式。

[0066] 这些异氰脲酸酯形式可以是商业可购买的产品。商业可购买的产品的实例包括六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯形式(可购自Mitsui Chemicals，Inc.,D170N)和甲代亚苯基二异氰酸酯的异氰脲酸酯形式(可购自Mitsui Chemicals，Inc.,D262)。

[0067] 当通过ATR方法(衰减全反射吸收光谱法，attenuated total reflection absorption spectroscopy)测量本实施方式中使用的聚氨酯时，红外吸收光谱中的NCO基团的峰强度与羟基基团的峰强度的峰强度比(NCO/OH)优选为5.6至8.8，更优选为6.4至8.0。当峰强度比在指定范围之外时，脱模性可变差以增加成膜。

[0068] -无机颗粒-

[0069] 优选地，本实施方式的表面层24含有无机颗粒(填料)。

[0070] 无机颗粒的实例包括二氧化硅、氧化铝、氧化镁、钛和磁铁矿的颗粒，和这些颗粒的混合物。考虑到涂布液的沉淀，优选具有低比重的二氧化硅或氧化铝。具体地，优选用疏水处理剂如六甲基二硅氮烷(HMDS)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)和二甲基二环硅烷(DDS)疏水化的二氧化硅。

[0071] 疏水化方法的实例包括这样的方法：将疏水处理剂添加至二氧化硅颗粒分散液中，允许疏水处理剂在例如30℃至80℃经历反应以施加疏水化处理，并且随后干燥所得物以获得疏水化二氧化硅，和这样的方法：允许使用例如Henschel混合器使粉末状亲水性二氧化硅和疏水处理剂在约100℃至约200℃加热下经历反应以获得疏水化二氧化硅。

[0072] 无机颗粒优选为平均初级粒径为5nm至30nm，更优选10nm至20nm的二氧化硅。这使其能够抑制二氧化硅由于调色剂的外部添加剂而在显影辊上成膜，并且确保耐擦除稳定性。

[0073] 优选地，表面层含有以表面层总量的按质量计0.5％至按质量计3.0％的量的无机颗粒。在此范围内，可以预期上述的成膜抑制效果而对显影辊的表面的凹面和凸面无不利影响。

[0074] -其它组分-

[0075] 导电材料不被具体限定并且可根据预期目的适当选择。导电材料的实例包括：导电碳如Ketjen black EC和乙炔黑；用于橡胶的碳，如SAF、ISAF、HAF、FEF、GPF、SRF、FT和MT；施加了例如氧化处理的用于颜色的碳和热解碳；金属和金属氧化物，如掺铟氧化锡(ITO)、氧化锡、氧化钛、氧化锌、铜、银和锗；和导电聚合物，如聚苯胺、聚吡咯和聚乙炔。这些导电材料中的一种可被单独使用或这些导电材料中的两种或多种可被组合使用。

[0076] 表面层24中的导电材料的含量不被具体限定，可根据预期目的适当选择，并且相对于100质量份的聚氨酯优选为1质量份至50质量份。

[0077] 其它组分的另外实例包括溶剂、软化剂、加工助剂、抗老化剂、填料、硬化剂和润滑剂。

[0078] 溶剂不被具体限定并且可根据预期目的适当选择。溶剂的实例包括：酮基溶剂，如丙酮、甲基乙基酮和环己酮；芳香烃基溶剂，如甲苯和二甲苯；脂肪烃基溶剂，如己烷；脂环烃基溶剂，如环己烷；酯基溶剂，如乙酸乙酯和乙酸丁酯；醚基溶剂，如异丙醚和四氢呋喃；酰胺基溶剂，如二甲基磺酰胺；卤代烃基溶剂，如氯仿和二氯乙烷；和这些溶剂的混合溶剂。

[0079] 形成表面层24的方法不被具体限定并且可根据预期目的适当选择。可利用以下方法。将氟乙烯乙烯基醚共聚物和异氰酸酯的异氰脲酸酯形式的反应产物、导电材料、填料和其它组分溶解或分散在溶剂中，以制备涂布液。通过例如浸渍法、辊式涂布机法、刮刀法或喷雾法将制备的涂布液涂布在弹性层23上，并且在常温或约50℃至约170℃的高温下干燥，以允许材料反应和固化。

[0080] 也可利用以下方法。将氟乙烯乙烯基醚共聚物、异氰酸酯的异氰脲酸酯形式、导电材料、填料和其它组分溶解或分散在溶剂中，以制备涂布液。通过例如浸渍法、辊式涂布机法、刮刀法或喷雾法将制备的涂布液涂布在弹性层23上，并且在约50℃至约170℃的高温下干燥。以此方式，允许氟乙烯乙烯基醚共聚物和异氰酸酯的异氰脲酸酯形式反应，以获得反应产物并且形成表面层。

[0081] (调色剂)

[0082] 当使用具有核-壳结构和具有高外部添加剂覆盖率的调色剂时，本实施方式的显影辊21同样有效。这样的具有核-壳结构的调色剂是已知的，并且用于生产这样的调色剂的方法和材料不被具体限定。这样的调色剂的实例包括具有通过用例如乙烯基树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂或聚酯树脂涂布调色剂基体的表面获得的结构的调色剂，所述调色剂基体通过湿式制粒法如悬浮聚合法、乳液凝集缔合法和溶解悬浮法生产。

[0083] 当将外部添加剂附着于这样的调色剂的表面上时，获得调色剂颗粒。具有高外部添加剂覆盖率的调色剂指的是由相对于调色剂基体的表面面积外部添加剂的投影面积比例为150％或更大的调色剂基体形成的调色剂。通过假设调色剂基体的表面面积和外部添加剂的投影面积两者均为具有通过测量获得的体积平均直径的球形面积进行此比例的计算。

