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辐射固化的涂层

阅读：220发布：2021-02-24

IPRDB可以提供辐射固化的涂层专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种用于涂覆基片的工艺包括将可辐射固化材料凝结在基片上并使用具有6.5eV与300eV之间能量的电子通量6’使材料固化。电子通量6’与前驱体材料(5’)的传输同时或在此之后指向基片(2)处。较佳地，在空间上和时间上与将材料传输至基片同步地开始固化。较佳地使用具有相对于局部电压状况为负的驱动电压的低压气体等离子体源来产生电子通量。低压气体等离子体(6’)较佳地被磁性增强，并且例如结合有磁控管。，下面是辐射固化的涂层专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种用于涂覆基片的工艺，所述工艺包括将可辐射固化材料凝结到基片上，其特征在于，用具有6.5eV和300eV之间能量的电子通量来固化所述材料，所述电子通量从低压气体等离子体中取得。

2.如权利要求1所述的工艺，其特征在于，所述电子通量与将所述材料传输至所述基片基本上同时地指向所述基片处，这样空间上和时间上基本上与将所述材料传输至所述基片同步地开始固化。

3.如权利要求1所述的工艺，其特征在于，所述电子通量基本上继将所述材料凝结到所述基片上后指向所述基片处。

4.如权利要求1所述的工艺，其特征在于，所述电子通量从低压气体等离子体中取得，所述低压气体等离子体带有相对于所述基片为负的驱动电压。

5.如权利要求4所述的工艺，其特征在于，所述低压气体等离子体被磁性增强。

6.如权利要求5所述的工艺，其特征在于，使用磁控管来生成所述低压气体等离子体。

7.如权利要求2所述的工艺，其特征在于，基本上所有所述可辐射固化的材料在凝结到所述基片的表面上前经过所述通量。

8.如权利要求1所述的工艺，其特征在于，所述基片包括片材，所述片材：包括塑料薄膜；

或包括聚酯或聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯或者聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯的混合物；

或包括聚烯烃或聚酰胺；

或从可再生资源或聚乳酸或纤维素中获得；或

包括纤维材料、纸或织物。

9.如权利要求1所述的工艺，其特征在于，所述基片包括预涂覆有如下材料的塑料薄膜：无机阻隔材料。

10.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，通过借助电子通量来固化基片上的可辐射固化材料来获得的涂层包括固化的聚合物，所述聚合物包括介电磁畴的混合物，具有溅射增强的彩虹外观。

11.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，通过借助电子通量来固化基片上的可辐射固化材料所涂覆的基片随后用另一无机阻隔材料层或用多个交替的无机阻隔和聚合物材料层来涂覆。

12.如权利要求11所述的工艺，其特征在于，所述基片包括涂覆有铝或氧化铝的塑料薄膜，并且用辐射固化材料涂覆以及用另一铝或氧化铝层来再次涂覆，以产生对于氧气、其它气体、水蒸汽、气味或污染的增强的阻隔。

13.如权利要求11所述的工艺，其特征在于，所述基片具有两层金属层，且其中所述两层金属层之间的所述聚合物层的厚度是入射光波长的四分之一，以产生彩虹外观和/或呈现色移效应。

14.如权利要求10-13中任一项所述的工艺，其特征在于，各种层的粘合在任何后续转化或使用过程中足够防止分层，由所述工艺获得的产品对于氧气、其它不可凝结气体或水蒸汽的渗透性比所述片材所固有的所述渗透性至少低一个数量级，或者聚合的可辐射固化材料在所述基片中形成涂层，所述涂层在转化或使用过程中提供对任何下置的功能层的磨损保护。

