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一种纳米材料生产用三级球磨装置

阅读：751发布：2020-05-13

IPRDB可以提供一种纳米材料生产用三级球磨装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型涉及的是一种纳米材料生产用三级球磨装置，其具有球磨箱体，球磨箱体的上端设置进料口，球磨箱体内从上往下依次设置一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件；三级球磨组件的下端位于球磨箱体内还设置筛分组件；球磨箱体的下端设置偏锥状结构，偏锥状结构的下部设置出料口；一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件均包括两组水平设置的磨球机构，磨球机构包括磨球、驱动杆、驱动电机、固定座、滑块、往复气缸和滑轨。该纳米材料生产用三级球磨装置，结构简单，可以有效的增加研磨过程中的撞击力度，采用逐级研磨，缩短研磨粉碎时间，提高研磨粉碎的效率，便于广泛推广和使用。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利，下面是一种纳米材料生产用三级球磨装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：具有球磨箱体，所述的球磨箱体的上端设置进料口，所述的球磨箱体内从上往下依次设置一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件；所述的三级球磨组件的下端位于球磨箱体内还设置筛分组件；所述的球磨箱体的下端设置偏锥状结构，所述的偏锥状结构的下部设置出料口；所述的一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件均包括两组水平设置的磨球机构，所述的磨球机构包括磨球、驱动杆、驱动电机、固定座、滑块、往复气缸和滑轨；所述的磨球的背部通过驱动杆穿过球磨箱体背部后连接驱动电机，所述的驱动电机的下端固定在固定座上，所述的滑块上端固定在固定座下部，所述的滑块下端滑动设置在滑轨中，所述的往复气缸的输出端固定在滑块的一侧。

2.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：所述的一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件中磨球与磨球之间的间距从上往下逐渐减小。

3.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：所述的滑轨均水平固定设置在球磨箱体背部。

4.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：所述的一级球磨组件与二级球磨组件之间位于球磨箱体内还倾斜设置导流板，所述的导流板位置高的一端固定设置球磨箱体内壁上，所述的导流板位置低的一端向球磨箱体中部延伸。

5.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：所述的筛分组件包括筛分电机、转动杆、筛分网框和筛分杆；所述的筛分网框两端固定设置在球磨箱体内壁上，所述的筛分电机垂直设置在球磨箱体下端，所述的筛分电机的输出端通过转动杆穿过筛分网框下端面延伸到筛分网框内后端部固定筛分杆。

6.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：所述的球磨箱体的两侧通过支架固定。

7.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：所述的进料口的上端一侧铰接翻盖。

8.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用三级球磨装置，其特征在于：所述的一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件中磨球均相对转动。

说明书全文

一种纳米材料生产用三级球磨装置

技术领域

[0001] 本实用新型涉及的是纳米材料生产设备的技术领域，尤其是一种纳米材料生产用三级球磨装置。

背景技术

[0002] 随着社会的不断发展，纳米材料作为新材料在各行各业中得到广泛的运用。纳米材料的生产加工，需要经过很多道工序，其中研磨粉碎是重要的组成部分。目前用于纳米材料生产加工的研磨粉碎装置通常为球磨机。现有的球磨机采用的是滚筒与磨球的配合来实现纳米材料的制取，这种结构的球磨机在长时间的使用过程中发现，研磨过程中磨球与被研磨材料的撞击强度布高，导致研磨时间长，研磨粉碎后的颗粒度不一，而且存在研磨死角区，导致生产加工人员需要经过多次反复加工，浪费了时间，而且生产效率不高。

[0003] 综上所述，现有用于纳米材料生产的球磨机在结构和设计上还存在不足，不能满足人们高效节能生产的需要。

发明内容

[0004] 本实用新型要解决的技术问题是：为了解决上述背景技术中存在的问题，提供一种纳米材料生产用三级球磨装置，结构简单，可以有效的增加研磨过程中的撞击力度，采用逐级研磨，缩短研磨粉碎时间，提高研磨粉碎的效率，便于广泛推广和使用。

[0005] 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种纳米材料生产用三级球磨装置，具有球磨箱体，所述的球磨箱体的上端设置进料口，所述的球磨箱体内从上往下依次设置一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件；所述的三级球磨组件的下端位于球磨箱体内还设置筛分组件；所述的球磨箱体的下端设置偏锥状结构，所述的偏锥状结构的下部设置出料口；所述的一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件均包括两组水平设置的磨球机构，所述的磨球机构包括磨球、驱动杆、驱动电机、固定座、滑块、往复气缸和滑轨；所述的磨球的背部通过驱动杆穿过球磨箱体背部后连接驱动电机，所述的驱动电机的下端固定在固定座上，所述的滑块上端固定在固定座下部，所述的滑块下端滑动设置在滑轨中，所述的往复气缸的输出端固定在滑块的一侧。

[0006] 进一步地限定，上述技术方案中，所述的一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件中磨球与磨球之间的间距从上往下逐渐减小；可以进行被粉碎研磨的物料的逐级研磨粉碎，减少整体球磨组件的压力，提高研磨粉碎的均匀性。