[0084] 与本实施方式的显影辊21一起使用的调色剂可为单组分型或双组分型。

[0085] 使用的调色剂的粒径不被具体限定并且可根据上述槽25的形状适当改变。例如，当槽25具有10μm至20μm的宽度、20μm至100μm的长度和5μm至15μm的深度时，调色剂的粒径优选为5.0μm至6.0μm。在此情况中，可以将调色剂与槽25结合至一定程度，并且可以更好地抑制成膜。

[0086] (处理卡盒)

[0087] 图5是构成本发明的成像设备的一部分的显影装置的实施方式和处理卡盒单元的实施方式的横截面视图。

[0088] 显影装置150包括被配置以储存调色剂的调色剂储存室101和提供在调色剂储存室101下方的调色剂供给室102。在调色剂供给室102下方提供显影辊103、作为层调节构件的调节刮刀104和供给辊105。调节刮刀104被提供以接触显影辊103。本发明的处理卡盒可附着至成像设备的主体并且可从成像设备的主体拆卸。

[0089] 显影辊103被布置以接触感光体115。将预定的显影偏压从未示例的高压电源施加至显影辊103。在调色剂储存室101中提供调色剂搅拌构件106。在本实施方式中，调色剂搅拌构件106以逆时针方向旋转。

[0090] 在调色剂搅拌构件106的轴向方向，调色剂搅拌构件106具有调色剂搅拌构件106的边缘不通过出口附近的部分。在此部分，调色剂搅拌构件106具有通过旋转驱动输送调色剂的宽表面，以充分流化和搅拌储存的调色剂。调色剂搅拌构件106也具有调色剂搅拌构件106的边缘通过出口附近的部分。在此部分，调色剂搅拌构件106被设定形状以具有通过旋转驱动输送调色剂的窄表面，以防止过量的调色剂引导至出口107。

[0091] 出口107附近的调色剂通过调色剂搅拌构件106充分地疏松，并且通过自身重量穿过出口107，以下降并移动至调色剂供给室102中。供给辊105的表面覆盖有具有含孔(小室)结构的泡沫材料。这使已经被输送至调色剂供给室102中的调色剂充分附着和接收(taken in)，并且也阻止调色剂由于在供给辊105接触显影辊103的接触部分的压力集中而导致的3 14
退化。设置泡沫材料的电阻值为例如10Ω至10 Ω。

[0092] 将具有通过使显影偏压偏移至与使调色剂充电的极性相同的方向获得的值的供给偏压施加至供给辊105。供给偏压作用在将供给辊105与显影辊103接触的接触部分预先充电的调色剂压迫至显影辊103上的方向上。但是，偏移方向不限于以上，而根据调色剂的种类，偏移可为0或偏移方向可被改变。

[0093] 本实施方式的供给辊105以逆时针方向旋转，并且将附着在供给辊105的表面上的调色剂涂布和供给显影辊103的表面。本发明的显影辊被用作显影辊103。显影辊103以逆时针方向旋转以将显影辊103的表面上所承载的调色剂输送至显影辊103面向调节刮刀104和感光体115(图像载体)的位置。调节刮刀104可为金属片弹簧构件，如SUS304CSP、SUS301CSP、或磷青铜。使调节刮刀104的自由端侧以10N/m至100N/m的压力接触显影辊103的表面。调节刮刀104使已经经过压力的调色剂形成薄层并且通过摩擦带电对调色剂赋予电荷。

[0094] 将具有通过使显影偏压偏移至与使调色剂充电的极性相同的方向获得的值的调节偏压施加至调节刮刀104，用于辅助摩擦带电。在本实施方式中，感光体115以顺时针方向旋转。因此，显影辊103的表面在显影辊103面向感光体115的位置处以与感光体115的移动方向相同的方向移动。

[0095] 随着显影辊103旋转，形成薄层的调色剂被输送至显影辊103面向感光体115的位置并且朝向感光体115的表面移动以根据施加至显影辊103的显影偏压和通过感光体115上的静电潜像形成的潜像电场而显影图像。任意剩余在显影辊103上而未在感光体115上被显影为图像的调色剂返回至调色剂供给室102。在返回至调色剂供给室102的途中，提供密封件108以接触显影辊103，并且将调色剂密封以免泄露在显影装置外。

[0096] 感光体115可为不被具体限定并且可根据预期目的适当选择的任意材料、任意形状、任意结构、任意大小等。形状的实例包括鼓状、片状和环形带式形状。结构可为单层结构或层压结构。大小可根据例如成像设备的大小和规格适当选择。在材料方面，感光体115可为由例如非晶硅、硒、CdS或ZnO形成的无机感光体或由例如聚硅烷或酞菁聚甲炔(phthalopolymethine)形成的有机感光体(OPC)。

[0097] 非晶硅感光体通常如下生产：将支持体加热至例如50℃至400℃，并且通过成膜方法如真空沉积法、溅射法、离子电镀法、热CVD(化学气相沉积)法、光CVD法和等离子体CVD法形成a-Si感光层。在这些方法中，特别优选等离子体CVD法。具体地，优选通过直流、高频或微波辉光(microwave glow)放电来分解材料气体以在支持体上形成a-Si感光层的方法。

