激光蒸发装置专利检索-蒸发物理专利检索查询-专利查询网

积极推动地理标志专门立法

2022-03-10 地理标志，立法，知识产权
保护知识产权是对创新最大的激励

2022-03-10 保护知识产权，创新，激励
谢商华：加快制定知识产权基本法

2022-03-10 知识产权基本法
擦亮“双奥之城”品牌

2022-03-10 双奥，知识产权
让冰雪运动“热”力全开

2022-03-10 冰雪运动，知识产权
携手共奋进　走好强国路

2022-03-10 强国，知识产权
坚持创新引领　方能稳中求进

2022-03-10 创新，稳中求进，知识产权
答好“两张卷” 奋进新征程

2022-03-10 知识产权
专家解读政府工作报告中的创新和知识产权相关部署

2022-03-10 政府工作报告，创新，知识产权
今年政府工作报告指出：加强知识产权保护和运用

2022-03-10 政府工作报告，知识产权保护

激光蒸发装置

阅读：1031发布：2021-03-02

IPRDB可以提供激光蒸发装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明的激光蒸发装置其目的在于使激光入射窗不模糊，并且高产量地在大面积基板上形成化合物薄膜。通过在连续流动的基板与真空槽所包围的圆筒旋转靶之间照射激光，能够使基板连续性地从大气压下送进来成膜，而且没有窗，激光可从缝中入射，可高速地产生化合物薄膜。，下面是激光蒸发装置专利的具体信息内容。

权利要求

1、一种激光蒸发装置其特征在于包括：激光振荡器；激光会聚透镜；侧面照射激光的旋转圆筒靶；向圆筒靶接线方向运动的基板；位于基板上方、覆盖圆筒靶的真空槽；真空槽上开出的激光入射口，基板从大气压地方穿过真空槽内时付着上靶的蒸发物质。

2、如权利要求1所述的激光蒸发装置，其特征在于激光振荡器是脉冲式的。

3、如权利要求1所述的激光蒸发装置，其特征在于靶的激光照射位置沿基板的水平方向移动。

4、如权利要求1所述的激光蒸发装置，其特征在于基板与靶的间隔在10mm以下。

5、如权利要求1所述的激光蒸发装置，其特征在于激光照射到靶与基板间的靶侧部。

6、如权利要求1所述的激光蒸发装置，其特征在于基板沿与激光照射方向相反的方向运动。

7、如权利要求1所述的激光蒸发装置，其特征在于激光入射口呈缝的形状。

说明书全文

本发明涉及用于薄膜器件的化合物膜形成时使用的激光蒸发（レ-ザ-アブレ-シヨン）装置。

以下说明现有的激光蒸发装置（1990年7月出版的大峰恩著《机械与工具》第2页）。

现有的激光蒸发装置是向置于真空槽内的旋转圆筒靶21照射能量密度在门限值以上的激光22，这时有物质23飞出，并使这种物质付着在基板24上。激光一般是将短波长脉冲激光会聚成高能量密度照射的。这时激光是透过真空密封的窗25照射到靶21上的。而且基板设置在真空槽26内。

然而，按照这种方式在大面积基板上形成膜时，就会因蒸发部位较小而需要移动基板，从而需要为基板四倍以上大小的真空槽。而且还有这样的问题，即蒸发粒子付着在激光入射窗25上，使到达靶21上的激光功率减小的问题。

因此，针对上述问题，本发明的目在于提供一种可以在连续流过的基板与由差动排气真空槽所包围的圆筒旋转靶之间照射激光的激光蒸发装置。

为解决上述问题，本发明的激光蒸发装置具有：激光振荡器;会聚激光的透镜;其侧面照射激光的旋转圆筒靶;沿圆筒靶接线方向移动的基板;位于基板上、覆盖圆筒靶的真空槽;开在真空槽上的激光入射口，基板从大气压的地方穿过真空槽内时便付着上靶的蒸发物质。

按照这种结构，可以将大面积基板从大气压下送到蒸发区域，从而提供一种高产量的成膜装置。

图1是实施例激光蒸发装置的俯瞰图。

图2是实施例激光蒸发装置的剖面图。

图3是现有例的激光蒸发装置的剖面图。

以下根据附图说明本发明一实施例。

图1中，激态基态复合物激光器（エキシマレ-ザ-）1振荡产生的蒸发用激光2经透镜3会聚，再由电镀反光镜4反射，照射到圆筒靶5的侧面。圆筒靶5朝X方向旋转。在靶的下方，载于链式输送带上的基板7沿Y方向运动。而且，真空槽8覆盖住圆筒靶5，且位于基板7上方离开例如2mm的间隔。真空槽8上装有真空泵9，并且开着激光2的入射缝10。基板7由堆料机11载置于链式输送带6上，从圆筒靶5的下面通过，成膜后收容到堆料机12中。链式输送带6下安装了基板加热用灯13。

对于这种构造，例如波长为248nm、脉冲宽度27毫微秒的激光2经透镜3在圆筒靶5的侧面会聚为例如2mm×3mm的光斑，通过反光镜4则可以沿与基板7平行的方向扫描例如200mm。圆筒靶5的侧面附着例如铟铜硒（InCuSe3），如图2所示圆筒靶5的物质由激光2轰击出，飞向基板7，形成铟与铜硒的化合物薄膜。这时，例如真空槽8的体积为300mm×200mm×150mm，缝10为220mm×4mm，若用有效排气速度为1300升/秒的油扩散泵9排气，圆筒靶5周围所达到的真空度则约为1Torr。而且，基板是按与激光2入射方向Z相反的方向Y进来的，所以成膜前在真空槽8内移动的时间变长。例如，假使圆筒靶5与基板7的间隔为1mm，而且激光2的照射位置与基板7的间隔为5mm的话，则由于基板7通过圆筒靶5下边之后立刻成膜，所以进入膜中的氧含量也减少。而且通过激光2的照射产生的火舌卷流（プル-ム）14打在基板7上因而更为促进化合物的结晶。

按照本发明的激光蒸发装置，通过在连续流动的基板与真空槽所包围的圆筒旋转靶之间照射激光，能够使基板从大气压下连续地进入成膜区域，不会使激光入射窗发生模糊，而能够高产量地在基板上形成化合物薄膜。

标题	发布/更新时间	阅读量
盘式蒸发器-专利编号CN103673411B	2020-05-12	236
翅片式蒸发器-专利编号CN103697637B	2020-05-13	669
一种蒸发板-专利编号CN103673410A	2020-05-12	851
一种蒸发器-专利编号CN103673407A	2020-05-11	759
蒸发器-专利编号CN103673409B	2020-05-11	680
翅片式蒸发器-专利编号CN103673406B	2020-05-13	906
一种蒸发板-专利编号CN103673410B	2020-05-11	408
翅片式蒸发器-专利编号CN103697637A	2020-05-13	525
盘式蒸发器-专利编号CN103673411A	2020-05-12	932
蒸发器-专利编号CN103673409A	2020-05-11	140

激光蒸发装置

本发明涉及用于薄膜器件的化合物膜形成时使用的激光蒸发（レ-ザ-アブレ-シヨン）装置。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式