[0007] 进一步地限定，上述技术方案中，所述的滑轨均水平固定设置在球磨箱体背部；可以实现驱动电机在水平方向上的循环移动，实现磨球之间的距离动态变化。

[0008] 进一步地限定，上述技术方案中，所述的一级球磨组件与二级球磨组件之间位于球磨箱体内还倾斜设置导流板，所述的导流板位置高的一端固定设置球磨箱体内壁上，所述的导流板位置低的一端向球磨箱体中部延伸；可以有效的避免被粉碎研磨的物料在球磨箱体中的堆积。

[0009] 进一步地限定，上述技术方案中，所述的筛分组件包括筛分电机、转动杆、筛分网框和筛分杆；所述的筛分网框两端固定设置在球磨箱体内壁上，所述的筛分电机垂直设置在球磨箱体下端，所述的筛分电机的输出端通过转动杆穿过筛分网框下端面延伸到筛分网框内后端部固定筛分杆；可以对对颗粒较大的物料进行有效的筛分，提高整体物料的颗粒均匀性。

[0010] 进一步地限定，上述技术方案中，所述的球磨箱体的两侧通过支架固定，保证整体装置运行的稳定性。

[0011] 进一步地限定，上述技术方案中，所述的进料口的上端一侧铰接翻盖；便于进行密封操作。

[0012] 进一步地限定，上述技术方案中，所述的一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件中磨球均相对转动；可以增加对被粉碎研磨物料的撞击强度。

[0013] 本实用新型的有益效果是：本实用新型提出的一种纳米材料生产用三级球磨装置，结构简单，可以有效的增加研磨过程中的撞击力度，采用逐级研磨，缩短研磨粉碎时间，提高研磨粉碎的效率，便于广泛推广和使用。

附图说明

[0014] 为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

[0015] 图1是本实用新型的正面结构示意图；

[0016] 图2是本实用新型的背部结构示意图；

[0017] 图3是本实用新型中筛分组件的结构示意图。

[0018] 附图中的标号为：1、球磨箱体，2、进料口，3、偏锥状结构，4、出料口，5、磨球，6、驱动杆，7、驱动电机，8、固定座，9、滑块，10、往复气缸，11、滑轨，12、导流板，13、筛分电机，14、转动杆，15、筛分网框，16、筛分杆，17、支架，18、翻盖。

具体实施方式

[0019] 为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

[0020] 在本申请中，驱动电机7、往复气缸10和筛分电机13都是根据具体型号直接从市场上购买使用，通过外部控制器控制运行。

[0021] 见图1、图2和图3所示的是一种纳米材料生产用三级球磨装置，具有球磨箱体1，球磨箱体1的上端设置进料口2，球磨箱体1内从上往下依次设置一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件；三级球磨组件的下端位于球磨箱体1内还设置筛分组件；球磨箱体1的下端设置偏锥状结构3，偏锥状结构3的下部设置出料口4；一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件均包括两组水平设置的磨球机构，磨球机构包括磨球5、驱动杆6、驱动电机7、固定座8、滑块9、往复气缸10和滑轨11；磨球5的背部通过驱动杆6穿过球磨箱体1背部后连接驱动电机7，驱动电机7的下端固定在固定座8上，滑块9上端固定在固定座8下部，滑块9下端滑动设置在滑轨11中，往复气缸10的输出端固定在滑块9的一侧。

[0022] 其中，一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件中磨球5与磨球5之间的间距从上往下逐渐减小。滑轨9均水平固定设置在球磨箱体1背部。一级球磨组件与二级球磨组件之间位于球磨箱体1内还倾斜设置导流板12，导流板12位置高的一端固定设置球磨箱体1内壁上，导流板12位置低的一端向球磨箱体1中部延伸。筛分组件包括筛分电机13、转动杆14、筛分网框15和筛分杆16；筛分网框15两端固定设置在球磨箱体1内壁上，筛分电机13垂直设置在球磨箱体1下端，筛分电机13的输出端通过转动杆14穿过筛分网框15下端面延伸到筛分网框15内后端部固定筛分杆16。球磨箱体1的两侧通过支架17固定。进料口2的上端一侧铰接翻盖18。一级球磨组件、二级球磨组件和三级球磨组件中磨球5均相对转动。

[0023] 见图1，图中的箭头表示磨球5的相对转动方向，采用这样的转动方向也可以避免在进行粉碎研磨过程中将物料排出的缺陷，减少对球磨箱体1侧壁的冲击力；在球磨箱体1的内壁上设置导流板12，导流板12 倾斜设置，可以使得物料在粉碎研磨后由于自重向中部聚集后掉入二级研磨组件或三级研磨组件中。

[0024] 见图3，通过筛分电机13的驱动，使得筛分杆14在筛分网框15内转动，从而使得物料不会再筛分网框15内堆积。

[0025] 该纳米材料生产用三级球磨装置的使用原理如下：

[0026] 使用人员将需要被粉碎研磨的物料从进料口2投入，通过外部控制器控制各个驱动电机7运行，这样可以使得磨球5进行相对转动，通过外部控制器控制往复气缸10运行，可以使得磨球5在转动过程中进行水平运动，使得磨球5之间的间距保持动态变化过程中，对物料进行夹击粉碎研磨；经过一级球磨组件后的物料通过下侧的导流板12后落入二级球磨组件进行二次粉碎研磨，二次粉碎研磨后通过三级粉碎研磨，最后通过筛分组件筛分，从出料口4排出。

[0027] 以上所述的，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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