[0098] 有机感光体(OPC)被广泛使用，是因为例如(1)光学性质，如宽光吸收波长范围和高光吸收量；(2)电学性质，如高灵敏度和稳定的充电性质；(3)宽材料选择范围；(4)易生产；(5)廉价和(6)无毒。有机感光体的层结构被粗略地分为单层结构和层压结构。具有单层结构的图像载体由支撑体和在支撑体上提供的单层感光层形成，并且按需要进一步包括保护层、中间层和任意其它层。

[0099] 具有层压结构的图像载体由支撑体和在支撑体上至少包括按此顺序的电荷产生层和电荷传输层的层压感光层形成，并且按需要进一步包括保护层、中间层和任意其它层。

[0100] 图5示例充电单元116。充电单元116不被具体限定并且可根据预期目的适当选择，只要充电单元116可以将电压施加至感光体115的表面并且使感光体115的表面均匀充电。充电单元116被粗略地分为(1)被配置以接触图像载体并且使图像载体充电的接触式充电单元，和(2)被配置以非接触地使图像载体充电的非接触充电单元。

[0101] (1)接触式充电单元的实例包括导电或半导电的充电辊、磁刷、毛刷、膜和橡胶刮刀。在这些接触式充电单元中，充电辊与电晕放电相比可以显著地抑制臭氧排放量，在图像载体的重复使用中稳定性优异，并且有效防止图像质量退化。(2)非接触充电单元的实例包括利用电晕放电的非接触充电器、针电极装置、固态放电元件和与图像载体的微小间隙布置的导电或半导电充电辊。

[0102] 图5也示例清洁单元117。清洁单元117不被具体限定并且可从已知清洁器适当选择，只要清洁器可以移除感光体115上剩余的调色剂。清洁器的优选实例包括磁刷清洁器、静电刷清洁器、磁辊清洁器、刮刀清洁器、刷清洁器和网清洁器。

[0103] 图5也示例记录介质118。

[0104] (成像设备)

[0105] 本实施方式的成像设备至少包括图像载体、被配置以使图像载体表面充电的充电单元、被配置以在图像载体上形成静电潜像的潜像形成单元、被配置以将显影剂附着至静电潜像以形成可视图像的显影单元、被配置以将可视图像转印至记录介质上的转印单元，以及被配置以移除附着于图像载体表面上的显影剂的清洁单元。成像设备的特征在于显影单元是上述本发明的显影辊。成像设备可按需要进一步包括其它单元。充电单元和曝光单元可被统称为潜像形成单元。细节将在下面进行描述。

[0106] 图6示例本实施方式的成像设备的配置的实例。在图6中，在图像载体1周围示例了例如充电单元3、曝光单元5、显影单元6、转印单元10和清洁单元15。

[0107] 成像的概要将被描述。首先，充电单元3使图像载体1平均地充电。接下来，曝光单元5在均匀充电的图像载体1上形成静电潜像。显影单元6使图像载体1上形成的静电潜像可视。转印单元10将在图像载体1上可视的可视图像转印至已经被输送辊8输送的记录介质9上。为了更好的转印，可使用预转印充电器7。随后，清洁单元15清洁图像载体上剩余的显影剂。

[0108] 单元的细节将在下面进行描述。

[0109] <充电单元>

[0110] 本发明的充电单元3不被具体限定。充电单元3的实例包括由被配置以使图像载体的表面均匀充电的AC/DC重叠充电辊形成的充电单元。由充电辊形成的充电单元3是在图像载体附近布置导电辊(以下被称为充电辊)和将电场施加至充电辊以在充电辊和图像载体之间产生接近放电而使图像载体充电的方法。也可使用上述的毛刷等。

[0111] <曝光单元>

[0112] 曝光单元5不被具体限定并且可根据预期目的适当选择，只要曝光单元5可以将通过充电单元3充电的图像载体表面曝光于成像光作为即将形成的图像。曝光单元5的实例包括各种曝光装置，如复印机光学系统、棒状透镜阵列系统、激光光学系统、液晶快门光学系统和LED光学系统。

[0113] 曝光装置的光源可为任意发光构件，如荧光灯、钨灯、卤素灯、汞灯、钠蒸汽灯、发光二极管(LED)、激光二极管(LD)和场致发光(EL)。

[0114] 为了用仅期望的波长范围的光照射，可以使用各种过滤器，如锐截止过滤器(sharp cut filter)、带通过滤器、近红外截止过滤器、双色向过滤器、干涉过滤器和颜色转换过滤器。在本发明中，也可以利用被配置以使图像载体从图像载体的背面侧曝光于成像光的背光系统。

[0115] <显影单元>

[0116] 本发明的显影辊被用作显影单元6。

[0117] <转印单元>

[0118] 转印单元10是被配置以将可视图像转印至记录介质上的单元。用于转印的方法包括将可视图像从图像载体表面直接转印至记录介质上的方法，以及使用中间转印介质首先将可视图像转印至中间转印介质上，随后再将可视图像转印至记录介质9上的方法。两种模式均是优选使用。但是，当在提高图像质量中担心发生由于转印引起的显著的不利作用时，更优选在前的包括较少转印数的模式(直接转印)。可以通过转印充电器将图像载体充电进行转印，以将可视图像转印至记录介质9上。

[0119] 转印单元10可利用：使用例如转印充电器或偏压辊的静电转印法；机械转印法，如粘合转印法和压力转印法；以及磁转印法。

[0120] <清洁单元>

[0121] 清洁单元15被配置以移除图像载体上剩余的显影剂。清洁单元15不被具体限定，但优选被配置以布置成接触图像载体的类型，因为预期是要移除图像载体表面上剩余的显影剂。可以适当选择已知的清洁器。已知的清洁器的优选实例包括磁刷清洁器、静电刷清洁器、磁辊清洁器、刮刀清洁器、刷清洁器和网清洁器。