15.如权利要求1至7中任一项所述的工艺，其特征在于，所述基片包括预涂覆有如下材料的塑料薄膜：金属。

16.如权利要求1至7中任一项所述的工艺，其特征在于，所述基片包括预涂覆有如下材料的塑料薄膜：铝的氧化物或硅的氧化物。

17.如权利要求1至7中任一项所述的工艺，其特征在于，所述基片包括预涂覆有如下材料的塑料薄膜：导电有机或无机材料。

18.如权利要求1至7中任一项所述的工艺，其特征在于，所述基片包括预涂覆有如下材料的塑料薄膜：铝或铜。

说明书全文

辐射固化的涂层

技术领域

[0001] 本发明涉及一种有涂层的基片及用于涂覆该基片的装置和工艺。

背景技术

[0002] 通过使用诸如真空沉积的工艺而将交替的固化聚合物和金属或化合物层沉积至片材基片(web substrate)上来生产对氧气或其它气体或气味或者对水蒸汽具有增强的阻隔性能的薄膜。这些薄膜用于包装对氧气或水分敏感的食物、封装对气体或水分敏感的部件以及其它需要阻隔性能的多种功能性应用场合。还通过将交替的透明或半透明的固化聚合物和金属层沉积到片材基片上将薄膜制造成具有增强的全息效果、各向同性光的散射或色移。

[0003] 已知使用真空沉积来将固化聚合物层沉积到片材基片上。然而，现有的对聚合物前驱体进行真空凝结和固化的连续工艺具有许多缺点/风险，这些缺点/风险与商业级原材料、尤其是用于基片的原材料中所含的杂质有关，或者为工艺本身所固有。与杂质相关的风险，诸如吸收于基片中的氧气对凝结物的聚合的抑制以及相关的粘合问题、或由于基片表面上的小分子量物质或污染物造成的不均匀湿润，通常可以通过在涂覆前例如用气体等离子体对基片进行等离子处理来减轻。然而，其它在工艺中所固有的问题更难克服。例如：

[0004] a)已知凝结物会在到达固化区前再次蒸发。然后，此蒸汽会潜在地污染泵，或被移动片材所夹带，再次凝结在固化涂层的表面上作为未固化以及因此而弱化的表面层(使任何涂覆至该材料的后继涂层的粘附力较差)。

[0005] b)已知由于凝结物的固化仅在辐射区进行，因此在高线速度下(对于经济上可实施的工艺来说是很重要的)则难以实现100％聚合，尤其在与基片相邻并由此离辐射源最远的表面处。增加辐射通量来提高固化会导致最靠近辐射源的涂层顶面的过固化和脆化，而此时底面却还未完全固化并具有较差粘附力。因此较难实现良好机械强度、粘附力或阻隔性所需的沿涂层厚度的固化均匀性。

[0006] c)已知如果前驱体蒸汽或雾化液体在传输至基片上之前经过辐射通量，则它会部分地聚合，从而产生具有较差粘附力的不均匀且机械性能较弱的涂层。这种现象在本领域中被称为“降雪”。

[0007] d)已知如果使用带电荷的辐射通量(诸如高能电子束)来固化涂层，所得到的带涂层的片材会在被卷成一卷时发生“阻滞”(即粘至本身)，且随后在其展开时被撕破。展开时被损坏的风险由于沿涂层的较差均匀性而被进一步加剧。

[0008] e)已知在薄膜可被进一步涂覆前，由本领域中已知的工艺所生产的固化薄膜的表面必须作进一步处理(例如用等离子体)。

[0009] 一旦凝结在基片上，各种辐射源(例如紫外线，可见或者红外或尤其是电子束辐射)用于固化聚合物前驱体。然而，目前在本领域中用于主要固化的电子束具有非常高的能级(通常＞300eV)，因为这被认为对于实现足够的聚合来说是必要的。还使用大气等离子体，一般用于二次固化(即作为电子束的辅助手段以完成固化)。同样，这些也具有高能级和高电离部分，且现有技术教示这种高能级电离对于聚合来说是必需的。

