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浸涂槽

阅读：440发布：2020-05-11

IPRDB可以提供浸涂槽专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且根据本公开的浸涂槽包括：主体，装有用于浸涂的浆料；入口，所述入口被安装成使浆料从所述主体的外部流入内部；以及出口，所述出口被安装成使浆料从所述主体的内部流出到外部，并且所述入口的位于所述主体内的一端被设置为以一定距离面向所述主体的侧表面，并且朝向所述主体的底表面以预定角度倾斜。根据本公开，通过调整从入口流入浸涂槽的浆料的入射角，可以增加流向底表面的浆料的流速，进而实现通过该浸涂槽循环的浆料中所含的固体物的均匀分布。，下面是浸涂槽专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种浸涂槽，包括：

主体，装有用于浸涂的浆料；

入口，所述入口被安装成使所述浆料从所述主体的外部流入内部；以及出口，所述出口被安装成使浆料从所述主体的内部流出到外部，其中，所述入口的位于所述主体内的一端被设置为以一定距离面向所述主体的侧表面，并且以预定角度朝向所述主体的底表面倾斜。

2.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述入口穿过所述主体。

3.根据权利要求2所述的浸涂槽，其中，所述入口连接到所述主体的所述侧表面。

4.根据权利要求3所述的浸涂槽，其中，所述入口连接到所述侧表面的上部。

5.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述入口设置为多个，并且在所述多个入口之中，至少任意一对入口被安装成，该两个入口的各自的一个端部朝向相反的方向。

6.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述入口通过所述主体的敞开的顶部被插入到所述主体中。

7.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述出口连接到所述主体的所述侧表面。

8.根据权利要求7所述的浸涂槽，其中，所述出口连接到所述侧表面的最下部。

9.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述出口连接到所述主体的所述底表面。

10.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述底表面从两侧到中心向下倾斜。

11.根据权利要求10所述的浸涂槽，其中，所述出口连接到所述底表面上的最低位置。

12.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述主体的所述侧表面上的至少一部分是倾斜的，使得从顶部到底部的方向上内部空间逐渐变窄。

13.根据权利要求1所述的浸涂槽，其中，所述入口被可旋转地安装使得能调整倾斜角度。

说明书全文

浸涂槽

技术领域

[0001] 本公开涉及一种浸涂槽，更具体地，涉及一种具有以下结构的浸涂槽，其能使浆料均匀地分布到该浸涂槽中，并且增强在其底表面处的浆料的流速。

[0002] 本申请要求于2012年7月5日在韩国提交的韩国专利申请No.10-2012-0073402的优先权，其所公开的内容通过引用被并入本案中。

背景技术

[0003] 在生产稳定性改善的电池的隔板时，浸涂是将固体涂层涂布到网膜(web)上的方法之一。浸涂指的是，在网膜沿着位于浸涂槽中的引导辊移动的同时，使网膜穿过在浸涂槽中所盛有的浆料，来使浆料(涂布溶液)涂布到网膜上。

[0004] 涂布了浆料的网膜通过安装在浸涂槽外面的烘干炉，将在浆料中所包含的溶剂烘干，从而仅留下固体物和粘合剂涂布在网膜上。

[0005] 同时，浆料包括约80％的溶剂和余下的20％的固体物和粘合剂，并且由于这些固体物的密度比溶剂的高，在反应时，浸涂槽的底表面会发生固体物的沉淀现象。

[0006] 参见图1，浆料通过连接到浸涂槽侧表面的入口2流入到浸涂槽1中，在浸涂槽中循环，然后通过连接到浸涂槽底表面的出口3流出到循环槽中。

[0007] 然而，由于这种浸涂槽结构的内在缺陷在于在靠近底表面的区域中的浆料流速会减小，因此，难以克服在底表面处发生的固体的沉淀现象。当沉淀量增加时，必须停止涂布过程并进行除去沉淀的操作，导致生产率下降，并且由于固体物被丢弃，不能获得希望的涂布效果。

