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镀膜玻璃用真空磁控镀膜室

阅读：788发布：2020-05-13

IPRDB可以提供镀膜玻璃用真空磁控镀膜室专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了一种抽气均匀的镀膜玻璃用真空磁控镀膜室，包括：腔室，在腔室内设置有三个隔离通道，隔离通道将腔室分割成四个区域，在每个隔离通道上设置有玻璃输送通道，在构成隔离通道的两侧墙板上以及构成玻璃输送通道的上、下隔板上开设有抽气孔，在腔室内还设置有两个抽气通道，抽气通道分布在隔离通道两端并与隔离通道内的空腔相通，抽气通道的两端与腔室上的抽气口相通。本发明适合于真空镀膜玻璃的生产领域。，下面是镀膜玻璃用真空磁控镀膜室专利的具体信息内容。

1.镀膜玻璃用真空磁控镀膜室，包括：腔室，其特征在于：在腔室内设置有三个隔离通道，隔离通道将腔室分割成四个区域，在每个隔离通道上设置有玻璃输送通道，在构成隔离通道的两侧墙板上以及构成玻璃输送通道的上、下隔板上开设有抽气孔，在腔室内还设置有两个抽气通道，抽气通道分布在隔离通道两端并与隔离通道内的空腔相通，抽气通道的两端与腔室上的抽气口相通。

说明书全文

镀膜玻璃用真空磁控镀膜室

技术领域

[0001] 本发明涉及到一种镀膜玻璃用真空磁控镀膜室。

背景技术

[0002] 传统的镀膜玻璃真空镀膜室采用一个腔室，由于腔室很大，在对这种腔室进行抽真空时只能设置几个定点的抽气口，在抽气时，外围的空气很快被抽走，中间的空气再慢慢的流向四周，最后通过抽气孔抽走，这样就会产生真空抽气不均匀现象，极易造成镀膜膜层的不均匀性。

发明内容

[0003] 本发明所要解决的技术问题是：将提供一种抽气均匀的镀膜玻璃用真空磁控镀膜室。
[0004] 为解决上述问题，本发明采用的技术方案是：镀膜玻璃用真空磁控镀膜室，包括：腔室，在腔室内设置有三个隔离通道，隔离通道将腔室分割成四个区域，在每个隔离通道上设置有玻璃输送通道，在构成隔离通道的两侧墙板上以及构成玻璃输送通道的上、下隔板上开设有抽气孔，在腔室内还设置有两个抽气通道，抽气通道分布在隔离通道两端并与隔离通道内的空腔相通，抽气通道的两端与腔室上的抽气口相通。
[0005] 本发明的优点是：通过采用隔离通道，从通常两侧抽气创新为上、下、左、右等多方位对腔室抽气，有效提高了真空抽气的均匀性，防止镀膜室局部抽气不均匀现象的发生。

附图说明

[0006] 图1是本发明所述的镀膜玻璃用真空磁控镀膜室俯视方向的结构原理示意图；
[0007] 图2是图1中所述隔离通道的A-A剖视结构放大图。
[0008] 图中：1、腔室，2、隔离通道，3、抽气通道，4、空腔，41、墙板，42、墙板，5、抽气孔，6、玻璃输送通道，61、隔板，62、隔板、7、抽气口。

具体实施方式

[0009] 下面结合附图和具体实施例对本发明所述的技术方案、及其工作原理和优点作进一步的描述。
[0010] 如图1、图2所示，一种镀膜玻璃用真空磁控镀膜室，包括：腔室1，在腔室1内设置有三个隔离通道2，隔离通道2将腔室1分割成四个区域，在每个隔离通道2上设置有玻璃输送通道6，在构成隔离通道2的两侧墙板41、42上以及构成玻璃输送通道6的上、下隔板61、62上开设有抽气孔5，在腔室1内还设置有两个抽气通道3，抽气通道3分布在隔离通道
2两端并与隔离通道2内的空腔4相通，抽气通道3的两端与腔室1上的抽气口7相通。
[0011] 本发明的工作原理是：当玻璃从腔室1的左边被输送过来进入腔室1后，在通过设置在隔离通道2上的玻璃输送通道6时，设置在腔室1外部的扩散泵通过抽气口7对腔室1进行抽气，空气按照图1中箭头所示方向从设置在墙板41、42和隔板61、62上的抽气孔5进入空腔4，然后流向隔离通道2的两端进入抽气管道3，最后从抽气管道3的两端的抽气孔7排出。
[0012] 本发明由扩散泵直接对镀膜室抽气改为对玻璃的上、下表面和镀膜室同时抽气，均化了抽气的均匀性，从根本上降低了真空抽气不均匀的现象。
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