已经将金属、金属化合物和其它试剂的埃厚度或更厚的层通常地用 于多层玻璃板以反射发热的红外线太阳辐射，同时透射可见光。可以作 为堆叠体按顺序布置这些层，并且可以布置在任何合适的基材，如双轴 拉伸热塑性聚(对苯二甲酸乙二醇酯)(PET)薄膜或相似的材料上。 一种形式(称为干涉滤光片)包括至少一个夹在反射抑制层或抗反射介 电层之间的反射性金属层。
当金属化薄膜如干涉滤光片在多层玻璃层压件(例如车辆挡风玻 璃)中与玻璃结合时，通常包括增塑的聚(乙烯缩丁醛)(PVB)的冲 击散失中间层以吸收来自车辆内驾驶者的头部的冲击，或吸收来自车辆 外面的外来物的冲击，而不允许其穿透挡风玻璃。在典型的布置中，将 单层聚(对苯二甲酸乙二醇酯)型涂膜布置在两层聚(乙烯缩丁醛)型 材料中间以形成随后置于两个玻璃层之间的三层结构。成品多层玻璃板 具有安全性和辐射传输控制的结合益处。
在倾斜视角下可能尤其明显的光学性能缺陷可以作为视觉上明显 的、各向同性的、波状反射图像在这种安全玻璃板中出现，据估计这种 反射图像具有大约0.002-0.012mm的振幅和2.5-7.5mm的波长。其在下文 中称为术语“苹果酱”。据信发生苹果酱的原因是聚乙烯型层(在倾斜 视角下反射光)在层压过程中顺应聚(乙烯缩丁醛)型层并且将呈现任 何非线性，或波纹，这些非线性或波纹呈现在聚(乙烯缩丁醛)型层上。 当彼此接触地布置聚(乙烯缩丁醛)型层时，其它不良的视觉缺陷，如 ″斑点″(杂色外观)，也可能出现在着色的聚(乙烯缩丁醛)玻璃层压 件中。例如，当将用颜料着色的聚(乙烯缩丁醛)与未用颜料着色的聚 (乙烯缩丁醛)共挤出，然后将所得的层与其它层或玻璃层压时，可能 产生斑点。
已经报道了数个减轻苹果酱和斑点的程度的尝试(参见，例如，美 国专利4,465,736、4,973,511和5,091,258)，然而，需要其它降低苹果酱 和斑点的方法。因此，需要进一步改进的组合物和方法以在不会不利地 影响所得多层结构的光学特性的情况下增强聚合物和与聚合物薄膜层 结合使用的聚(乙烯缩丁醛)片材，尤其是聚(对苯二甲酸乙二醇酯) 的特性。
发明概述
现在，根据本发明，已经开发了在层压之前具有低波纹度和高粗糙 度值的聚合物片材，允许制备包括聚(对苯二甲酸乙二醇酯)型层的轻 度变形多层层压的玻璃板或包括相邻的聚(乙烯缩丁醛)型材料层的轻 度变形多层层压的玻璃板。
本发明包括聚合物片材，其包含：聚(乙烯缩丁醛)；和增塑剂， 其中所述聚合物片材具有波纹度指数小于20,000平方微米，Rz值至少为 20微米，恒定性(permanence)为10-95的表面。
本发明包括多层中间层的制备方法，包括以下步骤：形成包含聚(乙 烯缩丁醛)和增塑剂的第一聚合物片材，其中所述第一聚合物片材具有 第一表面和第二表面，和其中所述第一表面具有小于20,000平方微米的 波纹度指数，至少20微米的Rz值以及10-95的恒定性；与所述第一聚合 物片材的第一表面接触布置聚合物薄膜层以形成堆叠体；以及层压所述 堆叠体。
本发明包括聚合物片材的制备方法，包括：形成包含聚(乙烯缩丁 醛)和增塑剂的层，其中所述层具有第一表面和第二表面，且在所述第 一表面上具有小于20,000平方微米的波纹度指数和小于20微米的Rz值， 和在所述第一表面上用粗糙图案(pattern)将所述层压花以制备所述聚 合物片材，其中所述聚合物片材在对应于所述层的所述第一表面的一侧 具有小于20,000平方微米的波纹度指数，和至少20微米的Rz值。
