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一种表面处理装置

阅读：898发布：2021-03-01

IPRDB可以提供一种表面处理装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明提供一种表面处理装置。该装置包括：能充放气体的容器；旋转构件，安装在所述容器；工件盛放构件，以能拆卸的方式安装在所述旋转构件，所述工件盛放装置具有盛放待处理工件的内部空间；表面处理构件，对盛放在所述内部空间的所述待处理工件进行表面处理。该装置能够使工件在相对于蒸发源翻转的同时，减少工件特别是工件边角和网状管筒之间的滑动和摩擦，实现工件各个表面的镀层均匀一致，同时边角镀层不发生破损。，下面是一种表面处理装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种表面处理装置，包括：

容器，能充放气体；

旋转构件，安装在所述容器；

工件盛放构件，以能拆卸的方式安装在所述旋转构件，所述工件盛放装置具有盛放待处理工件的内部空间；

表面处理构件，对盛放在所述内部空间的所述待处理工件进行表面处理。

2.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，所述旋转构件旋转时，盛放在所述内部空间的所述待处理工件相对所述表面处理构件发生翻转，而不相对所述工件盛放构件发生翻转。

3.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，多个所述工件盛放构件安装在所述旋转构件的周部，当所述旋转构件绕其中心轴线旋转时，所述工件和工件盛放构件一起由于重力作用发生转动。

4.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，所述工件盛放构件为网状筒构件，其内设有分隔件，用于隔开和固定所述待处理工件。

5.根据权利要求4所述的表面处理装置，其特征在于，所述分隔件为网状分隔件。

6.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理构件是金属或金属氧化物镀材蒸发源。

说明书全文

一种表面处理装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种表面处理装置，具体是一种用于对块状磁体的表面进行处理的表面处理装置。

背景技术

[0002] 钕铁硼永磁体体积小、重量轻和磁性强，在各个行业都得到广泛的使用。但是钕铁硼如果暴露在湿润大气中容易氧化，通常需要对其进行表面处理以防止腐蚀。通过气相沉积金属薄膜的方式可以达到对其进行防腐的目的。所用金属可以是铝、锌和锡或者其合金。要想达到良好的防腐效果，表面镀层必须不能有任何挂点及划伤。

[0003] 株式会社新王磁材的CN1209487C提供了一种干表面处理装置，其中涉及一种有多孔外壁的、用于装入工件的管筒。这种管筒垂直于转动轴线的剖面为多边形，分布在转轴圆周上管筒围绕转轴转动，从而实现工件在管筒内的自动翻面。这种方式虽然可以满足大部分片状磁体通过表面处理气相沉积进行防腐的要求。但是对于方块状或近似方块状的大型磁体，由于其质量大且边角比较尖，采用上述的装置翻转滑动时，边角部受力非常大，同时刚沉积在边角上的沉积层比较软，从而容易在翻转时造成工件和管筒之间的磕碰和摩擦，以及边角镀层的破坏。这种损伤对于表面镀层质量高，特别是稀土永磁体等基体容易腐蚀的工件来说是非常致命的。

发明内容

[0004] 针对上述问题，本发明提供一种表面处理装置，该表面处理装置包括：能充放气体的容器；旋转构件，安装在所述容器；工件盛放构件，以能拆卸的方式安装在所述旋转构件，所述工件盛放装置具有盛放待处理工件的内部空间；表面处理构件，对盛放在所述内部空间的所述待处理工件进行表面处理。

[0005] 优选地，所述旋转构件旋转时，所述待处理工件相对所述表面处理构件翻转，而不相对所述工件盛放构件发生翻转。

[0006] 优选地，多个所述工件盛放构件安装在所述旋转构件的周部，当所述旋转构件绕其中心轴线旋转时，所述工件和所述工件盛放构件一起由于重力作用发生转动。

[0007] 所述工件盛放构件优选为网状筒构件，其内设有分隔件，用于隔开和固定所述待处理工件。

[0008] 所述表面处理构件是金属或金属氧化物镀材蒸发源。

[0009] 上述表面处理装置能够使工件在相对于蒸发源翻转的同时，减少工件特别是工件边角和网状管筒之间的滑动和摩擦，实现工件各个表面的镀层均匀一致，同时边角镀层不发生破损。

