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真空镀膜机

阅读：98发布：2021-03-03

IPRDB可以提供真空镀膜机专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括至少一个镀膜腔以及至少一个过渡腔，所述镀膜腔和所述过渡腔之间通过真空隔离阀连通。本实用新型由于采用由真空隔离阀将两个过渡腔与镀膜腔隔离开，保证真空镀膜腔内一直保持高真空状态。工件装卸、预抽真空、加热、离子清洗等工序都将在过渡腔完成，由于有两个过渡腔交替进行进料和出料工作，镀膜腔将始终保持镀膜状态，这样溅射电源以及溅射源这些造价昂贵的部件始终处在工作状态，极大的提高了设备的利用率。同时，真空镀膜腔内始终保持高真空，杜绝了真空度以及吸气量等不利因素对镀膜质量和稳定性的影响。，下面是真空镀膜机专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种真空镀膜机，包括：至少一个镀膜腔以及至少一个过渡腔，其特征在于：所述镀膜腔和所述过渡腔之间通过真空隔离阀连通。

2.如权利要求1所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述一个镀膜腔的两侧分别通过真空隔离阀连通有第一过渡腔和第二过渡腔。

3.如权利要求1或2所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜腔包括至少一个溅射源。

4.如权利要求3所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述的溅射源包含磁控溅射源或电弧溅射源。

5.如权利要求1或2所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜腔和所述过渡腔内均至少设置有一个工件架。

6.如权利要求5所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述工件架是下承载方式绝缘固定在一块可移动的托板上。

7.如权利要求6所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述托板设置有可在相邻的所述镀膜腔和所述过渡腔的腔体间移动的结构。

8.如权利要求1或2所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜腔和所述过渡腔的腔体内设置有可上下移动并旋转的顶杆。

9.如权利要求8所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述顶杆与所述腔体绝缘。

10.如权利要求8所述的一种真空镀膜机，其特征在于，所述顶杆对工件架进行定位并带动工件架旋转。

说明书全文

真空镀膜机

技术领域

[0001] 本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜机。背景技术

[0002] 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。目前，常用的离子镀膜设备，尤其是五金离子镀膜设备，都是采用单个真空腔体，在腔体中设置溅射源，经过抽气→镀膜→放气三个步骤进行真空镀膜。每次装料、卸料都将腔门打开进行操作，整个周期大部分时间用在抽气、前处理、冷却、上下工件这些过程，设备的利用率很低。这种操作过程每个循环真空腔体都将暴露大气，靶材与大气接触将会导致靶材的氧化，腔体会吸附大量的水蒸气及其它杂质气体，这样就会降低镀膜质量和稳定性，对大批量和高标准生产带来不利；同时腔体内被镀上的不牢固膜层吸附水蒸气后会松动脱落，粉尘掉落在工件上会带来大量的不良品。这些技术问题业内还没有较好的技术方案予以解决。实用新型内容

[0003] 本实用新型要解决的技术问题是，提供一种真空镀膜机，该真空镀膜机生产效率高、靶材不易被氧化、镀膜质量稳定优良。

[0004] 为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种真空镀膜机，包括：至少一个镀膜腔以及至少一个过渡腔，所述镀膜腔和所述过渡腔之间通过真空隔离阀连通。 [0005] 优选的技术方案是，所述一个镀膜腔的两侧分别通过真空隔离阀连通有第一过渡腔和第二过渡腔。所述镀膜腔包括至少一个溅射源。所述的溅射源包含有磁控溅射源或电弧溅射源。

[0006] 更进一步优选的技术方案是，所述镀膜腔和所述过渡腔内均至少设置有一个工件架。所述工件架是下承载方式绝缘固定在一块可移动托板上。所述托板设置有可在相邻的所述镀膜腔和所述过渡腔的腔体间移动的结构。所述镀膜腔和所述过渡腔的腔体内设置有可上下移动并旋转的顶杆。所述顶杆与所述腔体绝缘。所述顶杆对所述工件架进行定位并带动所述工件架旋转。

[0007] 本实用新型由于采用由真空隔离阀将两个过渡腔与镀膜腔隔离开，保证真空镀膜腔内一直保持高真空状态。工件装卸、预抽真空、加热、离子清洗等工序都将在过渡腔完成，由于有两个过渡腔交替进行进料和出料工作，镀膜腔将始终保持镀膜状态，这样溅射电源以及溅射源这些造价昂贵的部件始终处在工作状态，极大的提高了设备的利用率。同时，真空镀膜腔内始终保持高真空，杜绝了真空度以及吸气量等不利因素对镀膜质量和稳定性的影响。

附图说明

[0008] 图1是本实用新型一种真空镀膜机横截面的示意图；

[0009] 图中：1.第一过渡腔抽气口，2.过渡腔，3.第一镀膜腔抽气口，4.镀膜腔，5.第二真空隔离阀，6.第二过渡腔，7.第二过渡腔，8.工件架，9.第二过渡腔门，10.磁控溅射源，11.电弧溅射源，12.第一真空隔离阀，13第一过渡腔门。