[0122] 在上述的转印方法中，可选择适合于从图像载体移除剩余显影剂的方法用于清洁单元15。按需要，每个方法可被单独使用或多个方法可被组合使用。

[0123] <其它单元>

[0124] 其它单元不被具体限定并且可根据预期目的适当选择。其它单元的实例包括定影单元、电荷消除装置、回收单元、控制单元和分离单元。

[0125] -定影单元-

[0126] 定影单元不被具体限定并且可根据预期目的适当选择。优选已知的加热/加压单元。加热/加压单元的实例包括加热辊和加压辊的组合，以及加热辊、加压辊和环形带的组合。一般优选80℃至200℃通过加热/加压单元加热。当颜色调色剂被转印至记录介质上时，每个颜色调色剂可进行定影，或者在颜色调色剂叠加的状态中所有颜色调色剂可同时进行定影。

[0127] -电荷消除单元-

[0128] 可使用电荷消除单元以便消除图像载体1上的潜像。

[0129] 电荷消除单元13不被具体限定并且可从已知的电荷消除装置中适当选择，只要电荷消除装置可以将电荷消除偏压施加至图像载体。已知电荷消除装置的优选实例包括电荷消除灯和电荷消除充电器(charge eliminating charger)。

[0130] -回收单元-

[0131] 被配置以回收附着于图像载体上的显影剂的显影剂收集单元14可被用作回收单元。

[0132] 回收单元不被具体限定。回收单元的实例包括已知的输送单元。

[0133] -控制单元-

[0134] 控制单元不被具体限定并且可根据预期目的适当选择，只要控制单元可以控制每个单元的运转。控制单元的实例包括装置，如定序器和计算机。

[0135] -分离单元-

[0136] 分离充电器11和分离爪12可被用作被配置以从图像载体1分离记录介质9的单元。分离方法的其它实例包括静电吸引诱导分离、侧边缘带分离、前端夹持输送和自分离。

[0137] (成像方法)

[0138] 本实施方式的成像方法包括：通过充电单元使图像载体表面充电的充电步骤；在图像载体上形成静电潜像的潜像形成步骤；将显影剂附着于静电潜像以形成可视图像的显影步骤；将可视图像转印至记录介质上的转印步骤；和移除附着于图像载体表面上的显影剂的清洁步骤。显影步骤的特征在于通过本发明的显影辊将显影剂附着至静电潜像以形成可视图像。

[0139] 即使当使用的显影辊具有抑制成膜的高脱模性时，本发明的处理卡盒、成像设备和成像方法也可以在显影辊的持续使用中抑制异常图像，如纵向白色条纹。实施例

[0140] 本发明将在下面通过实施例和比较实施例的方式进行描述。本发明不应被解释为限于以下所示的实施例。

[0141] (实施例1)

[0142] 将可购自Zeon Corporation的表氯醇橡胶HYDRIN T3106在由SUS制成并具有8cm直径的金属轴(轴体22)上挤出成型，以具有4mm的橡胶厚度，随后在150℃的环境中烧制和硫化90分钟。随后，用可购自Minakuchi Machinery Works Ltd.的研磨器LEO600-F4L-BME粗略地研磨辊表面，随后用可购自Minakuchi Machinery Works Ltd.的SZC以15℃的冷却水温度、以15Hz的振动频率、以3Mpa的带接触压力、在带接触频率为1,675Hz的波动下和以1,300rpm的工作转动速度使用带计数(tape count)#30最后研磨60秒，以形成弹性层23，从而获得显影辊的橡胶基体。

[0143] 接下来，作为表面层24的材料，将可购自Asahi Glass Co.,Ltd.的氟乙烯乙烯基醚LF-200(氟乙烯乙烯基醚共聚物)(0.109质量份)、可购自Mitsui Chemicals，Inc.的异氰脲酸酯D170N(六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯形式)(1质量份)、可购自Fuji颜料Co.,Ltd.的炭黑ACL-4(0.270质量份)和可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM(平均初级粒径为20nm，疏水化二氧化硅)(0.022质量份)添加至乙酸丁酯(6.5质量份)，并且用辊磨机搅拌材料60分钟。向所得物中添加催化剂(可购自Nitto Kasei Co.,Ltd.的NEOSTANN U-820)(0.1质量份)，并且进一步搅拌材料1分钟，从而制备表面层24的涂布液。将获得的涂布液用可购自Atmax，Inc.的喷涂机喷射至显影辊的橡胶基体表面上，在150℃储存所得物1小时，从而获得实施例1的显影辊21。

[0144] 表面层24的膜厚度为1.5μm。槽25的宽度为15μm，长度为50μm和深度为10μm。槽25与圆周方向的角度为0度。槽25的数目为每1mm2 800个。

[0145] (实施例2)

[0146] 以与实施例1相同方式获得实施例2的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带接触频率从1,675Hz改为900Hz，和将槽25的长度从50μm改为95μm。

[0147] (实施例3)

[0148] 以与实施例1相同方式获得实施例3的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带接触频率从1,675Hz改为3,350Hz，和将槽25的长度从50μm改为21μm。

[0149] (实施例4)

[0150] 以与实施例1相同方式获得实施例4的显影辊，除了以下不同于实施例1：将最后研磨时间从60秒改为120秒，和将槽25的深度从10μm改为6μm。

[0151] (实施例5)

[0152] 以与实施例1相同方式获得实施例5的显影辊，除了以下不同于实施例1：将最后研磨时间从60秒改为40秒，和将槽25的深度从10μm改为14μm。

[0153] (实施例6)

