溶剂回收系统专利检索-溶剂溶剂类专利检索查询-专利查询网

积极推动地理标志专门立法

2022-03-10 地理标志，立法，知识产权
保护知识产权是对创新最大的激励

2022-03-10 保护知识产权，创新，激励
谢商华：加快制定知识产权基本法

2022-03-10 知识产权基本法
擦亮“双奥之城”品牌

2022-03-10 双奥，知识产权
让冰雪运动“热”力全开

2022-03-10 冰雪运动，知识产权
携手共奋进　走好强国路

2022-03-10 强国，知识产权
坚持创新引领　方能稳中求进

2022-03-10 创新，稳中求进，知识产权
答好“两张卷” 奋进新征程

2022-03-10 知识产权
专家解读政府工作报告中的创新和知识产权相关部署

2022-03-10 政府工作报告，创新，知识产权
今年政府工作报告指出：加强知识产权保护和运用

2022-03-10 政府工作报告，知识产权保护

溶剂回收系统

阅读：1075发布：2020-06-27

IPRDB可以提供溶剂回收系统专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明提供一种可从涂敷的涂敷液中高效地回收溶剂并进行再利用的系统。沿运送线从上游侧依次配置有基板送入部(1)、涂敷装置(2)及减压干燥装置(3)，从减压干燥装置(3)中引出有排气用配管(31)，在该配管(31)上设置真空泵(32)，在该真空泵(32)的下游侧配置液化收集装置(4)，从上述液化收集装置(4)中引出有溶剂回收用配管(5)，在该配管(5)上设置送液泵(6)，在该送液泵(6)的下游侧配置脱水装置(7)及过滤器(8)，在液化收集装置(4)内液化的溶剂，通过送液泵(6)被送到缓冲罐(9)。积存于该缓冲罐(9)内的溶剂被用于预备滚筒(22)的清洗。，下面是溶剂回收系统专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种溶剂回收系统，与涂敷装置邻接地配置减压干燥装置，且对在上述减压干燥装置内挥发的基板表面的涂敷液中的溶剂进行回收，该溶剂回收系统的特征在于，在使上述减压干燥装置内减压的真空泵的下游侧设置液化收集装置，利用该液化收集装置对上述溶剂进行液化并回收。

2.根据权利要求1所述的溶剂回收系统，其特征在于，利用上述液化收集装置液化的溶剂，经由送液泵被送到再利用处。

3.根据权利要求1所述的溶剂回收系统，其特征在于，在上述涂敷装置上附设有预涂敷用的预备滚筒及喷嘴清洗部，上述被液化并回收的溶剂，经由送液泵被送到上述预备滚筒或喷嘴清洗部。

说明书全文

技术领域

本发明涉及一种回收涂敷于基板的涂敷液中的溶剂并进行再利用的 溶剂回收系统。

背景技术

在专利文献1中公开有如下的被膜形成方法，即：沿玻璃基板等的基板运送线，邻接配置涂敷装置和减压干燥装置，且通过减压干燥装置使由涂敷装置涂敷在基板表面上的涂敷液中的溶剂挥发，并使涂敷液干燥直至运送时不从基板落下的程度，并向下一个工序运送。
并且，在专利文献2中公开有如下构成，即：在减压处理腔室和真空泵之间，即在真空泵的上游侧配置有溶剂回收装置。
【专利文献1】JP专利第2756596号公报
【专利文献2】JP特开2005-85814号公报
然而，即使在基板尺寸较小涂敷量也较少的场合下，抽真空的配管中有时会积存溶剂，但当基板尺寸达到一米见方时，配管中会积存大量的挥发溶剂。
在专利文献2中，考虑了在减压处理腔室和真空泵之间设置收集装置方法，但当在真空泵的上游侧设置收集装置时，负荷变大，抽真空则比较费时。尤其是在减压处理腔室内，有时会将气氛温度设为高于溶剂沸点的温度来进行处理，此时在真空泵的上游侧的配管中容易结露。