本发明包括多层板的制备方法，包括以下步骤：形成包含聚(乙烯 缩丁醛)和增塑剂的第一聚合物片材，其中所述第一聚合物片材具有第 一表面和第二表面，和其中所述第一表面具有小于20,000平方微米的波 纹度指数，至少20微米的Rz值以及10-95的恒定性；布置与所述第一聚 合物片材的第一表面接触的聚合物薄膜层以形成堆叠体；在所述聚合物 薄膜对面布置与所述聚合物片材接触的玻璃层；和，层压所述堆叠体。
附图简述
图1示出层压的聚合物片材//聚合物薄膜构造的示意图。
详细描述
根据本发明，已经发现，通过使用本发明的聚合物片材和/或方法可 以减少被称为“苹果酱”的缺陷(可能出现在包括布置成与聚合物薄膜 层，如聚对苯二甲酸乙二醇酯接触的聚(乙烯缩丁醛)型片材的多层玻 璃板中)。此外，可以同样地减少斑点缺陷。本发明的聚合物片材具有 低的波纹度指数，或WI(这是一种片材表面的不平度的量度)和高的粗 糙度值或Rz(这是一种片材表面上通常有意产生的较小不规则性的量 度)。
如图1所示，大体上在10处，本发明的一些实施方案包括减少可能 由于聚合物片材14和聚合物薄膜层16之间的界面12产生的变形。如将在 以下更详细地描述的那样，该聚合物片材14可以包含任何聚(乙烯缩丁 醛)型材料，该聚合物薄膜层16可以包含任何聚(对苯二甲酸乙二醇酯) 型材料。通常，多层玻璃板可以包括图1中示出的聚合物片材14和聚合 物薄膜层16以及在所述聚合物14对面与该聚合物薄膜层16接触的第二 聚合物片材层(未显示)。然后可以将该三层构造置于两个玻璃层之间 以形成多层玻璃板。
形成根据本发明的聚合物片材包括制备具有低波纹度指数和高粗 糙度值的聚合物片材。通过减少聚合物片材14和聚合物薄膜层16之间的 界面12的变形或两层聚合物片材(未显示)之间界面的变形，该聚合物 片材14的低的波纹度指数减少成品玻璃板中苹果酱和/或斑点的出现，而 高的粗糙度值允许在层压过程中层的适当脱气。在本发明的各种实施方 案中，聚合物片材的一个表面或两个表面具有低的波纹度指数和高的粗 糙度值。
本发明包括已通过本发明方法制备的聚合物片材。本发明包括聚合 物片材的制备方法，其包括以下步骤：制备具有波纹度指数低和粗糙度 值低的表面的聚合物片材；和，用粗糙图案在该聚合物片材的表面压花 以赋予其高的粗糙度值。
先前减少或消除苹果酱的尝试尤其包括制备具有低波纹度指数的 增塑的聚(乙烯缩丁醛)层。这种尝试通常产生缺乏合乎需要的性能的 层，因为所制备的光滑层的粗糙度值低，从而导致装配过程的层压步骤 的困难。其它减少苹果酱的尝试已经包括这样的过程，其中将一层聚合 物薄膜，如聚(对苯二甲酸乙二醇酯)置于两层聚(乙烯缩丁醛)之间， 辊压以形成三层层压件，然后在该聚(乙烯缩丁醛)层的暴露表面压花 (参见日本专利申请JP59223256)。光滑的聚(乙烯缩丁醛)与聚(对 苯二甲酸乙二醇酯)的层压可能导致层压过程的脱气步骤的困难。
本发明提供用于制备具有低波纹度指数和高粗糙度值的聚合物片 材的方法，从而减少或消除可能在聚合物薄膜与聚合物片材如聚(乙烯 缩丁醛)结合使用时产生的苹果酱和其它光学缺陷，或当使用多层聚(乙 烯缩丁醛)时产生的缺陷。