[0154] 以与实施例1相同方式获得实施例6的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带计数从#30改为#40，和将槽25的宽度从15μm改为10μm。

[0155] (实施例7)

[0156] 以与实施例1相同方式获得实施例7的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带计数从#30改为#20，和将槽25的宽度从15μm改为20μm。

[0157] (实施例8)

[0158] 以与实施例1相同方式获得实施例8的显影辊，除了以下不同于实施例1：将振动频率从15Hz改为20Hz，和将槽25的数目从800改为1,080。

[0159] (实施例9)

[0160] 以与实施例1相同方式获得实施例9的显影辊，除了以下不同于实施例1：将振动频率从15Hz改为12Hz，和将槽25的数目从800改为640。

[0161] (实施例10)

[0162] 以与实施例1相同方式获得实施例10的显影辊，除了以下不同于实施例1：将乙酸丁酯的含量从6.5质量份改为14质量份，将表面层24的膜厚度从1.5μm改为0.6μm，和将槽25的宽度、长度和深度分别改为16μm、51μm和11μm。

[0163] (实施例11)

[0164] 以与实施例1相同方式获得实施例11的显影辊，除了以下不同于实施例1：将乙酸丁酯的含量从6.5质量份改为2.5质量份，将表面层24的膜厚度从1.5μm改为2.0μm，和将槽25的宽度和深度分别改为14μm和9μm。

[0165] (实施例12)

[0166] 以与实施例1相同方式获得实施例12的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM改为可购自Nippon Aerosil Co.,Ltd.的R976S(平均初级粒径为7nm，疏水化二氧化硅)，和将槽25的长度从50μm改为49μm。

[0167] (实施例13)

[0168] 以与实施例1相同方式获得实施例13的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM改为可购自Nippon Aerosil Co.,Ltd.的NAX50(平均初级粒径为30nm)。

[0169] (实施例14)

[0170] 以与实施例1相同方式获得实施例14的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM的含量从0.022质量份改为0.034质量份，和将填料固体含量比例从2.0％改为3.0％。

[0171] (实施例15)

[0172] 以与实施例1相同方式获得实施例15的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM的含量从0.022质量份改为0.006质量份，和将填料固体含量比例从2.0％改为0.5％。

[0173] (实施例16)

[0174] 以与实施例1相同方式获得实施例16的显影辊，除了以下不同于实施例1：可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM没有被使用。

[0175] (实施例17)

[0176] 以与实施例1相同方式获得实施例17的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带接触频率从1,675Hz改为800Hz，和将槽25的长度从50μm改为105μm。

[0177] (实施例18)

[0178] 以与实施例1相同方式获得实施例18的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带接触频率从1,675Hz改为3,900Hz，和将槽25的长度从50μm改为17μm。

[0179] (实施例19)

[0180] 以与实施例1相同方式获得实施例19的显影辊，除了以下不同于实施例1：将最后研磨时间从60秒改为30秒，和将槽25的深度从10μm改为17μm。

[0181] (实施例20)

[0182] 以与实施例1相同方式获得实施例20的显影辊，除了以下不同于实施例1：将最后研磨时间从60秒改为150秒，和将槽25的深度从10μm改为4μm。

[0183] (实施例21)

[0184] 以与实施例1相同方式获得实施例21的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带计数从#30改为#10，和将槽25的宽度从15μm改为24μm。

[0185] (实施例22)

[0186] 以与实施例1相同方式获得实施例22的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带计数从#30改为#50，和将槽25的宽度从15μm改为8μm。

[0187] (实施例23)

[0188] 以与实施例1相同方式获得实施例23的显影辊，除了以下不同于实施例1：将振动频率从15Hz改为22Hz，和将槽25的数目从800改为1,180。

[0189] (实施例24)

[0190] 以与实施例1相同方式获得实施例24的显影辊，除了以下不同于实施例1：将振动频率从15Hz改为10Hz，和将槽25的数目从800改为540。

[0191] (实施例25)

[0192] 以与实施例1相同方式获得实施例25的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM改为可购自Nippon Aerosil Co.,Ltd.的ALU130(平均初级粒径为20nm，氧化铝)。

[0193] (实施例26)

[0194] 以与实施例1相同方式获得实施例26的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Clariant AG的二氧化硅H20TM的含量从0.022质量份改为0.039质量份，和将填料固体含量比例从2.0％改为3.3％。

[0195] (实施例27)

[0196] 以与实施例1相同方式获得实施例27的显影辊，除了以下不同于实施例1：将槽25与圆周方向的角度从0度改为15度，和将槽25的宽度、长度和深度分别改为17μm、52μm和9μm。

[0197] (实施例28)

[0198] 以与实施例1相同方式获得实施例28的显影辊，除了以下不同于实施例1：将槽25与圆周方向的角度从0度改为30度，和将槽25的宽度、长度和深度分别改为19μm、54μm和8μm。

[0199] (比较实施例1)

[0200] 以与实施例1相同方式获得比较实施例1的显影辊，除了以下不同于实施例1：将乙酸丁酯的含量从6.5质量份改为16质量份，将表面层24的膜厚度从1.5μm改为0.4μm，和将弹性层23中的槽25的宽度、长度和深度分别改为16μm、52μm和11μm。

[0201] (比较实施例2)

[0202] 以与实施例1相同方式获得比较实施例2的显影辊，除了以下不同于实施例1：将乙酸丁酯的含量从6.5质量份改为2质量份，将表面层24的膜厚度从1.5μm改为2.3μm，和将槽25的宽度、长度和深度分别改为13μm、48μm和7μm。

[0203] (比较实施例3)