发明内容

鉴于上述各点，本发明提供一种不会在配管内积存溶剂，且可有效地从涂敷的涂敷液中回收溶剂并进行再利用的系统。
本发明涉及的溶剂回收系统中，与涂敷装置邻接地配置有减压干燥装置，并对在减压干燥装置内挥发的基板表面的涂敷液中的溶剂进行回收，该溶剂回收系统的构成为，在使减压干燥装置内减压的真空泵的下游侧设置有液化收集装置，且利用该液化收集装置对溶剂进行液化并回收。
根据本发明涉及的溶剂回收系统，由于在使减压干燥装置内减压的真空泵的下游侧设置液化收集装置，并利用该液化收集装置对溶剂进行液化并回收，因此挥发的基板表面的涂敷液中的溶剂在液化收集装置中被冷却并被液化。由此，挥发的溶剂不会积存于例如减压干燥装置和真空泵之间的配管内。
并且，由于在真空泵的下游侧设置有液化收集装置，因此不会成为真空泵的负荷，且不会延长对减压干燥装置进行减压为止的时间。
在上述的溶剂回收装置中，当其构成为：沿基板的运送线配置涂敷装置及减压干燥装置，并在涂敷装置上附设预涂敷用的预备滚筒及喷嘴清洗部，且被液化并回收的溶剂经由送液泵被送到预备滚筒及喷嘴清洗部时，可对在预备滚筒或喷嘴清洗部中回收的溶剂进行再利用，可减少清洗剂(新液体)的使用。
根据本发明，不会在配管中积存挥发溶剂，且可对至今未进行过再利用的涂敷液中的溶剂进行再利用，可以实现一种有利于环境卫生且节约成本的溶剂回收系统。

附图说明

图1是表示本发明涉及的溶剂回收系统的一个实施方式的简要图。
图2是表示溶剂的再利用处即涂敷装置的一个实施方式的简要侧视图。
图3是表示液化收集装置的一个实施方式的简要构成图。
图4是预备滚筒的简要构成图(放大图)。
图5是清洗部的简要构成图(放大图)。
附图符号说明：
1 基板送入部；2 涂敷装置；3 减压干燥装置；4 液化收集装置； 5 溶剂回收用配管；6 送液泵；7 脱水装置；8 过滤器；9 缓冲罐； 21 狭缝喷嘴；22 预备滚筒；23 喷嘴清洗部；24 浸泡槽；25、27 盖部；26 循环液喷淋喷嘴；28 新液体喷淋喷嘴；29 喷出干燥气体的喷嘴；30 刮板；31 排气用配管；32 真空泵；33 连接真空泵与液化收集装置的配管；34 来自液化收集装置的排气管；35 冷却管；36 板；37 上部件；38 下部件；39 清洗用部件；40 擦拭构件；41 开口；42 狭缝喷嘴的倾斜面。