[0008] 因此，急需一种解决方案，既能将浸涂槽底表面的浆料流速增加到最大程度，同时实现浆料在浸涂槽中的均匀分布。

发明内容

[0009] 技术问题

[0010] 本公开的目的在于解决相关技术领域中的问题，因此，本公开提供一种浸涂槽，其可以实现循环浆料的均匀分布并且增加浆料在底表面的流速。

[0011] 技术方案

[0012] 为了实现这些目标，一种浸涂槽包括：装有用于浸涂的浆料的主体；入口，所述入口被安装成使浆料从所述主体的外部流入内部；以及出口，所述出口被安装成使浆料从所述主体的内部排放到外部，并且所述入口的位于所述主体的内部的一端可以被设置为以一定距离面向所述主体的侧表面，并且可以以预定角度朝向所述主体的底表面倾斜。

[0013] 所述入口可以穿过所述主体。

[0014] 所述入口可以连接到所述主体的所述侧表面。

[0015] 所述入口可以连接到所述侧表面的上部。

[0016] 所述入口可以设置为多个，并且在所述多个入口之中，至少任意一对入口被安装成该两个入口中的各自的一个端部朝向相反的方向。

[0017] 所述入口可以通过所述主体的敞开的顶部被插入到所述主体中。

[0018] 所述出口可以连接到所述主体的侧表面。

[0019] 所述出口可以连接到所述侧表面的最下部。

[0020] 所述出口可以连接到所述主体的底表面。

[0021] 所述底表面可以从两侧朝中心向下倾斜。

[0022] 所述出口可以连接到所述底表面上的最低位置。

[0023] 所述主体的所述侧表面的至少一部分可以是倾斜的，使得在从顶部到底部的方向上内部空间逐渐变窄。

[0024] 所述入口可以被可旋转地安装使得能调整倾斜角度。

[0025] 有益效果

[0026] 根据本公开的一个方面，通过调整从入口流入浸涂槽的浆料的入射角，可以增加浆料朝向底表面的流速，同时使得在该浸涂槽中循环的浆料中所含的固体物实现均匀分布。

[0027] 根据本公开的另一个方面，通过将浸涂槽设计为具有倾斜的底表面，可以最小化沉积在底表面的固体物。

[0028] 根据本公开的又一个方面，通过将浸涂槽设计为浸涂槽的侧表面的至少一部分相对于底表面倾斜，来将底表面面积最小化，可以增加在底表面处的浆料的流速。

附图说明

[0029] 附图示出了本公开的优选实施例，并且与前述公开一起用于提供对本公开的技术精神的进一步理解。然而，不应理解为本公开受到这些附图的限制。

[0030] 图1是示出了常规技术中的浸涂槽的结构的透视图；

[0031] 图2a是示出了根据本公开的示例性实施例的浸涂槽的透视图；

[0032] 图2b是示出了图2a的浸涂槽从A方向观察时的视图；

[0033] 图3a是示出了根据本公开的另一个示例性实施例的浸涂槽的透视图；

[0034] 图3b是示出了图3a的浸涂槽从B方向观察时的视图；

[0035] 图4a是示出了根据本公开的又一个示例性实施例的浸涂槽的透视图；

[0036] 图4b是示出了图4a的浸涂槽从A方向观察时的视图；

[0037] 图5是示出了根据本公开的浸涂槽底表面附近区域出现的浆料流速分布与常规技术的浸涂槽底表面附近区域出现的浆料流速分布的对比曲线图；

[0038] 图6是示出了根据本公开的浸涂槽底表面附近区域出现的固体物的含量比例分布与常规技术的浸涂槽底表面附近区域出现的固体物的含量比例分布的对比曲线图。

具体实施方式

[0039] 以下，将结合附图更详细地描述本公开的优选实施例。在描述之前，应当明白，本说明书和所附权利要求书中使用的术语不应限于通用含义和字典中的含义，而是应当在允许发明人适当地定义以最好地说明本发明原理的前提下，根据与本公开的技术方面相对应的含意和概念来理解。因此，本文中的描述仅仅是用于说明的优选实例，并非用于限制本公开的范围，因此，应当理解，在不脱离本公开的精神和范围的前提下，可以对其做出其它的等同物和修改。

[0040] 首先，参照图2a和图2b来描述根据本公开的示例性实施例的浸涂槽10。

[0041] 图2a是示出了根据本公开的示例性实施例的浸涂槽10的透视图，图2b是示出了图2a的浸涂槽10从A方向观察时的视图。

[0042] 参见图2a和图2b，根据本公开的示例性实施例的浸涂槽10包括主体11、入口12和出口13。

[0043] 主体11是指装有用于浸涂的浆料的容器，并且通常是具有敞开的顶部的长方体。本公开不限制主体11的形状，并且显然具有敞开的顶部、侧面和底面的任何形状的容器均落入本公开的范围中。