[0010] 还已知的是，使单体蒸汽通过低压辉光放电，该单体蒸汽包含高能级的自由基，然后使用辉光放电中的驱动电压引导单体蒸汽朝向基片，这种驱动电压相对于基片处的局部状态是正的。包含这些自由基的单体然后在基片上凝结，在基片处自由基开始固化。

发明内容

[0011] 根据本发明的第一个方面，提供了一种用于涂覆基片的工艺，该工艺包括将可辐射固化材料凝结在基片上以及使用具有6.5eV与300eV之间能量的电子通量使其固化。

[0012] 6.5eV能级是打破未饱和前驱体材料(诸如丙烯酸酯)中的碳—碳双键以促使聚合所需的能级。较佳地，电子通量的能量范围在6.5eV和100eV之间。

[0013] 电子通量在传输前驱体材料的同时或之后指向基片处。在前一种情况下，较佳地在空间上及时间上与将前驱体材料传输至基片同步开始固化，这避免需要电子通量来穿透已凝结的前驱体材料以使其固化。

[0014] 较佳地，使用低压气体等离子源来产生电子通量。尽管低压气体等离子体具有比电子束、大气等离子体等明显低的能级(＜300eV)，但已发现它可以实现有效的固化。

[0015] 较佳地，低压气体等离子体通过例如包含交叉电磁场而被磁性地增强以形成磁控管。以溅射阴极或极化反应板的形式设有阴极。阴极上的负极性和环境或基片(可能是正的或接地的)的相对正极性驱动所需的电子通量。另外，高频AC放电信号可施加至基片，且AC源的自偏物理性质和非常短的时间周期在基片处产生合适的极性。

[0016] 本发明的实施例用于减少再次蒸发和“降雪”的风险并产生更均匀固化的涂层。“阻滞”的倾向减少，且基片表面不需要在再次涂覆前作进一步的处理。本发明的工艺可以因此以更高线速度进行，由此减少单位生产成本。

[0017] 根据本发明的第二方面，提供由根据第一方面的工艺所生产的涂覆基片。

[0018] 涂层可包括固化聚合物，该聚合物包含介电磁畴(dielectric domains)的混合物或具有散射增强的彩虹外观。

[0019] 涂覆基片可以随后用另一无机阻隔材料层或多个交替的无机阻隔材料和聚合物材料层覆盖。

[0020] 基片可以包括铝或氧化铝涂覆的塑料薄膜，且可以用辐射固化材料涂覆并用另一层铝或氧化铝层来再次涂覆，以产生对氧气、其它气体、水蒸汽、气味或污染的增强阻隔。