[0204] 以与实施例1相同方式获得比较实施例3的显影辊，除了以下不同于实施例1：将带计数从#30改为#100，振动频率和带接触压力频率没有被施加，和槽25没有形成。

[0205] (比较实施例4)

[0206] 以与实施例1相同方式获得比较实施例4的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Asahi Glass Co.,Ltd.的氟乙烯乙烯基醚LF-200(0.109质量份)改为可购自Mitsui Chemicals，Inc.的聚氨酯多羟基化合物A2789(0.248质量份)。

[0207] (比较实施例5)

[0208] 以与实施例1相同方式获得比较实施例5的显影辊，除了以下不同于实施例1：将可购自Asahi Glass Co.,Ltd.的氟乙烯乙烯基醚LF-200(0.109质量份)改为可购自Asahi Glass Co.,Ltd.的LF-600(0.094质量份)，和将可购自Mitsui Chemicals，Inc.的异氰脲酸酯D170N(1质量份)改为可购自Asahi Kasei Chemicals Corporation的二价异氰酸酯D101(1质量份)。

[0209] 可购自Asahi Glass Co.,Ltd.的LF-600是侧链长伸张(long-elongated)型的氟乙烯乙烯基醚共聚物。因此，交联点之间的距离将会非常长。

[0210] 可购自Asahi Kasei Chemicals Corporation的二价异氰酸酯D101是双功能型，并且不是异氰脲酸酯形式。

[0211] (比较实施例6)

[0212] 以与实施例1相同方式获得比较实施例6的显影辊，除了以下不同于实施例1：将槽25与圆周方向的角度从0度改为40度，将槽25的宽度、长度和深度分别改为21μm、62μm和8μm，和将填料固体含量比例从2.0％改为0.02％。

[0213] (评价方法)

[0214] 以上获得的显影辊以下面描述的方式进行评价。在下面评价方法1至3中，作为产品的无问题水平是C或更高。

[0215] 1.鳞状图像

[0216] 在10℃和15％RH的环境中，将可购自Ricoh Company,Ltd.的IPSIO C730安装以上获得的每个显影辊和以1％收率1P/J在40,000张上运行。随后，收集2乘2半色调图像以根据下述评价标准评价鳞状图像(浓度不均)。

[0217] 用可购自X-rite Inc的938进行鳞状图像(浓度不均)的评价。通过测量来自20个点的浓度并且计算浓度数据的最大值(MAX)和最小值(MIN)之间的差[最大值(MAX)-最小值(MIN)]获得即将根据下述评价标准评价的值。

[0218] [评价标准]

[0219] A：小于0.03

[0220] B：0.03或更大但小于0.07

[0221] C：0.07或更大但小于0.10

[0222] D：0.10或更大

[0223] 2.纵向白色条纹

[0224] 在27℃和80％RH的环境中，将可购自Ricoh Company,Ltd.的IPSIO C730安装以上获得的每个显影辊并且以1％收率1P/J在40,000张上运行。随后，收集半色调图像/黑色实心图像以根据下述评价标准评价纵向白色条纹。

[0225] [评价标准]

[0226] A：在图像上不存在纵向方向的白色条纹。

[0227] B：在图像上存在1条纵向方向的白色条纹。

[0228] C：在图像上存在2条纵向方向的白色条纹。

[0229] D：在图像上存在3条或更多条纵向方向的白色条纹。

[0230] 3.成膜

[0231] 在27℃和80％RH的环境中，将可购自Ricoh Company,Ltd.的IPSIO C730安装以上获得的每个显影辊并且以1％收率1P/J在20,000张上运行。随后，用FTIR(傅里叶变换红外分光光度计，Fourier transform infrared spectrophotometer)测量粘附在显影辊表面上的二氧化硅的量以根据下述评价标准评价成膜。通过利用FT-IR(可购自Thermo Nicolet Corporation，NEXUS470)的ATR方法的分析获得即将根据下述评价标准评价的值。具体地，通过从获得的IR光谱中确定氰脲酸酯的C＝O的特定峰(约1,680cm-1至约1,690cm-1)和尿烷的C＝O的特定峰(约1,710cm-1至约1,730cm-1)，并且计算峰之间的峰强度比[(氰脲酸酯的C＝O的特定峰)/(尿烷的C＝O的特定峰)]而获得即将根据下述评价标准评价的值。

[0232] [评价标准]

[0233] A：小于0.03

[0234] B：0.03或更大但小于0.10

[0235] C：0.10或更大但小于0.40

[0236] D：0.40或更大

[0237] 4.槽的尺寸

[0238] 用可购自Keyence Corporation的激光显微镜VK8700利用×50透镜以0.1μm的间距拍摄槽的图像。从凹面-凸面分布图(profile)中，从100个槽测量凸面之间的距离，并且将100个槽的距离值求平均作为槽25的宽度。同样地，将100个槽的凸面与凹面的高度差求平均作为槽25的深度，并且将100个槽的凹面的圆周方向长度求平均作为槽25的长度。

[0239] 5.调色剂

[0240] 在上述评价中使用的调色剂在下面进行描述。

[0241] <生产树脂分散体的方法>

[0242] 将十二烷基硫酸钠(0.7质量份)和离子交换水(498质量份)放入装备有冷凝管、搅拌器和氮引入管的反应容器中，并且在搅拌并加热至80℃下溶解。随后，将溶解于离子交换水(104质量份)中的过硫酸钾(2.6质量份)添加至所得物。十五分钟后，将苯乙烯单体(200质量份)和正辛硫醇(4.2质量份)的单体混合液滴加至所得物中90分钟。随后，允许产物在80℃保持下经历聚合反应60分钟，从而获得体积平均粒径为135nm的白色树脂分散体。

