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1. 发明专利

JP2018125379A 合成石英ガラスリッド用基材及び合成石英ガラスリッド並びにそれらの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018125379A
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：JP2017015449
申请日：2017-01-31
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：松井晴信 , 原田大実 , 竹内正樹
IPC分类号： C03C17/36 , C03C17/40 , H01L23/02
CPC分类号： C03C27/046 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C17/10 , C03C17/40 , C03C21/008 , C03C27/00 , C03C27/048 , C03C2217/256 , C03C2217/268 , C03C2217/27 , C03C2217/77 , C04B37/045 , C04B2235/5454 , C04B2237/125 , C04B2237/343 , C04B2237/366
摘要：【解決手段】合成石英ガラス基板の表面上に、金属膜又は金属化合物膜を有し、金属膜又は金属化合物膜が、銀及びビスマスを含み、更に、リン、アンチモン、スズ及びインジウムからなる群から選ばれる1つ以上の元素を含む合成石英ガラスリッド用基材を製造し、更に、金属膜又は金属化合物膜の上に、金属系接着層を形成することにより合成石英ガラスリッドを製造する。【効果】本発明によれば、紫外線領域など短波長領域の光学素子を収容する収容部材と接着した場合であっても、長期間安定して接着状態を維持することができ、更に、応力がかかる環境下にあっても接着部が破壊されることなく、長期間安定して使用することができる光学素子パッケージを得ることができる合成石英ガラスリッド及びその基材である合成石英ガラスリッド用基材を提供することができる。【選択図】図1

2. 发明专利

JP6341927B2 非晶質溶融シリカガラスの多孔性セル状構造、およびそれらの製造方法有权
公开(公告)号：JP6341927B2
公开(公告)日：2018-06-13
申请号：JP2015545440
申请日：2013-11-27
申请人：コーニングインコーポレイテッド
发明人：ビール,ダグラスマンロー , タナー,キャメロンウェイン
IPC分类号： B01J35/04 , B01J21/08 , B01D53/94 , C03B19/06
CPC分类号： C04B38/0635 , B01D39/2003 , B01D69/10 , C03B19/066 , C03B19/08 , C03C11/007 , Y10T428/268

3. 发明专利

JP2018513093A 極紫外線リソグラフィーに使用するためのガラス複合体审中-公开
公开(公告)号：JP2018513093A
公开(公告)日：2018-05-24
申请号：JP2017549726
申请日：2016-03-22
申请人：コーニングインコーポレイテッド
发明人：アンナーマライ,セジアン
IPC分类号： C03B23/203 , C03B25/02 , C03B32/02 , C03C3/06
CPC分类号： C03C10/0009 , B32B3/28 , B32B5/16 , B32B5/30 , B32B7/04 , B32B17/06 , B32B37/04 , B32B2260/025 , B32B2260/04 , B32B2264/101 , B32B2264/102 , B32B2264/12 , B32B2307/30 , B32B2307/416 , B32B2307/704 , B32B2307/732 , B32B2551/00 , C03B19/066 , C03B23/203 , C03B32/02 , C03B2201/06 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C3/076 , C03C27/06 , C03C2201/10 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/28 , C03C2201/42 , C03C2203/50 , C03C2203/52 , C03C2204/00 , G02B5/0891 , G03F1/60
摘要：極紫外線リソグラフィー(EUVL)に使用するためのガラス複合体が提供される。そのガラス複合体は、第1のシリカ・チタニアガラス部分を含む。そのガラス複合体は、第1のシリカ・チタニアガラス部分の表面に機械的に結合された第2のドープされたシリカ・チタニアガラス部分をさらに含み、その第2のドープされたシリカ・チタニアガラス部分の厚さは、約1.0インチ(約2.5cm)超である。

4. 发明专利

JP2017210403A 細孔を含む不透明石英ガラスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017210403A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2017102707
申请日：2017-05-24
申请人：ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト , Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人：クリスティアンシェンク , ゲリトシャイヒ , ナディーヌチョリッチュ
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03B20/00 , C03B19/066 , C03B2201/02
摘要：【課題】細孔を含む不透明石英ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】公知の製造方法から出発して、(i)方法工程(b)の熱緻密化に際して、BET吸着測定により測定された0.025m 2 /gから2.5m 2 /gの範囲の比表面積BET(A)を有する部分緻密化SiO 2 造粒粒子を製造し、かつ(ii)方法工程(d)の破砕に際して、BET吸着測定により測定された4m 2 /gから10m 2 /gの範囲のBET比表面積(B)を有するSiO 2 造粒粒子の破砕物を製造する。【選択図】図1