在本发明的各种实施方案的第一步骤中，制备聚合物片材，该聚合 物片材具有(在一个或两个表面上且不一定相同)小于20,000平方微米， 小于15,000平方微米，小于12,000平方微米，小于10,000平方微米，小于 8,000平方微米，小于6,000平方微米或小于5,000平方微米的波纹度指 数，和小于15微米，小于12微米，小于10微米，小于9微米，小于8微米， 小于7微米，小于6微米或小于5微米的粗糙度值，并且上面给出的波纹 度指数和粗糙度值的值可以以任何组合相结合。在本发明的各种具体实 施方案中，WI和Rz为小于20,000平方微米和小于20微米，小于15,000平 方微米和小于10微米，小于15,000平方微米和小于7微米或为小于15,000 平方微米和小于5微米。在这一段给出的值为波纹度和粗糙度的“压花 前”的值。
在这些实施方案的下一步骤中，相对光滑表面或表面用粗糙图案压 花。这种粗糙图案可以是任何适合的图案，并且在各种实施方案中，产 生具有至少20微米，至少25微米，至少30微米，至少35微米，至少45微 米或至少55微米的最终粗糙度值(压花后的值)。因为这一压花步骤在 该层与聚(对苯二甲酸乙二醇酯)，或玻璃，或另一个聚(乙烯缩丁醛) 层的层压之前进行，所以压花的表面允许最终产品的各层之间的优良脱 气。
通过使用本发明的方法，已经发现可以制备具有一个或两个具有有 利地低的波纹度指数和较高的粗糙度值的表面的聚合物片材。具体地， 在本发明的各种实施方案中，在用粗糙度模型压花之后，聚合物片材具 有小于20,000平方微米，小于15,000平方微米，小于12,000平方微米，小 于10,000平方微米，小于8,000平方微米，小于6,000平方微米或小于5,000 平方微米的波纹度指数，至少20微米，至少25微米，至少30微米，至少 35微米，至少45微米或至少55微米的粗糙度值，并且当合适时，上面给 出的波纹度指数和粗糙度值的值可以以任何组合相结合。在这一段给出 的值是波纹度和粗糙度的“压花后”的值。对于其中给出WI和粗糙度值 两者的本发明的这些和其它实施方案，相应的其它实施方案也是本发明 的一部分，其中仅使用给出的粗糙度值，而不是WI，来表征聚合物片材。
除了WI和粗糙度值之外，本发明的聚合物片材还通过它们的恒定性 来表征，恒定性是片材的细小表面外形的可变性的量度。对聚合物片材 的一个或两个表面的恒定性的测定可以根据本文其它地方描述的程序 测定。
制备的具有低的粗糙度和波纹度并且压花至高的粗糙度值的本发 明的聚合物片材可以具有95到低至10的恒定性值。这一范围与仅仅依赖 熔融破裂获得表面粗糙度的聚合物片材(大体上具有100或接近100的恒 定性值)形成对比。赋予聚合物片材的恒定性的值将取决于所需的应用 和可能使用的层压操作条件。例如，对于其中希望最大限度地减少苹果 酱的应用来说，本发明的聚合物片材可能具有小于40，小于30或小于20 的恒定性值，这不是说在其它具有较高的恒定性值的实施方案中没有减 少苹果酱。在其中希望其它缺陷的特定减少的其它实施方案中，可以赋 予聚合物片材60-95，65-90，或70-80的恒定性值。可用于本发明的各种 实施方案的其它恒定性值是10-30，30-50和50-95，50-90或50-85。
在这一段给出的这些恒定性值可以以任何组合与上面给出的压花 后的粗糙度和波纹度值相结合。
可以通过改变，例如，以下任一个参数控制本发明的聚合物片材的 恒定性值：改变将材料压入压花辊和/或压延辊的接触辊的气压，其中较 高的压力与较高的恒定性相关；通过接触或非接触方法，例如IR加热 器，提高聚合物表面温度，其中提高的温度与较高的恒定性相关；和， 改变线速度以控制聚合物的热吸收速度，其中较低的线速度与较高的恒 定性相关。