[0243] 在培养皿中挑取两毫升的此树脂分散体，并且使分散介质从培养皿中挥发，从而获得干燥物，经测量数均分子量为8,300，重均分子量为16,900，并且Tg为83℃。

[0244] <聚酯1的合成>

[0245] 将双酚A-环氧乙烷2mol加成物(229质量份)、双酚A-二乙酮氧化物(propion oxide)3mol加成物(529质量份)、对苯二酸(208质量份)、己二酸(46质量份)、二丁基氧化锡(2质量份)放置于装备有冷凝管、搅拌器、氮引入管的反应罐中，并且允许在230℃常压下经历反应8小时。进一步允许产物在10mmHg至15mmHg的减压下经历反应5小时。随后，将1,2,4-苯三酸酐(44质量份)添加至反应罐，并且允许材料在180℃常压下经历反应2小时，从而合成聚酯1。

[0246] 获得的聚酯1的数均分子量为2,500、重均分子量为6,700、玻璃化转变温度为43℃以及酸值为25mgKOH/g。

[0247] <聚酯2的合成>

[0248] 将双酚A-环氧乙烷2mol加成物(264质量份)、双酚A-环氧丙烷2mol加成物(523质量份)、对苯二酸(123质量份)、己二酸(173质量份)和二丁基氧化锡(1质量份)放置于装备有冷凝管、搅拌器和氮引入管的反应容器中，并且允许在230℃常压下经历反应8小时。进一步允许产物在10mmHg至15mmHg的减压下经历反应8小时。随后，将1,2,4-苯三酸酐(26质量份)放置于反应容器中，并且允许材料在180℃常压下经历反应2小时，从而获得聚酯2。

[0249] 获得的聚酯2的数均分子量为4,000、重均分子量为47,000、玻璃化转变温度为65℃以及酸值为12mgKOH/g。

[0250] <异氰酸酯改性聚酯的合成>

[0251] 将双酚A-环氧乙烷2mol加成物(682质量份)、双酚A-环氧丙烷2mol加成物(81质量份)、对苯二酸(283质量份)、1,2,4-苯三酸酐(22质量份)和二丁基氧化锡(2质量份)放置于装备有冷凝管、搅拌器和氮引入管的反应容器中，并且允许在230℃常压下经历反应8小时。进一步允许产物在10mmHg至15mmHg的减压下经历反应5小时，从而合成中间体聚酯。

[0252] 获得的中间体聚酯的数均分子量为2,200、重均分子量为9,700、玻璃化转变温度为54℃、酸值为0.5mgKOH/g以及羟基值为52mgKOH/g。

[0253] 接下来，将中间体聚酯(410质量份)、异佛尔酮二异氰酸酯(89质量份)、和乙酸乙酯(500质量份)放置于装备有冷凝管、搅拌器和氮引入管的反应容器中，并且允许在100℃下经历反应5小时，从而获得异氰酸酯改性聚酯。

[0254] <色母粒(masterbatch)的生产>

[0255] 用Henschel混合器将炭黑(可购自Cabot Corporation，REGAL 400R)(40质量份)、粘合树脂——其为聚酯树脂(可购自Sanyo Chemical Industries,Ltd.，RS-801，酸值为10mgKOH/g，Mw为20,000以及Tg为64℃)(60质量份)和水(30质量份)混合，从而获得其中颜料聚集体经水浸湿的混合物。用2个辊表面温度被设置为130℃的辊捏和混合物45分钟，并且用粉碎机粉碎至大小为1mm，从而获得色母粒。

[0256] <油相生产步骤>

[0257] 将聚酯1(545质量份)，[石蜡(熔点为74℃)](181质量份)和乙酸乙酯(1,450质量份)放置于装备有搅拌棒和温度计的容器中，在搅拌下加热至80℃，保持在80℃5小时并且随后冷却至30℃1小时。

[0258] 接下来，将色母粒(500质量份)和乙酸乙酯(100质量份)放置于容器中，并且将材料混合1小时以获得材料溶解液。将材料溶解液(1,500质量份)变更至另一容器，并且使用珠磨机(可购自Imex Co.,Ltd.的ULTRAVISCO MILL)以1kg/hr的液体输送速度、6m/秒的盘式圆周速率、0.5mm氧化锆珠填装至按体积计80％以及3遍经历颜料和蜡的分散。

[0259] 接下来，将聚酯2的按质量计66％乙酸乙酯溶液(655质量份)添加至所得物。在上述条件下用珠磨机使所得物经受1遍，从而获得颜料/蜡分散液。用TK匀质混合器(可购自Primix Corporation)以5,000rpm混合颜料/蜡分散液(976质量份)1分钟。随后，将异氰酸酯改性聚酯(88质量份)添加至所得物。用TK匀质混合器(可购自Primix Corporation)以5,000rpm混合材料1分钟，从而获得油相。

[0260] 测量获得的油相的固体内容物的浓度，为按质量计52.0％。固体内容物中的乙酸乙酯的量为按质量计92％。

[0261] <水相的制备>

[0262] 混合并且搅拌离子交换水(970质量份)、用于分散稳定性的有机树脂颗粒(苯乙烯/甲基丙烯酸/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸-环氧乙烷加成物的硫酸钠盐的共聚物)的按质量计25％水分散液(40质量份)、十二烷基二苯基醚二磺酸钠的按质量计48.5％水溶液(95质量份)和乙酸乙酯(98质量份)，导致pH为6.2。向所得物中滴加按质量计10％氢氧化钠水溶液以将pH调节至9.5，从而获得水相