具体实施方式

以下基于附图对本发明的一个实施方式进行说明。
图1是表示本发明涉及的溶剂回收系统的一个实施方式的简要图，图2是溶剂的再利用处即涂敷装置的简要侧视图。
本实施方式中，如图1所示，溶剂回收系统适用于沿玻璃基板W的运送线的被膜形成装置。即，沿运送线从上游侧依次配置有基板送入部1、涂敷装置2及减压干燥装置3。
如图2所示，在涂敷装置2中，配置有以一定宽度对基板W的表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴21，且配置有后述的狭缝喷嘴21的预涂敷用的预备滚筒22。在该涂敷装置2中，还配置有喷嘴清洗部23、及浸泡槽24。
从减压干燥装置3中引出排气用配管31，在该配管31上配置有真空泵32。
并且，在本实施方式中，尤其在从该真空泵32中引出的配管33上设置有液化收集装置4。
具体而言，液化收集装置4并非设置在减压干燥装置3与真空泵32 之间的配管31上，而是设置在真空泵32的下游侧，即比真空泵32更靠近排气侧。作为该理由是为了防止如下问题的发生，即：不成为真空泵 32的负荷而可高效地进行排气；并且，在真空泵32后溶剂有时会从气体恢复到液体，并滞留在配管33内；并且，即使不发生滞留时，液体也会流向工厂排气侧等。
液化收集装置4具有冷却机构。如图3所示，该冷却机构的构成为：例如供给冷却水的配管(冷却管)35从外部被引到液化收集装置(罐) 内。并且，液化收集装置本体具有可从外部视觉确认被液化的溶剂量的功能。34是与工厂排气连接的排气管。
根据该种构成，可对液化收集装置本体内进行冷却而达到较低温度。由此，由真空泵32通过配管33进入到液化收集装置4内的挥发溶剂，被冷却并被液化。
作为其他实施方式，虽未图示，但可以考虑如下构成，即：与液化收集装置本体的外部紧靠地设置有冷却水流动的水冷套，将向该水套供给冷却水的配管引到液化收集装置4本体内并设为冷却管，并在该冷却管内设置有吸热用的散热片。由此可进一步提高液化收集装置本体内的冷却效果。
并且，通过调整冷却管内的阻力值及冷却管的长度，也可以进一步提高冷却效果。
并且，在减压干燥装置3与真空泵32之间的配管31内，由于处于高真空状态，因此挥发溶剂未被液化。在比真空泵32更靠近液化收集装置4一侧容易发生液化，且在液化收集装置4的本体内的空气温度降低时发生。
从液化收集装置4引出有溶剂回收用配管5，在该配管5上设置有送液泵6，并在该送液泵6的下游侧配置有脱水装置7及过滤器8。并且，在上述构成的液化收集装置4中被液化的溶剂通过送液泵6被送到缓冲罐9，且积存在缓冲罐9内的溶剂被用于图2所示的预备滚筒22的清洗及喷嘴清洗部23。
即，如图4的放大图所示，预备滚筒22配置在存储有清洗剂的清洗槽24内。在覆盖清洗槽24的一侧的盖25上，设置有喷出循环的清洗剂的循环液喷淋喷嘴26，在另一侧的盖27上，设置有新液体喷淋喷嘴28 及喷出干燥气体的喷嘴29，在这些循环液喷淋喷嘴26及新液体喷淋喷嘴 28的下方设置有与预备滚筒22的表面接触的刮板30。
在该预分配部23内，例如当附着有涂敷液的预备滚筒22旋转时，从循环液喷淋喷嘴26向预备滚筒22的表面供应清洗剂，并通过刮板30 将顽固的附着物刮落。于是，最后预备滚筒22的表面通过由新液体喷淋喷嘴28供给的清洗剂而冲洗得很干净。其后，从干燥气体喷出喷嘴29 向预备滚筒22喷出干燥气体，由此清洗剂被吹散，预备滚筒22的表面被干燥。
在本实施方式中，回收到缓冲罐9内的溶剂，例如可用作从循环液喷淋喷嘴26喷出的清洗剂。由此，无需在预备滚筒22上采用新的清洗剂，减少了清洗剂的使用量。
并且，如图5的放大图所示，喷嘴清洗部24构成为：在与未图示的导轨结合的板36上，设置有由上部件37和下部件38构成的清洗用部件 39。在上部件37之间夹持有擦拭构件40，朝向该擦拭构件40形成有与清洗剂供给部相通的开口41。
在该喷嘴清洗部24内，一边由清洗剂供给部的开口41向狭缝喷嘴 21的倾斜面42供应清洗剂，一边通过未图示的驱动装置使板沿狭缝喷嘴 21的长度方向移动，并利用擦拭构件40对附着于狭缝喷嘴21排出口的涂敷液进行擦拭清洗。