通过改变恒定性，可以使本发明聚合物片材适合于特定的制造工 艺。例如，25-40的恒定性可以用于使用压料辊预压的工艺，50-80的恒 定性可以用于使用真空袋预压的工艺。
可以根据以下所示通过改变聚合物片材的常规制备实现足够光滑 以产生上面给出的压花前的值(即，具有充分低的波纹度指数和粗糙度 值)的聚合物片材的制备：
对于其中使用口模制备聚合物片材的制备方法来说，可以通过提高 口模的模唇温度制备极其光滑的层，以制备具有上述压花前波纹度指数 和粗糙度参数的片材。在各种实施方案中，将模唇温度维持在170℃-230 ℃，190℃-210℃，或195℃-205℃。
对于使用口模辊制备聚合物片材的应用来说，平滑度可以如下达 到：使用没有或极小表面粗糙度或波纹度的镜面加工涂胶辊(例如，由 铬制成)和/或使用高的刀片温度。其它实施方案使用镜面加工涂胶辊以 达到相同的效果。通常，所制备的片材的波纹度与口模辊的表面的波纹 度相似，因此应该将口模辊的波纹度保持在与成品片材的所需波纹度相 当的水平。当然，尽管本领域普通技术人员将认识到所使用的生产参数 将取决于所使用的聚合物熔体和正在用以制备聚合物片材的机器，但是 可以通过改变本文公开的生产参数容易地实现根据本发明的可接受的 平滑度。
第二步骤(用粗糙图案在该平滑的聚合物片材上压花)可以通过任 何合适的方法进行，包括，例如，通过使用具有粗糙图案的辊以在该聚 合物片材的一个或两个表面上提供相反(“负像”)图案。这一步骤的 最后效果是将粗糙度值提高至希望的较高值。根据引导和形成片材的需 要，在片材的挤出点和方法的各个步骤之间可以使用一个或多个附加的 辊。
本发明包括以下各种实施方案：
在各种实施方案中，本发明包括聚合物片材，如包括具有上面给出 的压花后的WI和Rz值的至少一个表面的聚(乙烯缩丁醛)。本发明还包 括聚合物片材，如包括具有上面给出的压花后的WI和Rz值的两个表面的 聚(乙烯缩丁醛)。
本发明还包括聚合物片材，如包括具有上面给出的压花后的WI和Rz 值的一个或两个表面的聚(乙烯缩丁醛)，其中该层不与任何其它的层 接触，而是不置于任何层压件中的单个聚合物片材。
在各种实施方案中，本发明包括用于层压玻璃的多层中间层，其中 该中间层包括聚合物片材，如包括在将表面层压到聚合物薄膜(如聚(对 苯二甲酸乙二醇酯))之前具有上面给出的压花后的WI和Rz值的表面的 聚(乙烯缩丁醛)。
本发明包括任何聚合物片材或具有通过本发明的任何方法制备的 聚合物片材和聚合物薄膜的多层中间层。
在各种实施方案中，本发明包括制造多层玻璃板的方法，包括在堆 叠体中将本发明的聚合物片材与一个或多个聚合物薄膜或聚合物片材 堆叠，和形成中间层。
在各种实施方案中，本发明包括制造多层玻璃组件的方法，包括： 在堆叠体中将聚合本发明的聚合物片材与一个或多个聚合物薄膜或聚 合物片材堆叠，形成中间层，然后通过层压两个玻璃层之间的中间层形 成多层玻璃板。这些板可以是任何类型的层压玻璃结构，包括但不限 于，建筑玻璃和汽车挡风玻璃。
在各种实施方案中，本发明包括包含本发明的任何聚合物片材或中 间层的挡风玻璃或窗。
在各种实施方案中，本发明包括制造多层中间层的方法，包括：形 成聚合物片材，其中该聚合物片材的两个表面具有上面给出的压花前的 值；在两个表面中的一个或两个上将该聚合物片材压花，其中压花产生 具有上面给出的压花后的值的表面；和将该聚合物片材层压到聚合物薄 膜，其中将该聚合物薄膜布置在该聚合物片材的压花表面上。