[0263] <芯粒子生产步骤>

[0264] 将水相(1,200质量份)添加至油相，并且将这些材料用TK匀质混合器混合2分钟，同时将旋转速度调节至8,000rpm至15,000rpm，并且在水浴中冷却下将液体中的温度调节至20℃至23℃的范围内以便抑制由于混合器的剪切热所致的温度升高。用装备有锚爪(anchor blade)的三合一电动机(three-one motor)搅拌产物10分钟，同时将旋转速度调节至130rpm至350rpm，从而获得芯粒子浆料，其中成为芯粒子的油相的液滴被分散在水相中。

[0265] <壳部分的形成>

[0266] 在用装备有锚爪的三合一电动机搅拌下、旋转速度调节至130rpm至350rpm、以22℃的液体温度将树脂分散体(106质量份)和离子交换水(71质量份)的混合物(固体内容物浓度为按质量计15％)滴加至芯粒子浆料中3分钟。在旋转速度调节至200rpm至450rpm下进一步搅拌所得物30分钟，从而获得复合粒子浆料。取出一毫升的复合粒子浆料，稀释至10mL，并且经历离心。结果，上清液透明。

[0267] <脱溶步骤>

[0268] 将复合粒子浆料放置于装备有搅拌器和温度计的容器中，并且于30℃在搅拌下脱溶8小时，从而获得分散浆料。将少量此浆料放在载玻片上并且在×200的放大倍率下用光学显微镜通过盖玻片观察。结果，观察到均匀的着色粒子。将浆料进一步稀释10倍并经历离心。结果，上清液透明。

[0269] <洗涤步骤>

[0270] 将分散浆料(100质量份)在减压下过滤，并且根据下述工序洗涤，从而获得滤饼。

[0271] -将离子交换水(100质量份)添加至滤饼，并且用TK匀质混合器(旋转速度为12,000rpm，10分钟)混合所得物。随后，过滤所得物。

[0272] -将离子交换水(900质量份)添加至获得的滤饼，并且在施加超声振动下用TK匀质混合器(旋转速度为12,000rpm，进行30分钟)混合所得物。随后，在减压下过滤所得物。重复此操作以便重新打浆液体(reslurry liquid)的电导率变为10μC/cm或更小。

[0273] -将按质量计10％盐酸添加至获得的重新打浆液体以将pH调节至4。随后，用三合一电动机搅拌所得物30分钟，随后过滤。

[0274] -将离子交换水(100质量份)添加至获得的滤饼，并且用TK匀质混合器(旋转速度为12,000rpm，进行10分钟)混合所得物。随后，过滤所得物。

[0275] -重复该操作直至重新打浆液体的电导率变为10μC/cm或更小。

[0276] <干燥步骤>

[0277] 用空气循环式干燥器在45℃干燥滤饼48小时，并且通过目径为75μm的筛进行筛分，从而获得调色剂基体。

[0278] <外加步骤>

[0279] 相对于100质量份的调色剂基体，外部添加剂——即可购自Nippon Aerosil Co.,Ltd.的R8200(疏水性二氧化硅)(1.5质量份)、可购自Nippon Aerosil Co.,Ltd.的RY50(疏水性二氧化硅)(3.0质量份)和可购自Titan Kogyo,Ltd.的SW360(钛酸锶)(0.6质量份)被用Henschel混合器搅拌并且筛分。将外部添加剂附着于调色剂基体粒子的表面上，从而获得用于评价的调色剂。调色剂基体粒子上的覆盖率为180％。

[0280] 获得的调色剂的平均粒径为6.0μm。

[0281] 实施例和比较实施例的处方和评价结果呈现于表1中。在表1中，“FEVE”代表氟乙烯乙烯基醚共聚物，“NCO”代表异氰酸酯的异氰脲酸酯形式，以及“填料直径”代表无机颗粒(填料)的平均初级粒径。

[0282] 在实施例1至26和比较实施例1、2、4和5中，槽25与圆周方向的角度为0度。

[0283] 表1

[0284]

[0285] 参考数字的描述

[0286] 1：图像载体

[0287] 3，116：充电单元

[0288] 5：曝光单元

[0289] 6：显影单元

[0290] 7：预转印充电器

[0291] 8：输送辊

[0292] 9，118：记录介质

[0293] 10：转印单元

[0294] 11：分离充电器

[0295] 12：分离爪

[0296] 13：电荷消除单元

[0297] 14：显影剂收集单元

[0298] 15，117：清洁单元

[0299] 21，103：显影辊

[0300] 22：轴体

[0301] 23：弹性层

[0302] 24：表面层

[0303] 25：槽

[0304] 25a：宽度

[0305] 25b：深度

[0306] 26：圆周方向

[0307] 101：调色剂储存室

[0308] 102：调色剂供给室

[0309] 104：调节刮刀

[0310] 105：供给辊

[0311] 106：调色剂搅拌构件

[0312] 107：出口

[0313] 108：密封件

[0314] 115：感光体

[0315] 150：显影装置

标题	发布/更新时间	阅读量
显影辊-专利编号CN103034091A	2020-05-12	511
显影辊-专利编号CN102955395B	2020-05-11	958
显影辊-专利编号CN103576500A	2020-05-12	579
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显影辊-专利编号CN1881105A	2020-05-13	347
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显影辊-专利编号CN110597040A	2020-05-11	1104
显影辊-专利编号CN100565373C	2020-05-13	731
显影辊-专利编号CN103576501A	2020-05-11	1075

显影辊、处理卡盒、成像设备和成像方法

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