[0021] 产品或基片可具有两层金属层，且其中两层金属层之间的聚合物层的厚度大约是入射光波长的四分之一，以产生彩虹外观和/或呈现色移效应。

[0022] 产品各个层的粘合可在任何后续转化或使用过程中足以防止分层。

[0023] 产品对氧气、其它不可凝结气体或水蒸汽的渗透性可以至少比片材所固有的渗透性低一个数量级。

[0024] 聚合的可辐射固化材料可以在基片中形成涂层，该涂层可在转化或使用过程中提供对任何下置的功能层的磨损保护。

附图说明

[0025] 图1是实施根据本发明第一实施例的工艺的装置的示意图；

[0026] 图2是实施根据本发明第二实施例的工艺的装置的示意图；

[0027] 图3是示出图1中辐射和蒸汽流的示意图；

[0028] 图4是示出用于图1至3中的等离子体源的示意图；

[0029] 图5a和5b是示出用于图1至3中的前驱体源的示意图；

[0030] 图6是示出用于图1至3中的替代前驱体源的示意图；

[0031] 图7是示出用于图1至3中的另一个替代前驱体源的示意图，以及[0032] 图8是示出按顺序传输和固化的构造的示意图。

具体实施方式

[0033] 图1中的装置容纳在真空腔室1中。待处理的片材2被送至片材展开工位和重绕工位(未示出)之间的惰辊3、7上。片材被输送经过由外壳38所限定的沉积工位4，在外壳中容纳装置5和低压气体等离子体源6，该装置5产生可辐射固化材料的定向射束5’，该等离子体源产生定向电子通量6’。电子通量6’可包括电子和其它负电荷或无电荷的微-5 -1粒和物质6’，但电子通量是主要固化剂。等离子体的电离部分可以典型地是10 至10 。
可辐射固化材料束(诸如聚合物前驱体蒸汽或雾化液体)在经过装置5下方时指向片材2处，且等离子体源6同时使电子通量6’指向片材2处以与射束5’基本上同步地入射到片材上。束5’和通量6’重叠成重叠区域在传输过程中暴露于电子辐射，由此在蒸汽被传输至片材2时开始固化。外壳38用于支承外壳内部与真空腔室1之间的压差以控制前驱体蒸汽和工艺气体逸到外壳外。装置可有选择地具有表面处理工位8和9以在沉积工位4之前和之后增强片材的性能。

[0034] 本发明的另一实施例在图2中示出，其中片材在辊子3、7之间的线性进给由转筒进给装置10来补充。该转筒10使附加的处理过程可以发生，例如用于在沉积工位4之前和之后涂覆金属或非金属化合物的另外的沉积工位11、12和在可选择的沉积工位11和12之前和之后增强薄膜特性的处理工位13、14。

[0035] 图3示出前驱体束5’和电子通量6’的形式，以及这些射束如何在空间上重叠并同时入射到片材2上，这样涂层随着片材经过沉积工位4而逐渐沉积和固化。

[0036] 图4示出适用于文中所述的实施例中的低压气体等离子体源6。等离子体产生在水冷的阳极元件15和反应板16之间。外核17通过绝缘层19与阴极内核18隔绝。绝缘体20提供阳极和阴极之间的空间分隔。磁控管的磁体被布置在轭板25上，外部组21的极性与中心组22相反，这些磁体磁性地附连于轭板以产生磁场来捕获电离气体。将等离子气体从气体进气管23供给至等离子体区。磁体21、22用作磁控管以增强反应板16区域中辉光放电中的等离子体的电离。对阴极18施加驱动电压，该驱动电压相对片材2是负的以使电子通量6’朝向片材2。

[0037] 图5a和5b示出装置5，该装置适用于在文中所述的实施例中产生蒸汽前驱体射束。可辐射固化的材料通过传输管28被进给至装置中。这将可辐射固化的材料传输到受热腔室34中，该腔室由筒式加热器33加热至其工作温度。可辐射固化的材料然后流出出口孔29，由此它将到达待由电子通量6’固化的片材基片2处。

[0038] 图6示出图5a、5b的装置的替代装置5，该装置适于用在图2的实施例中。各个部件是相似的，除了受热腔室34在转筒10的表面上方大体平行于转筒10的轴线延伸，以及沿腔室34的长度形成出口槽35，以使前驱体蒸汽束指向该表面上的片材处。

[0039] 如图6所示，装置5使蒸汽束5’沿转筒10的径向而指向片材2，且辐射通量6源位于源5的各侧上以使通量6’朝向片材2并各自与束5’在一侧处重叠，由此确保所有蒸汽在传输至片材时都受辐射。

[0040] 图7还示出另一个替代装置以将前驱体蒸汽传输至片材2。将可辐射固化的材料经传输管28供给至该装置。这使可辐射固化材料传输至T形受热腔室34中，该腔室由三个筒式加热器33加热至其工作温度。可辐射固化的材料然后沿T形腔室的横杆部34’流出孔29，该横杆部大体平行于供给转筒10的轴线延伸。图7示出位于传输管28上方的低压等离子体源6以将电子通量6’传输至进给转筒10上的片材。源6与图4中的源类似，但具有修改过的二极管系统，该系统带有扩大的反应板16以产生更低密度的电子通量，通量由线6’表示。