其它实施方案包括层压两个聚合物片材之间的聚合物薄膜，其中根 据本发明制备与该聚合物薄膜接触的聚合物片材的一个或两个表面。其 它实施方案包括层压刚刚描述的两个玻璃层之间的三层中间层。作为另 一个例子，一些实施方案可以具有一个以上聚合物薄膜，例如，这样的 构造：聚合物片材//聚合物薄膜//聚合物片材//聚合物薄膜//聚合物片材。
在另一个实施方案中，具有玻璃//聚合物片材//聚合物薄膜这样的布 置的构造可以通过如下形成：首先层压聚合物片材和聚合物薄膜，然后 将该组合层压到玻璃，或通过同时将三者全部层压在一起。在这个实施 方案中可以使用本发明的任何聚合物片材。在其中使用这种三层组件的 常规应用中，聚合物薄膜层(通常是聚(对苯二甲酸乙二醇酯))通常 比在玻璃//片材//薄膜//片材//玻璃实施方案中使用的聚合物薄膜厚。通常 需要这种额外的厚度以提供更刚性的薄膜，这种薄膜可以抵抗在不使用 第二刚性玻璃片支撑该聚合物层时往往出现的变形和由此产生的光学 缺陷。在具有玻璃层、本发明的聚合物片材和聚合物薄膜的本发明的实 施方案中，所得的三层装置可以使用相对更薄的聚合物薄膜，因为本发 明的聚合物片材的优良性能提供光学缺陷的进一步减少。
本发明可以进一步用来减少称为梯度斑点的缺陷。梯度斑点是在用 梯度聚(乙烯缩丁醛)和类似的聚合物制造的挡风玻璃中观察到的缺 陷，其中将深色的聚(乙烯缩丁醛)与透明的聚(乙烯缩丁醛)层共挤 出。挡风玻璃的梯度(有阴影的)部分可能显示不均匀的明暗区域。在 一些产品中，挡风玻璃还包含用于日光保护的聚(对苯二甲酸乙二醇 酯)薄膜。在这种情况下，梯度斑点和苹果酱可能同时出现。
例如，在其中使用颜料、染料或其它试剂以在挡风玻璃内产生变暗 区域的应用中，使用本发明的方法制备聚合物片材将在各种实施方案中 产生具有上述给出的压花前和压花后的值的产品。随后将在玻璃组件中 (有或者没有其它层)具有梯度的聚合物片材层压将导致梯度斑点的减 少。因此，本发明包括其中根据本发明的方法制备具有颜色梯度的聚合 物片材的实施方案，以及由此制备的包括聚合物片材的多层玻璃板。
其它实施方案改善LAG斑点，其可能在用彼此接触的透明和用颜料 着色的聚(乙烯缩丁醛)层制造的建筑有色层压件中出现。LAG斑点具 有与梯度斑点相似的外观。本发明的各种实施方案包括具有多个聚合物 片材层的建筑多层玻璃板。本发明的这些实施方案包括多个聚合物片材 构造的制造方法，在该多个聚合物片材构造中将两个或多个聚合物片材 (其中至少一个通过本发明的方法制备)以及任选地聚合物薄膜层如聚 (对苯二甲酸乙二醇酯)和玻璃层彼此接触地堆叠，然后层压成成品。 这些实施方案包括两个彼此接触地层压的聚(乙烯缩丁醛)型聚合物片 材，并且该聚合物片材的一个或两个可以包括具有本文其它地方给出的 压花前和压花后的值的一个或两个表面，并且该聚合物片材的一个或两 个可以包含染料。在其它实施方案中，将本发明的聚合物片材与另一个 聚合物片材接触布置，并且两个聚合物片材都不包含颜料或染料。
聚合物薄膜
图1中示出的聚合物薄膜层16可以是通常在多层玻璃板中用作性能 增强层的任何适合的热塑性薄膜。在各种实施方案中，该聚合物薄膜层 16具有0.013mm-0.20mm，优选0.025mm-0.1mm或0.04-0.06mm的厚度。 可以任选地对该聚合物薄膜层16进行表面处理或涂覆以改进一种或多 种性能，如粘附性或红外辐射反射。这些功能特性层包括，例如，用于 当暴露于日光下时反射红外线太阳辐射和透射可见光的多层堆叠体。这 些多层堆叠体在本领域中是已知的(参见，例如，WO 88/01230和美国 专利4,799,745)并且可以包括，例如，一个或多个埃厚度的金属层和一 个或多个(例如两个)顺序沉积的、光学协同的介电层。如已知的那样， (参见，例如，美国专利4,017,661和4,786,783)，可以任选地将金属层 电阻加热以为任何相关的玻璃层除霜或除雾。