在本实施方式中，回收到缓冲罐9内的溶剂被用作由清洗液供给部的开口41向倾斜面42供应的清洗剂。由此，与预备滚筒22的场合同样，无需在喷嘴清洗部23内采用新的清洗剂，减少了清洗剂的使用量。
脱水装置7是用于去除回收的溶剂中所含水分的装置。该脱水装置7 可根据需要设置。
过滤器8是用于过滤回收的溶剂而去除垃圾等的装置。该过滤器8 也可根据需要设置。
这样，根据本实施方式的溶剂回收系统，不会在配管31及配管33 内积存挥发溶剂，并可缩短减压所需时间，可使挥发溶剂在液化回收装置4内冷却而液化。由此，被液化的溶剂可再次被利用于预备滚筒22及喷嘴清洗部23。
其次，对溶剂回收的具体实施例进行说明。
(实施例1)
涂敷液：丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA)
涂敷量：100cc
减压极限压：66Pa
基板尺寸：1100×1250mm
在上述条件下，连续涂敷20张(平均每张100cc)，涂敷后回收了从液化收集装置收集的溶剂。其结果是1.44kg。
因PGMEA的比重为0.965，故涂敷重量为100×0.965×20＝1.93kg。因此，回收率为1.44/1.93＝75％
(实施例2)
涂敷液：3-甲氧基乙酸丁酯(MA：比重0.956)
丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA：比重0.965)
丙二醇甲醚(PGME：比重0.9234)
将上述三种溶剂按1∶1∶1混合。
涂敷量：99cc
减压极限压：66Pa
基板尺寸：1100×1250mm
在上述条件下，连续涂敷20张(平均每张99cc)，涂敷后回收了从液化收集装置收集的溶剂。其结果是1.34kg。
因溶剂的平均比重为0.948，故涂敷重量为99×0.948×20＝1.89kg。因此，回收率为1.34/1.89＝70％
(实施例3)
涂敷液：正型抗蚀剂(TFR-6000PM：东京应化工业造)
涂敷量：99cc
减压极限压：66Pa
基板尺寸：1100×1250mm
在上述条件下，连续涂敷10张(平均每张99cc)，涂敷后回收了从液化收集装置收集的溶剂。其结果是0.56kg。
由于溶剂的平均比重为0.965，且涂敷液中的固体含量为12.5％，所以溶剂(PGMEA)的涂敷重量为99×0.956×10×(1-0.125)＝0.84kg。因此，回收率为0.56/0.84＝67％。
由上述可知，通过设置液化收集装置4，可在各个实施例中提高挥发溶剂的回收率。
在上述的实施方式中，对将回收的溶剂再利用于预备滚筒22及喷嘴清洗部23的场合进行了说明，但除此以外，也可以用于抗蚀剂的粘度调整，或用作涂敷液。
此时，如果需要的话，也可以在回收的溶剂中添加新液体。此时，可通过在回收系统中添加新液体供给装置(机构)来实现。
此外，本发明在基板尺寸大型化时效果更为突出。即，随着基板尺寸的大型化而在减压干燥装置内挥发的溶剂量增多，提高了溶剂的回收率。
此外，本发明不局限于上述实施方式，在不脱离本发明主旨的范围内可采取其他各种构成。

标题	发布/更新时间	阅读量
溶剂去除处理-专利编号CN103435129B	2020-05-11	990
溶剂去除处理-专利编号CN1856447B	2020-05-11	357
一种有机溶剂瓶干燥装置-专利编号CN107883683A	2020-05-13	903
溶剂去除处理-专利编号CN103435129A	2020-05-11	612
一种有机溶剂瓶气体干燥系统-专利编号CN107763979A	2020-05-13	135
溶剂去除处理-专利编号CN1856447A	2020-05-11	158
一种高纯溶剂瓶清洗设备-专利编号CN106180099B	2020-05-13	862
改进的溶剂除去法-专利编号CN102238996A	2020-05-12	535
改进的溶剂除去法-专利编号CN102238996B	2020-05-12	522
一种与样品溶剂瓶联用的溶剂取样器-专利编号CN202119650U	2020-05-12	776

溶剂回收系统

技术领域

背景技术

发明内容

附图说明

具体实施方式

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式