附图说明

[0010] 图1是本发明一个实施方式的表面处理装置的纵向剖面图；

[0011] 图2是图1的表面处理装置的横向剖面图；

[0012] 图3是示出图1中支撑架和工件盛放构件细节的图；

[0013] 图4是示出图3中的工件盛放构件闭合状态的图，其内部空间盛放有工件；

[0014] 图5是示出图3中的工件盛放构件打开状态的图，其内部空间盛放有工件；

[0015] 图6是示出图3中的工件盛放构件打开状态的图，其内部空间未盛放工件；

[0016] 图7是示出图1中的表面处理装置工作时，工件盛放构件和盛放在其中的工件的转动状态的图。

具体实施方式

[0017] 下面结合附图对本发明一个实施方式的表面处理装置进行详细的说明。

[0018] 如图1和图2所示，一个实施方式的表面处理装置包括容器1，可以向其中充入气体和从中抽出气体。在容器1的底部设置有表面处理构件2，例如用于蒸发金属或金属氧化物镀材的蒸发源。在容器1的下部设有支撑部件，支撑部件上有转轮3。转轮3用于支持用作旋转构件的转架4，转架4的两端各有一个圆盘，圆盘被转轮3支持，两个圆盘通过连接杆7连接在一起。

[0019] 在容器1的一端设置有可以旋转的齿轮轴5。转架4的其中一个圆盘上固定有齿轮6，该齿轮6和齿轮轴5共同构成行星齿轮结构。通过控制调整齿轮轴5的旋转方向和转速，使得转架4可以按照不同的速度旋转。

[0020] 转架4上沿其外周设置有多个支撑架8，如图1和图2所示。支撑架8以可拆卸方式固定安装在转架4上。支撑架8上固定有多个支撑套环9，如图3所示，它们的中心孔共有一条轴线。可以开合的网状管筒10（见图4至图6）套装在支撑套环9的中心孔上，如图3所示，网状管筒10的外周尺寸比支撑套环9的中心孔的内径小，使得网状管筒10与支撑套环9之间有一定的间隙。如图5和图6所示，网状管筒10的内部空间设置有分隔件12，用于隔开并固定待处理的工件11。分隔件12可以呈网状或梳型，还可以设置成上下对应的小突块。

[0021] 网状管筒10内部空间的尺寸略大于待处理工件11的尺寸，使得工件11能被顺利装入网状管筒10中并与网状管筒10之间有一定的空隙。当网状管筒10转动时，工件11在网状管筒10的内部空间仅有少量移动，而不发生翻转，这样可以减少工件11和网状管筒10之间的滑动和摩擦。

[0022] 由于网状管筒10和支撑套环9之间有一定的间隙，这样随着转架4的旋转，套装在支撑套环9的中心孔的网状管筒10由于重力作用也发生转动。转架4绕其中心轴线每旋转一周，网状管筒10随之转动的状态如图7所示。网状管筒10的转动带动着工件11相对于蒸发源2的翻转，使得工件11的各个表面都能获得均匀的镀层，同时工件11的边角镀层不发生破损。

[0023] 实施例

[0024] 待处理的工件11为经过除油除锈后尺寸为15mm×18mm×40mm且边角R>0.1mm的烧结钕铁硼磁体制品。网状管筒10的内径为26mm，网壁厚为0.6mm。支撑套环9的内径为35mm。

[0025] 对容器1进行抽气当真空度达到1.0×10-2Pa以上时，充入惰性保护性气体到达0.5Pa时，转架4的转速为5r/min。按常规方法对磁体制品表面进行镀铝处理。

[0026] 工件经上述过程在表面沉积金属铝后，表面无划伤剥落处及裸漏基体的悬挂点，避免了不良品的出现。各个工件的平均膜厚也都在10±1.5μm范围以内，取得了很好的产品一致性。随机选取10个经上述过程处理的工件按照标准ISO3768-1976进行中性盐雾试验120小时，结果显示无肉眼可观察到的失效点。

[0027] 由上述可知，采用实施方式中的装置对磁体工件进行表面处理可以获得优异的表面镀膜效果。

[0028] 以上通过具体实施方式和实施例对本发明进行了详细说明，但不发明并不限于此。本领域技术人员可以对上述表面处理装置做出其他改变或变型。例如，工件盛放构件可以安装在旋转构件的内周面，而不安装在旋转构件的外周。表面处理构件可以是喷砂或喷丸相关的设备，用于在镀膜前处理喷砂或者在镀膜后处理喷丸。

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