在一些实施方案中，聚合物薄膜层16是光学透明的(即，从该层的 一侧看过去，特定观察者的眼睛可以舒适地看到邻近该层另一侧的物 体)，并且在不考虑组成的情况下，通常比相邻的聚合物片材14具有更 大的(在一些实施方案中显著地更大)拉伸模量。在各种实施方案中， 聚合物薄膜层16包含热塑性材料。具有适合的性能的热塑性材料包括尼 龙、聚氨酯、丙烯酸系树脂、聚碳酸酯、聚烯烃如聚丙烯、纤维素乙酸 酯和三乙酸酯、氯乙烯聚合物和共聚物等。在各种实施方案中，聚合物 薄膜层16包含具有所指出的性能的再拉伸的热塑性薄膜等材料，包括聚 酯、例如聚(对苯二甲酸乙二醇酯)和聚(对苯二甲酸乙二醇酯)二醇 (PETG)。在各种实施方案中，使用聚(对苯二甲酸乙二醇酯)，并 且在各种实施方案中，已经将聚(对苯二甲酸乙二醇酯)双轴拉伸以提 高强度，并且已经热稳定化以提供经受高温时低的收缩性(例如在150 ℃下30分钟后两个方向上均小于2％的收缩率)。
可以用于本发明的聚(对苯二甲酸乙二醇酯)薄膜的各种涂覆和表 面处理技术在公开的欧洲申请No.0157030中进行了公开。
聚合物片材
以下部分描述了可以用来形成在图1中以元件14示出的具有作为安 全玻璃的中间层有用的性能的本发明的聚合物片材，如聚(乙烯缩丁 醛)的各种材料。
本文所使用的“聚合物片材”是指通过任何适合的方法形成适合用 作层压玻璃结构的中间层的薄层的任何聚合物组合物。本文所使用的 “树脂”是指从由聚合物前体的酸催化和随后的中和产生的混合物中分 离出的聚合物(例如聚(乙烯缩丁醛))组分。树脂通常会具有除聚合 物(例如聚(乙烯缩丁醛))之外的其它组分，如乙酸酯、盐和醇。本 文所使用的″熔体″是指树脂与增塑剂和任选地其它添加剂的熔融混合 物。
通过本文公开的方法制备的聚合物片材是本发明的一部分，并且包 括在本发明的范围内。
本发明的聚合物片材可以包含任何适合的聚合物，并且，在一个优 选的实施方案中(如以上例示)，该聚合物片材包含聚(乙烯缩丁醛)。 在本文给出的包含聚(乙烯缩丁醛)作为聚合物片材的聚合物组分的本 发明的任何一个实施方案中，包括另一个其中该聚合物组分由或主要由 聚(乙烯缩丁醛)构成的实施方案。在这些实施方案中，可以在包含由 或主要由聚(乙烯缩丁醛)构成的聚合物的聚合物片材中使用本文公开 的添加剂(包括增塑剂)的任何变体。
在一个实施方案中，该聚合物片材包含基于部分缩醛化的聚(乙烯 醇)的聚合物。在另一个实施方案中，该聚合物片材包含选自以下物质 的聚合物：聚(乙烯缩丁醛)、聚氨酯、聚氯乙烯、聚(乙烯-乙酸乙烯 酯共聚物)、它们的结合等。在一个实施方案中，该聚合物片材包含聚 (乙烯缩丁醛)。在其它的实施方案中，该聚合物片材包含增塑的聚(乙 烯缩丁醛)。在其它实施方案中，该聚合物片材包含聚(乙烯缩丁醛) 和一种或多种其它聚合物。还可以使用其它的具有适合的玻璃化转变温 度的聚合物。在其中具体地给出用于聚(乙烯缩丁醛)的优选范围、值 和/或方法(例如，但不限于，增塑剂、构成百分比、厚度和特性增强添 加剂)的本文任何部分，那些范围也适用于(当可应用时)在此公开的 可用作聚合物片材的组分的其它聚合物和聚合物共混物。