[0041] 图8示出本发明的实施例，其中沉积装置5远离电子通量源6而重新定位。在图1至7中，沉积和固化在空间和时间上同步发生在片材2上，然而在此实施例中，片材2首先经过沉积束5并将未固化沉积的材料传输至电子通量6’以固化。尽管装置5’和6在时间上还同时起作用，但它们相继作用在片材2上，且各射束5’和6’因此在空间上并不协同。

[0042] 如图1和2中所示，装置5可以相对于辐射源6重新定位，这样它可以在片材运动时位于辐射6的下游而不是上游。然而，前驱体束5’还是倾斜，从而以与图3中所示相似的方式与电子通量6’重叠。

[0043] 低压气体等离子体是较佳的辐射通量源6，这样，此工艺的压力将不仅决定等离子体区域内任何分子的平均自由行程，还决定与所用电场有关的电子能量。等离子加工技术参考手册38-43页(ISBN0-8155-1220-1)。在市场上可购得的等离子体源中所用的压力状态下，电子能量一般不超过300eV。

[0044] 传输射束5’的装置5应当定位成平均自由行程大于蒸汽在凝结到待涂覆的基片上之前必须从装置5行进的距离或与该距离相当。

[0045] 将前驱体束传输至基片应当也允许高度辐射。这种辐射一般直接在促使等离子体激发的反应板16前最大化。经常引入磁场，这些磁场将辐射集中在所谓的“赛道”中。在这种系统中，最高辐射通量的区域直接与这些“赛道”区相对。因此，较佳地应当将蒸汽引入这些区域中。

[0046] 通过遵循这些设计规则，有可能将系统的几何形状设计成辐射通量和蒸汽通量与所期望的固化量相配。

[0047] 在本发明的实施例中，蒸汽的传输点通常离开待涂覆表面50毫米，且相邻于辐射通量源布置，这样当倾斜时，蒸汽必须通过以与最大辐射区相互作用的距离大约是75毫-3米。该距离与在5x10 mbar工艺压力下的平均自由行程相当。然而，本发明不限于这些参数，如果使用更高的工艺压力，则仍可使蒸汽的一部分入射到最大辐射区域中的基片上并被固化。

[0048] 最能从商业渠道得到的低压气体等离子源设计可以用于产生电子通量。在本发明的较佳实施例中，通过诸如图4中所示的失谐磁控管提供电子通量。

[0049] 前驱体的功能性成分是任何能够被气化或雾化并被喷射到基片上的未饱和材料，且这些材料还能通过电子辐射聚合。前驱体可以是有机的或无机的，并包括未饱和的有机材料、硅基材料、卤素基材料、有机金属化合物等，较佳地为诸如二缩三丙二醇二丙烯酸酯或丙烯酸异冰片酯的丙烯酸酯。本领域中所述的大多数可聚合材料可用于该工艺中。气化或雾化材料可有选择地包括其它可辐射固化或不可固化的成分以提供诸如粘附力增强、尺寸稳定性、机械特性、颜色、导电性等功能特性。

[0050] 任何可由设备处理的片材基片可用于本发明中。基片可以包括各种市场上可购得的热塑性薄膜(包括诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或其混合物或共挤物的聚脂)、聚酰胺(包括尼龙6和尼龙6.6)、聚烯烃(包括聚丙烯和高密度和低密度聚丙烯)及其它本领域中已知的热塑性薄膜。也可以使用包括可生物降解薄膜和从可再生资源中获得的薄膜(诸如聚乳酸或纤维素基材料)的非热塑性薄膜。也可以使用诸如聚酰亚胺之类的热固性聚合薄膜。也可以使用纤维或纺织基片(诸如纸或织物)。本发明不限于此片材基片列表。