具体实施方式

[0010] 下面结合附图对本实用新型的优选实施方式进行详细说明。

[0011] 如图1所示，本实用新型一种真空镀膜机，包括：第一过渡腔(2)，镀膜腔(4)，第二过渡腔(7)三个真空腔体，其中第一真空隔离阀(12)将第一过渡腔(2)和镀膜腔(4)隔离开来；第二真空隔离阀(5)将镀膜腔(4)和第二过渡腔(7)隔离开来，从而可以形成三个独立的真空腔体。

[0012] 在第一过渡腔(2)，镀膜腔(4)，第二过渡腔(7)中均装有若干个磁控溅射源，可以根据不同的工艺要求在每个腔体内进行溅射镀膜。在镀膜腔(4)中设置有若干个电弧溅射源(11)，在镀膜腔中可用磁控溅射源(10)和电弧溅射源(11)同时或先后进行溅射镀膜，可以用不同的靶材镀制不同的膜层或是合金膜，从而满足更多要求的镀膜需求。 [0013] 其中，工件架(8)采用下承载方式，固定在一块可移动的托板上，并与托板绝缘，托板承载整个工件架(8)在相邻腔体中移动。

[0014] 每个腔体上装有可以上下移动并旋转的顶杆，顶杆与腔体绝缘，由顶杆对工件架(8)进行定位，同时带动工件架(8)旋转，并将电源与工件架(8)导通。

[0015] 在实际操作过程中可根据工艺要求的不同，设置多个过渡腔和多个镀膜腔。 [0016] 本实用新型一种真空镀膜机的工作过程为：

[0017] 1.在第一过渡腔(2)中的工件架(8)上装好被镀工件，关好第一过渡腔门(13)，对第一过渡腔(2)进行抽气，同时对第一过渡腔(2)中的工件进行加热和离子清洗及各种前处理。

[0018] 2.待第一过渡腔(2)中的工件处理完成，打开第一真空隔离阀(12)，将在第一过渡腔(2)中的工件架(8)运送到镀膜腔并关闭第一真空隔离阀(12)，准备进行镀膜，同时第一过渡腔(2)进入等待阶段。

[0019] 3.镀膜腔(4)内的真空度达到一定要求时开始对镀膜腔(4)中的工件进行镀膜处理。

[0020] 4.在镀膜腔(4)在镀膜工作时，第二过渡腔(7)中的工件架(8)也装好被镀工件，同第一过渡腔(2)一样完成工件镀膜的准备工作。

[0021] 5.待镀膜腔(4)完成镀膜工作后打开第一真空隔离阀(12)，将镀膜腔(4)中的工件架(8)运送到第一过渡腔(2)，关闭第一真空隔离阀(12)。第一过渡腔(2)内的工件镀膜完成，等待出料。

[0022] 6.此时第二过渡腔(7)中的工件已完成前期准备工作，打开第二真空隔离阀(5)，将在第二过渡腔(7)中的工件架(8)运送到镀膜腔并关闭第二真空隔离阀(5)，准备进行镀膜，同时第二过渡腔(7)进入等待阶段。

[0023] 7.对第一过渡腔(2)破真空，取出镀好的工件，重新装入被镀工件，重复步骤1，完成第一过渡腔(2)的工作循环。

[0024] 8.重复步骤3，完成第二次镀膜处理。

[0025] 9.待镀膜腔(4)完成镀膜工作后打开第二真空隔离阀(5)，将镀膜腔(4)中的工件架(8)运送到第二过渡腔(7)，关闭第二真空隔离阀(5)。过渡腔(7)内的工件镀膜完成，等待出料。

[0026] 10.此时镀膜腔又开始完成第一过渡腔(2)的第二次镀膜。而第二过渡腔(7)重复步骤7中第一过渡腔(2)的动作，完成第二过渡腔的单次循环，准备进入下个循环。 [0027] 如此不停的进行第一过渡腔和第二过渡腔的交替工作，始终保持镀膜腔(4)处在最佳的镀膜状态，工作效率也会更高。

[0028] 最后需要说明的是，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，而不是对本实用新型技术方案的限定，任何对本实用新型技术特征所做的等同替换或相应改进，仍在本实用新型的保护范围之内。

标题	发布/更新时间	阅读量
真空泵-专利编号CN105429328A	2020-05-11	330
真空泵-专利编号CN104343699A	2020-05-11	968
真空泵-专利编号CN104295509A	2020-05-11	443
真空泵-专利编号CN103850949A	2020-05-12	665
真空系统-专利编号CN104100715A	2020-05-11	493
真空泵-专利编号CN104019041A	2020-05-12	179
真空泵-专利编号CN100585188C	2020-05-13	363
真空泵-专利编号CN102007299B	2020-05-12	216
真空泵-专利编号CN103244421A	2020-05-13	1068
真空管路-专利编号CN101595337A	2020-05-13	699

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