对于包括聚(乙烯缩丁醛)的实施方案来说，可以通过已知的缩醛 化方法制备聚(乙烯缩丁醛)，该方法包括让聚(乙烯醇)(PVOH) 与丁醛在酸催化剂的存在下反应，接着中和该催化剂，分离、稳定化和 干燥该树脂。
在各种实施方案中，该包含聚(乙烯缩丁醛)的聚合物片材包含 10-35wt％以聚(乙烯醇)计算的羟基，13-30wt％以聚(乙烯醇)计算的 羟基，或15-22wt％以聚(乙烯醇)计算的羟基。该聚合物片材还可以包 含以聚乙酸乙烯酯计算的小于15wt％的残留酯基，13wt％，11wt％， 9wt％，7wt％，5wt％或小于3wt％的残余酯基，其余的部分是乙缩醛，优 选丁醛乙缩醛，但是任选地以小量包括其它的乙缩醛基，例如2-乙基己 醛基(参见，例如美国专利5,137,954)。
在各种实施方案中，该聚合物片材包含聚(乙烯缩丁醛)，该聚(乙 烯缩丁醛)具有至少30,000，40,000，50,000，55,000，60,000，65,000， 70,000，120,000，250,000，或至少350,000克/摩尔(g/mole或道尔顿) 的分子量。在缩醛化步骤期间还可以附加少量的二醛或三醛以将分子量 增加至至少350g/m(参见，例如美国专利4,902,464；4,874,814； 4,814,529；4,654,179)。本文所使用的术语“分子量”是指重均分子量。 可以使用任何适合的方法来制备本发明的聚合物片材。用于制造聚(乙 烯缩丁醛)的适合的方法的细节是为本领域技术人员已知的(参见，例 如，美国专利2,282,057和2,282,026)。在一个实施方案中，可以使用 Encyclopedia of Polymer Science&Technology，第三版，第8卷，381-399 页，B.E Wade(2003)的Vinyl Acetal Polymers中描述的溶剂法。在另 一个实施方案中，可以使用其中描述的含水法。聚(乙烯缩丁醛)可以 以各种形式从例如，Solutia Inc.，St.Louis，Missouri以ButvarTM树脂商 购。
在本发明的聚合物片材中可以使用各种粘附控制剂，包括乙酸钠、 乙酸钾和镁盐。可以用于本发明的这些实施方案的镁盐包括，但是不限 于，在美国专利5,728,472中公开的那些，如水杨酸镁，烟酸镁，二(2- 氨基苯甲酸)镁，二(3-羟基-2-napthoate)镁和二(2-乙基丁酸)镁(化 学文摘号79992-76-0)。在本发明的各种实施方案中，所述镁盐是二(2- 乙基丁酸)镁。
可以将添加剂引入聚合物片材以增强其在最终产品中的性能。这种 添加剂包括，但是不限于，增塑剂、染料、颜料、稳定剂(例如，紫外 线稳定剂)、抗氧化剂、抗粘连剂、阻燃剂、IR吸附剂、上述添加剂的 结合物等，它们在本领域中是已知的。
在本发明的聚合物片材的各种实施方案中，该聚合物片材可以包含 20-60，25-60，20-80或10-70份增塑剂/100份树脂(phr)。当然，可以 使用如适合于具体应用的其它的量。在一些实施方案中，增塑剂具有少 于20，少于15，少于12或少于10个碳原子的烃链段。
可以调整增塑剂的量以影响聚(乙烯缩丁醛)片材的玻璃化转变温 度(Tg)。一般而言，添加较高的量增塑剂以降低Tg。本发明的聚(乙 烯缩丁醛)聚合物片材可以具有40℃或更低，35℃或更低，30℃或更低， 25℃或更低，20℃或更低和15℃或更低的Tg。