5. 发明专利

JP2015527962A ドープされたＳｉＯ２スラリーの製造方法、ならびにそのＳｉＯ２スラリーの使用有权
标题翻译：制造掺杂的SiO 2料浆的方法，以及使用在SiO 2浆料的
公开(公告)号：JP2015527962A
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：JP2015519041
申请日：2013-06-25
申请人：ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人：ズーフマリオ , ズーフマリオ , シェッツゲアハート , シェッツゲアハート , ラングナーアンドレアス , ラングナーアンドレアス
IPC分类号： C01B33/146 , C03B20/00
CPC分类号： C09K11/7706 , C01B33/18 , C03B19/066 , C03B2201/06 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/36 , C03C1/006 , C03C3/06 , C03C3/061 , C03C4/12 , C03C2201/06 , C03C2201/3488 , C03C2201/36 , C09K11/025
摘要：本発明は、SiO2懸濁液と少なくとも1種のドープ溶液とを相互作用させる、ドープされたSiO2スラリーの製造方法であって、ここで、前記SiO2懸濁液および/または前記ドープ溶液が噴霧物として相互に作用し、その噴霧物の平均液滴径が10μm〜100μmの範囲にある前記製造方法に関する。本発明は、さらに、前記噴霧方法を用いてドープされたSiO2スラリーの、ドープされた石英ガラスの製造、特にレーザー活性石英ガラスの製造のための使用に関する。
摘要翻译：本发明中，二氧化硅悬浮液并使其与至少一种掺杂溶液中，掺杂的SiO 2料浆的生产方法，其中所述的SiO 2悬浮液和/或浓液溶液喷雾产物相互作用相互作用如涉及喷涂材料的平均液滴尺寸的制造方法是在10微米的范围内 - 百米。本发明进一步涉及使用所述喷雾法，所生产的掺杂石英玻璃的，用于生产激光活性石英玻璃的使用的特别掺杂使用的SiO 2淤浆。

6. 发明专利

JP2015509480A ペースト状ＳｉＯ２材料を製造および加工するための方法、ならびにその使用有权
标题翻译：用于产生和处理的SiO 2糊状材料的方法，以及它们的使用
公开(公告)号：JP2015509480A
公开(公告)日：2015-03-30
申请号：JP2014560372
申请日：2013-03-07
申请人：ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人：ヴェーバーユルゲン , ヴェーバーユルゲン , トレーガーノアベアト , トレーガーノアベアト , シャイヒゲリト , シャイヒゲリト , ヴェアデッカーヴァルトラウト , ヴェアデッカーヴァルトラウト , シェンククリスティアン , シェンククリスティアン , ペークハウスヨアヒム , ペークハウスヨアヒム , マイアー−メアゲートケアスティン , マイアー−メアゲートケアスティン , パンカラゼバスティアン , パンカラゼバスティアン
IPC分类号： C01B33/12 , C04B35/622
CPC分类号： C01B33/1417 , B05D5/005 , B05D2203/35 , B05D2601/22 , B82Y30/00 , C01B33/158 , C01P2004/64 , C03B19/066 , C03C3/076 , C03C8/02 , C03C17/25 , C03C2205/00 , C03C2217/213 , C03C2218/11 , C03C2218/30
摘要：本発明は、単純な中間貯蔵庫条件および運搬条件を可能にし、それによりペースト状SiO2材料へのスラリーの加工性を損なうことなく、SiO2スラリーを使用してペースト状SiO2材料を製造するための方法に関する。こうするために本発明では、均質化されたSiO2ベーススラリーを、SiO2乾燥材料の形成下で乾燥工程にかけ、かつ引き続き湿潤工程を用いてペースト状SiO2材料へさらに加工されることが提案され、その際再湿潤工程は、85質量%を上回る固体含有量を有するペースト状の混練可能なSiO2材料の形成下で、SiO2乾燥材料への液体の添加を含む。本発明は、さらに補修材としてペースト状SiO2材料の使用に関する。
摘要翻译：本发明允许一个简单的中间存储条件和运输条件，从而不损害浆料的可加工成糊状的SiO 2材料，一种用于制造使用的SiO 2料浆糊状的SiO 2材料。在本发明中，为了做到这一点，将均化的SiO 2系浆料的SiO 2进行与地层干燥材料的干燥工序，和随后提出了使用湿法工艺来进一步加工成糊状的SiO 2材料，所述当再润湿步骤是具有大于85重量％的固体含量，包括添加液体到在SiO 2的干材料糊状捏合的SiO 2材料的形成。本发明涉及使用膏状的SiO 2材料作为进一步的修复材料的。

