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硅片清洗用移动装置

阅读：1042发布：2020-10-03

IPRDB可以提供硅片清洗用移动装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明涉及一种硅片清洗用移动装置，包括机架、安装在所述机架上且相对水平设置的导向板，所述导向板沿长度方向设有导向槽，所述导向板的下端沿长度方向固定有齿条，所述导向板上设有承载机构，所述承载机构包括基板、安装在所述基板上的支轴以及位于所述支轴两端的滚轮，所述基板上固定有气缸，所述气缸的气缸臂固定有承载板，所述承载板的四周固定有挂钩，所述滚轮位于所述导向槽内，所述基板的下端固定有电机，所述电机的输出轴固定有齿轮，所述齿轮与所述齿条啮合连接。本发明结构简单，使用方便，运行平稳，避免硅片在移动过程中的晃动，确保了硅片的质量，减少资源损耗，降低了生产成本。，下面是硅片清洗用移动装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种硅片清洗用移动装置，其特征在于：包括机架、安装在所述机架上且相对水平设置的导向板，所述导向板沿长度方向设有导向槽，所述导向板的侧端沿长度方向固定有齿条，所述导向板上设有承载机构，所述承载机构包括基板、安装在所述基板上的支轴以及位于所述支轴两端的滚轮，所述基板上固定有气缸，所述气缸的气缸臂固定有承载板，所述承载板的四周固定有挂钩，所述滚轮位于所述导向槽内，所述基板的下端固定有电机，所述电机的输出轴固定有齿轮，所述齿轮与所述齿条啮合连接。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述基板上固定有至少一个导向杆，所述承载板上固定有至少一个立杆，所述立杆部分置入所述导向杆内。

3.根据权利要求2所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述导向杆的数量为两个，所述立杆的数量为两个，两个所述导向杆、两个所述立杆均呈对角设置。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述承载机构的数量为两个。

5.根据权利要求4所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述基板的四周固定有轴承座，所述轴承座内设有轴承，所述支轴穿过所述轴承。

6.根据权利要求1所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述电机为步进电机。

说明书全文

硅片清洗用移动装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种硅片清洗用移动装置。

背景技术

[0002] 全自动超声波清洗设备上通常设置有机械臂，机械臂用来对清洗工件进行工位搬运。由于硅片清洗需要经过多道工序，通过机械臂来移动，但是现有机械臂在移动的过程中会出现晃动，导致用于承载硅片的清洗篮晃动，使得清洗篮内的硅片会出现碰撞，从而造成损伤，影响硅片的质量，增大了企业的生产成本。

发明内容

[0003] 本发明克服了现有技术的不足，提供一种结构简单的硅片清洗用移动装置。

[0004] 为达到上述目的，本发明采用的技术方案为：一种硅片清洗用移动装置，包括机架、安装在所述机架上且相对水平设置的导向板，所述导向板沿长度方向设有导向槽，所述导向板的侧端沿长度方向固定有齿条，所述导向板上设有承载机构，所述承载机构包括基板、安装在所述基板上的支轴以及位于所述支轴两端的滚轮，所述基板上固定有气缸，所述气缸的气缸臂固定有承载板，所述承载板的四周固定有挂钩，所述滚轮位于所述导向槽内，所述基板的下端固定有电机，所述电机的输出轴固定有齿轮，所述齿轮与所述齿条啮合连接。

[0005] 本发明一个较佳实施例中，硅片清洗用移动装置进一步包括所述基板上固定有至少一个导向杆，所述承载板上固定有至少一个立杆，所述立杆部分置入所述导向杆内。

[0006] 本发明一个较佳实施例中，硅片清洗用移动装置进一步包括所述导向杆的数量为两个，所述立杆的数量为两个，两个所述导向杆、两个所述立杆均呈对角设置。

[0007] 本发明一个较佳实施例中，硅片清洗用移动装置进一步包括所述承载机构的数量为两个。

[0008] 本发明一个较佳实施例中，硅片清洗用移动装置进一步包括所述基板的四周固定有轴承座，所述轴承座内设有轴承，所述支轴穿过所述轴承。

[0009] 本发明一个较佳实施例中，硅片清洗用移动装置进一步包括所述电机为步进电机。

[0010] 本发明解决了背景技术中存在的缺陷，本发明结构简单，使用方便，运行平稳，避免硅片在移动过程中的晃动，确保了硅片的质量，减少资源损耗，降低了生产成本。

附图说明

[0011] 下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

[0012] 图1是本发明的优选实施例的结构示意图；图2是本发明的优选实施例的基板、导向板的俯视图；
图中：2、机架，4、导向板，6、导向槽，8、齿条，10、基板，12、支轴，14、滚轮，16、气缸，18、气缸臂，20、承载板，22、挂钩，24、电机，26、输出轴，28、齿轮，30导向杆，32、立杆，34、轴承座，36、轴承。

具体实施方式

[0013] 现在结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。

[0014] 如图1、图2所示，一种硅片清洗用移动装置，包括机架2、安装在机架2上且相对水平设置的导向板4，导向板4沿长度方向设有导向槽6，导向板4的侧端沿长度方向固定有齿条8，导向板4上设有承载机构，承载机构包括基板10、安装在基板10上的支轴12以及位于支轴12两端的滚轮14，基板10上固定有气缸16，气缸16的气缸臂18固定有承载板20，承载板20的四周固定有挂钩22，挂钩22用于吊挂盛装硅片的清洗篮，滚轮14位于导向槽6内，本发明优选承载机构的数量为两个，四个滚轮14均位于导向槽6内，滚轮14被限位在导向槽6内，且沿导向槽6移动，水平运行平稳，基板10的下端固定有电机24，电机24的输出轴26固定有齿轮28，齿轮28与齿条8啮合连接，当电机24启动时，齿轮28旋转，由于齿条8固定不动，齿轮28沿齿条8的长度方向移动，从而使得基板10水平移动，带动承载板20水平移动。

[0015] 本发明优选基板10上固定有至少一个导向杆30，承载板20上固定有至少一个立杆32，立杆32穿过基板10且部分置入导向杆30内，立杆32沿导向杆30竖直上下移动，运行平稳。进一步优选导向杆30的数量为两个，立杆32的数量为两个，两个导向杆30、两个立杆32均呈对角设置，导向杆30、立杆32的截面均呈圆形，进一步使得承载板20沿竖直方向的运行平稳，避免承载板20的晃动，从而避免硅片的晃动，确保硅片的质量。

[0016] 本发明优选基板10的四周固定有轴承座34，轴承座34内设有轴承36，支轴12穿过轴承36。

[0017] 为了从一个清洗工序移动到另一个清洗工序，本发明优选电机24为步进电机。

[0018] 本发明的工作原理如下：气缸16启动，气缸臂18推动承载板20向下运动，吊挂在挂钩22上的清洗篮向下移动至第一清洗槽内，通过超声波清洗完毕后，气缸16复位，带动清洗篮离开第一个清洗槽，电机24启动，在齿轮28与齿条8的配合下，带动清洗篮平移至第二个清洗槽的上方，气缸启动，气缸臂18推动承载板20向下运动，吊挂在挂钩22上的清洗篮向下移动至第二清洗槽内，通过超声波进行清洗，如此循环。

[0019] 以上依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定技术性范围。

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