[0051] 可以对基片有选择地进行预涂覆、真空沉积，或者印有各种金属、金属或非金属化合物和其它材料，以实现期望的特性或效应。对于不透明的阻隔应用的情况，尤佳的是例如涂覆有诸如铝的金属的、诸如聚酯薄膜的基片。对于透明屏障应用的情况，尤佳的是涂覆有透明金属或非金属氧化物、氮化物或其它化合物(例如铝的氧化物或硅的氧化物)的、诸如聚酯薄膜的基片。对于电气或电子应用的情况，片材基片可以有选择地预涂覆有诸如铜的金属或另一种导电无机或有机材料，然而这些材料可以是透明或不透明的。然而，本发明并不局限于这些特定的覆层。

[0052] 已知光可变色移涂层可以通过将反射涂层(诸如金属或高折射率材料)沉积到片材基片上、然后在该反射涂层上涂覆另一透明或半透明材料的涂层来产生，这种材料具有可见光波长1/4至1/2的光学厚度。色移效应可以通过将另一金属或高折射率材料的半透明层沉积到所述透明材料顶部来进一步增强。透明或半透明层可以是使用按顺序的传输和固化工艺沉积并固化的辐射固化有机聚合物。现已发现如果使用本发明工艺产生此透明或半透明层，涂层包括介电磁畴的混合物并具有类全息的彩虹外观，并且增强任何连续光可变装置中的颜色强度和色移程度。

[0053] 固化聚合涂层的厚度可以是0.001μm至50μm，且较佳地是0.1μm至50μm，较佳的厚度主要是以预期用途中的聚合物层功能以及成本限制来决定，而非基于由工艺所产生的限制。例如，对于阻隔包装应用场合，聚合物层的功能是保护阻隔涂层(即铝或氧化铝)免受物理损坏或磨损。在这种情况下，聚合物层厚度的下限在0.02μm左右，这是因为低于此值没有足够的保护。上限可以是主观的，如大于约1μm，机械保护的益处将开始被分层的风险所超过。对于非常高的阻隔应用场合，使用由聚合物层分开的多个阻隔层，这是因为这延伸了各阻隔层中能透过的缺陷之间的气体或蒸汽的扩散路径。在这种情况下，由于聚合物层用作两个金属或陶瓷层之间的分隔层，且具有很少或没有其自身所固有的阻隔性，聚合物层应当较佳地是尽可能的薄，这有益于以下要求，即聚合物层应当是连续的(没有空隙或缺陷)并具有良好的表面平滑度(以使第二阻隔层的阻隔性最大化)。对于光可变装置，聚合物层功能是产生光干扰并因此产生“色移”。对于这种应用场合，涂层厚度较佳地是入射光波长的四分之一至一半，但本发明不限于这种厚度。

[0054] 现对根据本发明的聚合涂层工艺的各种例子作更详细地描述。

[0055] 实例1

[0056] 在此例中，使用包括Edwards75毫米平板磁控管和MDX DC电源的平板磁控管低压等离子体源来进行固化；在处理空间中，丙烯酸酯传输源位于等离子体源和基片之间，且该传输离开等离子体源而朝向基片。所用的丙烯酸酯是二缩三丙二醇二丙烯酸酯TRPGDA。为沉积和固化，基片是静态的。受热单孔前驱体传输管以如图5a，5b的方式布置在朝向基片的源之前。使用240伏特条件下功率为200瓦的可变加热电源(脉冲间隔调制，10％占空-2比)来加热管8分钟。阴极使用6x10 mbar的剩余环境空气以200mA的电流在恒定电流模式下运作。3秒钟内传输8ml材料，所得到的基片由具有非常好粘附力的固化丙烯酸酯涂覆。