7. 发明专利

JP5605902B2 A method of manufacturing a silica glass crucible, silica glass crucible 有权
公开(公告)号：JP5605902B2
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：JP2010268154
申请日：2010-12-01
申请人：株式会社Sumco
发明人：拓麿吉岡 , 光一鈴木
IPC分类号： C03B20/00 , C30B15/10 , C30B29/06
CPC分类号： C03B19/095 , C03B19/066 , C30B11/002 , C30B15/10 , Y10T428/131 , Y10T428/1314 , Y10T428/1317

8. 发明专利

JP2014005204A Melted quartz glass and method for manufacturing the same 有权
标题翻译：熔融石英玻璃及其制造方法
公开(公告)号：JP2014005204A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：JP2013215033
申请日：2013-10-15
申请人： Tosoh Corp , 東ソー株式会社 , Tohos Sgm Kk , 東ソ−・エスジ−エム株式会社
发明人： ARAI KAZUYOSHI , TAKAHATA TSUTOMU , HASHIMOTO SHINKICHI , UCHIDA MASATO , YAMADA SHUSUKE , HARADA YOSHINORI , HORIKOSHI HIDEHARU
IPC分类号： C03C3/06 , C03B3/02 , C03B5/235 , C03B20/00
CPC分类号： C03C4/0085 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03C3/06 , C03C4/10 , C03C2201/23 , C03C2201/50 , C03C2201/54 , Y02P40/57
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide a melted quartz glass which is suitably usable for various optical materials that use ultraviolet rays, visible rays and infrared rays, a member for manufacturing a semiconductor, a member for manufacturing a liquid crystal, a member for manufacturing MEMS, and a glass substrate for a liquid crystal, has a high transmittance to ultraviolet rays, visible rays and infrared rays, has high purity and high heat resistance, and a low diffusion speed of a Cu ion.SOLUTION: In a melted quartz glass, an internal transmittance to ultraviolet light having a wavelength of 245 nm in a thickness of 10 mm is 95% or more, an OH content is 5 ppm or less, and each content of Li, Na, K, Mg, Ca and Cu is less than 0.1 ppm. Preferably, Al is contained therein in weight ratio of 2 ppm or less, the viscosity at 1,215°C is 10Pa s or more, and a diffusion coefficient of a Cu ion in a depth of 20 to 100 μm from the surface in thermal diffusion of the Cu ion at 1,050°C in the atmosphere is 1×10cm/sec or less. Such a melted quartz glass can be obtained by previously converting raw material silica powder into cristobalite, and then melting the cristobalitized silica powder in a non-reducing atmosphere.
摘要翻译：要解决的问题：为了廉价地提供适用于使用紫外线，可见光和红外线的各种光学材料的熔融石英玻璃，用于制造半导体的部件，用于制造液晶的部件，制造用部件 MEMS和用于液晶的玻璃基板对紫外线，可见光线和红外线具有高透射率，具有高纯度和高耐热性以及较低的Cu离子扩散速度。在熔融石英玻璃对于厚度为10mm的波长为245nm的紫外线的内部透射率为95％以上，OH含量为5ppm以下，Li，Na，K，Mg，Ca，Cu的含量为小于0.1ppm。优选地，其中含有2重量％以下的Al，1,215℃下的粘度为10Pa·s以上，Cu离子的热扩散表面的深度为20〜100μm的扩散系数大气中1,050℃的Cu离子为1×10cm /秒以下。这种熔融的石英玻璃可以通过将原料二氧化硅粉末预先转化为方英石，然后在非还原气氛中熔化澄清二氧化硅粉末来获得。

10. 发明专利

JP4884348B2 Method for manufacturing a silica glass block 有权
公开(公告)号：JP4884348B2
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：JP2007270304
申请日：2007-10-17
申请人：信越石英株式会社
发明人：二郎沢▲崎▼ , 長司真田
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03B19/09 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B20/00 , Y02P40/57

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