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首页 / 专利库 / 物理 / / 摩擦力 / 一种降低摩擦力的轴承

一种降低摩擦力的轴承

阅读:1020发布:2021-01-28

IPRDB可以提供一种降低摩擦力的轴承专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一降低摩擦力的轴承,包括外圈、内圈,滚动体、保持架和滚动轮,所述外圈内侧设有内圈,所述外圈和内圈之间设有若干滚动体,所述滚动体之间设有保持架,所述保持架两端固定安装有3个滚动轮,所述滚动轮与滚动体滚动摩擦,所述外圈内表面和内圈的外表面均设有凹槽,凹槽的宽和深相等,且凹槽深度之和为滚动体直径的1/3,所述滚动体呈圆柱体状,其长度与外圈和内圈凹槽的宽度相同,且能充斥的安放在外圈和内圈上的凹槽内,所述保持架通过滚动轮与滚动体连接并能将滚动体均匀分布在凹槽内,且保持架也能通过其两端滚动轮与滚动体的接触使自身出于平衡状态,与现有技术相比,能够进一步减小滚动体的摩擦力,提高轴承性能和使用寿命。,下面是一种降低摩擦力的轴承专利的具体信息内容。

1.一种降低摩擦力的轴承,其特征在于:包括外圈(1)、内圈(2),滚动体(3),保持架(4)和滚动轮(5),所述外圈(1)内侧设有内圈(2),所述外圈(1)和内圈(2)之间设有若干滚动体(3),所述滚动体(3)之间设有保持架(4),所述保持架(4)两端固定安装有3个滚动轮(5),所述滚动轮(5)与滚动体(3)滚动摩擦。

2.如权利要求1所述的一种降低摩擦力的轴承,其特征在于:所述外圈(1)内表面和内圈(2)的外表面均设有凹槽,凹槽的宽和深相等,且凹槽深度之和为滚动体(3)直径的三分之一。

3.如权利要求1所述的一种降低摩擦力的轴承,其特征在于,所述滚动体(3)呈圆柱体状,其长度与外圈(1)和内圈(2)的凹槽的宽度相同,且能充斥的安放在外圈(1)和内圈(2)上的凹槽内。

4.如权利要求1至3中任一项所述的一种降低摩擦力的轴承,其特征在于:所述保持架(4)通过滚动轮(5)与滚动体(3)连接并能将滚动体(5)均匀的分布在凹槽内,且保持架(4)也能通过其两端滚动轮(5)与滚动体(3)的接触使自身出于平衡状态。

说明书全文

一种降低摩擦力的轴承

【技术领域】

[0001] 本实用新型涉及机械领域,特别是一种降低摩擦力的轴承。【背景技术】
[0002] 轴承是当代机械设备中一种重要零部件。它的主要功能是支撑机械旋转体,降低其运动过程中的摩擦系数,并保证其回转精度。按运动元件摩擦性质的不同,轴承可分为滚动轴承和滑动轴承两大类。目前的滚动轴承中,滚动体虽然可以滚动,但保持架与滚动体滑动摩擦,会产生较大的摩擦力,致使滚动体的旋转速度受限、旋转时温度过高,轴承本身的寿命受到一定的影响。【实用新型内容】
[0003] 本实用新型的目的就是解决现有技术中的问题,提出一种降低摩擦力的轴承,能够进一步减小滚动体的摩擦力,提高轴承性能,延长轴承的使用寿命。
[0004] 为实现上述目的,本实用新型提出了一种降低摩擦力的轴承,包括外圈、内圈,滚动体,保持架和滚动轮,所述外圈内侧设有内圈,所述外圈和内圈之间设有若干滚动体,所述滚动体之间设有保持架,所述保持架两端固定安装有3个滚动轮,所述滚动轮与滚动体滚动摩擦。
[0005] 作为优选,所述外圈内表面和内圈的外表面均设有凹槽,凹槽的宽和深相等,且凹槽深度之和为滚动体直径的三分之一。
[0006] 作为优选,所述滚动体呈圆柱体状,其长度与外圈和内圈的凹槽的宽度相同,且能充斥的安放在外圈和内圈上的凹槽内。
[0007] 作为优选,所述保持架通过滚动轮与滚动体连接并能将滚动体均匀的分布在凹槽内,且保持架也能通过其两端滚动轮与滚动体的接触使自身出于平衡状态。
[0008] 本实用新型的有益效果:本实用新型通过在保持架两端固定安装滚动轮,使滚动轮与滚动体滚动摩擦,降低了摩擦系数,与现有技术相比,能够进一步减小滚动体的摩擦力,提高轴承性能,延长轴承的使用寿命。
[0009] 本实用新型的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。【附图说明】
[0010] 图1是本实用新型一种降低摩擦力的轴承的结构示意图。
[0011] 图中:1-外圈、2-内圈、3-滚动体、4-保持架、5-滚动轮。【具体实施方式】
[0012] 参阅图1,本实用新型一种降低摩擦力的轴承,包括外圈1、内圈2,滚动体3,保持架4和滚动轮5,所述外圈1内侧设有内圈2,所述外圈1和内圈2之间设有若干滚动体3,所述滚动体3之间设有保持架4,所述保持架4两端固定安装有3个滚动轮5,所述滚动轮5与滚动体3滚动摩擦,所述外圈1内表面和内圈2的外表面均设有凹槽,凹槽的宽和深相等,且凹槽深度之和为滚动体3直径的三分之一,所述滚动体3呈圆柱体状,其长度与外圈1和内圈2的凹槽的宽度相同,且能充斥的安放在外圈1和内圈2上的凹槽内,所述保持架4通过滚动轮5与滚动体3连接并能将滚动体5均匀的分布在凹槽内,且保持架4也能通过其两端滚动轮5与滚动体3的接触使自身出于平衡状态。
[0013] 本实用新型工作过程:
[0014] 本实用新型一种降低摩擦力的轴承在工作过程中,通过在保持架4两端固定安装滚动轮5,滚动轮5与滚动体3相接触,当轴承处于工作状态时,滚动轮5与滚动体3产生滚动摩擦,降低了滚动轮5与滚动体3之间的摩擦系数,与现有技术相比,能够进一步减小滚动体的摩擦力,提高轴承性能,延长轴承的使用寿命。
[0015] 上述实施例是对本实用新型的说明,不是对本实用新型的限定,任何对本实用新型简单变换后的方案均属于本实用新型的保护范围。
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