[0044] 导辊R安装在主体11内部，并且通过将用于制造电极板或隔板的网膜W浸渍在浆料中同时使所述网膜沿着导辊R移动来进行浸涂。

[0045] 入口12对应于使浆料能从主体11的外部流入内部的通道，并且可以被安装为一个端部12a穿过主体11而被置于其内部。在这种情况下，对入口12的高度没有特别的限制，但是入口12可以被连接到主体11的侧表面的上部以使主体11内有良好的浆料循环。此处，主体11的侧表面的上部，指的是在将侧表面分为两等分时，中间线以上的位置。

[0046] 位于主体11内部的入口12的端部12a面向主体11的一个侧表面，并与该侧表面相距预定距离，并且在朝向主体11的底表面的方向上以预定角度θ倾斜。因此，通过入口12流入到主体11中的浆料，沿着主体11的侧表面向下流动，并且从底表面的边缘流向中心。这种浆料的流动路径可以将主体11的底表面处的流速下降减至最小化，从而使得在浆料中所含的固体物在底表面处沉积的沉淀现象减至最小化。

[0047] 入口12可以被安装为可以绕箭头方向(见图2a)旋转，使得可以调整相对于安装位置的倾斜角θ。

[0048] 另外，当入口12设置为多个时，多个入口12中的至少一对入口12可以被安装为该两个入口的各自的一个端部12a朝向相反的方向以使整个浆料较好的循环。

[0049] 同时，尽管附图中示出了入口12仅穿过主体11的侧表面中的以A方向布置的侧表面，但入口12插入主体11的位置不限于此。也就是说，显然，入口12也可以通过敞开的顶部以及不同于A方向布置的侧表面的其他侧表面而被插入到主体11中。

[0050] 类似地，尽管附图中示出了仅一个入口12安装在各个侧表面中，入口12的数量不限于此。也就是说，显然，考虑到浸涂槽10的大小等因素，可以安装一个入口12或至少3个入口12。

[0051] 出口13对应于连接到主体11以使浆料从主体11的内部流出到外部的通道。对出口13的位置没有特别的限制，但是出口13可以连接到主体11的侧表面的最低部分或底表面，使得浆料可以较容易地排出。在这种情况下，借助于在主体11中所含的浆料的自身重量所形成的压力，浆料可以通过出口13顺利地排出。

[0052] 同时，尽管附图示出了仅设置了一个出口13的情况，出口13的数量不限于此。也就是说，显然，考虑到浸涂槽10的大小、入口12的数量等因素，可以安装至少两个出口13。

[0053] 如前所述，由于根据本公开的示例性实施例的浸涂槽10所具有的结构使得在主体11中流动的浆料能在受侧表面阻挡后朝底表面流动，所以可以将底表面处浆料流速减小的现象降至最小化，从而将在浆料中所含的固体物在底表面处沉淀的现象降至最小化。

[0054] 以下，将结合图3a和图3b描述根据本公开另一个示例性实施例的浸涂槽20。

[0055] 图3a是示出了根据本公开的另一个示例性实施例的浸涂槽20的透视图，图3b是示出了图3a的浸涂槽从B方向观察时的视图。

[0056] 参见图3a和图3b，根据本公开的另一个示例性实施例的浸涂槽20包括：主体21、入口22和出口23。

[0057] 浸涂槽20与根据前一个实施例的浸涂槽10相似，不同之处是主体21的侧表面的形状和底表面的面积。因此，在描述浸涂槽20时，将会省略重复的描述，并且围绕主体21的侧表面的形状和底表面的面积来描述。