[0057] 实例2

[0058] 在此例中，使用两个双平板磁控管，等离子体以图6方式在它们两者之间传输。电源由DC磁控管供电单元来供给。PID控制的受热管具有内隔板，且前驱体TRPGDA在移动片材相对的一侧上被传输至加热管。在管中机加工出的、朝向移动片材的30毫米槽提供输出前驱体束。由于在两个2英寸直径的阴极上DC电源超过200瓦，这些被布置在载带移动片-2材的150毫米涂覆筒上方60毫米。在氩气2x10 mbar的压力下以及在装配于阴极之间的
25毫米空间内的20毫米直径受热传输管处，通过离开片材50毫米定位的20毫米槽，0.2ml前驱体在1.5分钟内被传输通过20毫米槽，这些前驱体被对准成与基片表面处的来自两个阴极的很大比例的电子通量相交。基片以每分钟30米涂覆，给出具有良好粘附力的良好形成的TRPGDA涂层。

[0059] 实例3

[0060] 在此例中，使用图5a和5b的装置。等离子体源是具有非常弱磁场的4英寸溅射阴极和6英寸(特大型)的反应板。前驱体源包括受热前驱体传输管(3/4英寸直径)，该管在6英寸阴极表面前方具有4毫米出口孔，且中心安装，其出口孔面向阴极下方20毫米-1处的片材，该前驱体源离片材表面30毫米并使用3x10 mbar下的氧气/氮气大气。阴极以
150瓦功率运作，且随着液态丙烯酸酯被传输离开4毫米管出口4英寸且180°反向于出口孔，管被加热至260℃。丙烯酸酯被传输通过计量针阀，且所产生的涂层是良好固化的丙烯酸酯沉积物，该沉积物具有优异的粘附力和在机器方向和横向方向上的良好均匀性。

[0061] 实例4

[0062] 使用图1的装置。等离子体源包括矩形平板阴极、具有50毫米宽赛道的8英寸×4英寸反应板。前驱体源包括具有一体化筒式加热器的铝制前驱体传输喷嘴。丙烯酸酯传输至传输喷嘴内的机加工空腔中，该空腔提供曲折路径，这样没有从气化区到传输区的直接路径。机加工的空腔也可选择成从气化区到传输区(喷嘴体宽度80％的槽)，所计算的路径长度使丙烯酸酯可以平均地分布到片材上。此喷嘴靠近矩形阴极布置并定位成丙烯酸酯蒸汽射流与移动片材在赛道区下相作用，从而使阴极等离子体中的辐射通量和丙烯酸酯蒸-2汽沉积物之间的重合最大化。此系统以260℃的喷嘴工作温度运作：5x10 mbar腔室压力；
和产生具有优异粘附力的均匀涂层的250瓦磁电管能量，实现高达每分钟5ml的丙烯酸酯传输速率和高达每分钟60米的片材速度。

[0063] 通过本发明制造的材料适于用在多种不同应用中，包括：包装应用；抗磨损材料或中间材料(其中，在转化或使用过程中，聚合物涂层防止对任何下置的功能层的磨损损坏)；安全或防伪造应用，包括连续光可变装置；装饰应用，包括连续光可变装置；功能性工业应用；以及电学或电子应用(包括静电消散)。

标题	发布/更新时间	阅读量
一种UV固化阻燃涂料-专利编号CN104312423B	2020-05-12	811
紫外光固化多彩墙纸-专利编号CN102777009A	2020-05-13	493
淤泥、污泥固化剂-专利编号CN101638311A	2020-05-12	413
可见光固化金属涂料-专利编号CN1247712C	2020-05-13	399
一种UV固化抗静电涂料-专利编号CN104356927B	2020-05-12	135
一种UV固化阻燃涂料-专利编号CN104312423A	2020-05-11	171
一种UV固化抗静电涂料-专利编号CN104356927A	2020-05-11	1005
紫外光固化涂料-专利编号CN101638554A	2020-05-11	850
可见光固化塑料涂料-专利编号CN1247711C	2020-05-13	325
一种用于玻璃的LED固化和热固化导电油墨-专利编号CN108774429A	2020-05-11	252

辐射固化的涂层

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