[0058] 主体21的侧表面上的至少一部分是倾斜的，使得从顶部到底部内部空间逐渐变窄。也就是说，浸涂槽20具有底表面面积小于敞开的顶部的面积的形状。

[0059] 在这种情况下，随着浆料越来越接近主体21的底表面，浆料流速变快，因此可以将在浆料中所包含的固体物在底表面处沉积的沉淀现象降至最小化。

[0060] 以下，将结合图4a和图4b来描述根据本公开的又一个示例性实施例的浸涂槽20。

[0061] 图4a是示出了根据本公开的又一个示例性实施例的浸涂槽30的透视图，图4b是示出了图4a的浸涂槽30从A方向观察时的视图。

[0062] 参见图4a和图4b，根据本公开的又一个示例性实施例的浸涂槽30包括：主体31、入口32和出口33。

[0063] 浸涂槽30与根据前述实施例的浸涂槽10和浸涂槽20相似，不同之处是主体31的底表面的形状和出口33的安装位置。因此，在描述浸涂槽30时，将会省略重复的描述，并且围绕主体31的底表面的形状和出口33的安装位置来描述。

[0064] 主体31的底表面是倾斜的，使得主体31朝中心变得更深。这种底表面的形状可以将在底表面处浆料流速减小的现象降至最小化，因此不仅能将在浆料中所含的固体物在底表面沉积的沉淀现象降至最小化，而且也能防止沉积物滞留在底表面。

[0065] 当主体31具有倾斜的底表面时，出口33可以连接到底表面上的最低位置，也就是说，位于倾斜平面的相交之处。在这种情况下，出口33可以有效地将沿着倾斜平面向下流动的浆料排出到主体31的外部。

[0066] 如上所述，由于具有倾斜的底表面，根据本公开又一个示例性实施例的浸涂槽30可以更有效地防止底表面处浆料流速减慢的现象，从而更有效地减少在浆料中所含的固体物在底表面处沉积的现象。

[0067] 同时，参见图5，可以对根据本公开的浸涂槽30和根据常规技术的浸涂槽1中的的浆料流速分布进行对比。

[0068] 图5是示出了根据本公开的浸涂槽底表面附近区域出现的浆料流速分布与常规技术的浸涂槽底表面附近区域出现的浆料流速分布的对比的曲线图。

[0069] 具体地，图5的曲线图的横轴表示距在浸涂槽中安装的出口的距离(mm)(即，当以图4b举例时，沿着箭头的方向从浸涂槽的出口33到侧表面的移动距离)，并且纵轴表示在对应点的流速(m/s)。

[0070] 参见图5，对于在底表面附近区域出现的浆料流速分布来说，可以看出，除了非常接近底表面的区域之外，根据本公开的浸涂槽30表现出流速在约0.20m/s至约0.35m/s的范围内，而常规技术的浸涂槽1表现出流速在约0至约0.20m/s的范围内。

[0071] 这种底表面处流速的差别导致根据本公开的浸涂槽30底表面出现的固体物与浆料的含量比例(固体物重量/浆料重量)与常规技术的浸涂槽底表面出现的固体物与浆料的含量比例的差别。

[0072] 图6是示出了根据本公开的浸涂槽底表面附近区域出现的固体物的含量比例分布与常规技术的浸涂槽底表面附近区域出现的固体物的含量比例分布的对比的曲线图。

[0073] 具体地，如图5类似，图6的曲线图的横轴表示距出口33的距离，并且纵轴表示沉淀的程度，即固体物重量与浆料重量之比。

[0074] 参见图6，根据本公开的浸涂槽30底表面的固体物与浆料的含量比例大体上均匀，而常规技术的浸涂槽1底表面附近的固体物与浆料的含量比例分布与根据本公开的浸涂槽30相比更不均匀，此外，其比例值也更高。

[0075] 具体地，根据本公开的浸涂槽30表现出沉淀程度在约0.200至约0.205之间，而常规技术的浸涂槽1表现出约0.205至约0.210的沉淀程度。

[0076] 由于浆料中的固体物含量比例更低，沉积在底表面的固体物减少，因此，通过该含量比例分布曲线图可以知道，与常规技术的浸涂槽1相比，根据本公开的浸涂槽30表现出了更好的性能。

[0077] 详细描述了本公开。然而，应当理解，在解释本公开的实施例时，详细的描述和具体的实例仅用于说明，因为对本领域技术人员来说，在本公开精神和范围内做出的各种变化和修改是显然的。

标题	发布/更新时间	阅读量
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涂料浸涂池-专利编号CN103801665A	2020-05-11	685
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一种浸涂机-专利编号CN104415879A	2020-05-13	601
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浸涂槽-专利编号CN104302410A	2020-05-11	439
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热浸涂装置-专利编号CN100582283C	2020-05-13	671

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