可以将任何适合的增塑剂添加到本发明的聚合物树脂中以形成聚 合物片材。用于本发明的聚合物片材的增塑剂可以尤其包括多元酸或多 元醇的酯。适合的增塑剂包括例如，三甘醇二(2-乙基丁酸酯)、三甘 醇二(2-乙基己酸酯)、三甘醇二庚酸酯、四甘醇二庚酸酯、己二酸二 己酯、己二酸二辛酯、己二酸己基环己酯、己二酸庚酯和己二酸壬酯的 混合物、己二酸二异壬酯、己二酸庚基壬酯、癸二酸二丁酯、高分子型 增塑剂如油改性的癸二酸醇酸树脂，和如美国专利号3,841,890公开的磷 酸酯和己二酸酯的混合物和美国专利号4,144,217公开的己二酸酯，和上 述物质的混合物和结合物。其它可以使用的增塑剂是如美国专利No. 5,013,779中公开的由C4-C9烷基醇和环状C4-C10醇制成的混合己二酸酯 和C6-C8己二酸酯，如己二酸己酯。在一些实施方案中，该增塑剂是三甘 醇二(2-乙基己酸酯)。
可以采用上述方法的改进根据在本领域普通技术人员已知的方法 将聚(乙烯缩丁醛)聚合物和增塑剂添加剂热加工和成形成片材形式， 以制备在压花之前具有所需波纹度指数和粗糙度值的聚合物片材。形成 聚(乙烯缩丁醛)片材的一个示例性方法包括通过将包含树脂、增塑剂 和添加剂的熔融的聚(乙烯缩丁醛)(在下文中称“熔体”)推过口模 (例如，具有一个方向上的尺寸显著比垂直方向上尺寸大的开口的口 模)将该熔体挤出。另一种形成聚(乙烯缩丁醛)片材的示例性方法包 括将熔体从口模浇铸到辊子上，将该树脂固化，并随后取下作为片材的 固化树脂。在各种实施方案中，该聚合物片材可以具有0.1-2.5毫米， 0.2-2.0毫米，0.25-1.75毫米和0.3-1.5毫米(mm)的厚度。
还包括在本发明中的是在本文以任何组合公开的任何本发明聚合 物组合物片材的堆叠体或卷材。
此外，本发明包括与本发明的任何聚合物片材//聚合物薄膜实施方 案接触布置的包括玻璃层(通常包含二氧化硅)的层压安全玻璃。还包 括的有包括两个玻璃片材的层压安全玻璃，其中将本发明的任何聚合物 片材//聚合物薄膜构造布置在两个玻璃片材之间。
本发明还包括具有本发明的任何多层构造的挡风玻璃、窗和其它成 品玻璃产品。
现在将描述本发明使用的各种聚合物片材和/或层压玻璃的特性和 测量技术。
本文所使用的“波纹度指数”或“WI”和“粗糙度值”或“Rz”可 以根据以下进行测定：
为了测定Rz，将15cm×15cm的增塑聚合物片材的试样放置在通过 在其中循环的室温下的流体调节的真空板上。施加5psi的真空以将该样 品吸在该板表面上。使用具有PRK驱动装置和RFHTB-250示踪触针 (tracing stylus)的S8P型Perthometer(可从Mahr Gage Co.，New York获 得)来直接地测量该试样的每一侧的片材表面粗糙度。在该仪器上将外 形(Profile)选择设置在“R”。该示踪触针自动地在该样品表面上移 动。每个踪迹(trace)的长度是17.5mm，其由7个连续的2.5mm的测量 长度Lc组成。测量长度是12.5mm，由通过除去第一和最后一部分获得的 5个测量长度组成。测定这5个连续的测量长度Lc中的各个粗糙度深度的 平均值，Rz是10次这种测定的平均值，其中5次在挤出的纵向(加工方 向)(MD)上测定，5次在横纵向(CMD)上测定。在每个方向上两个 连续踪迹之间的距离是3mm。
为了测定波纹度指数值(WI)，使用以上提到的Perthometer，并将 外形选择设置为“W”。在这一测量中使用56mm的示踪长度和40mm的 测量长度。
该40mm测量长度由5个8mm的测量长度(除去了两个末端的8mm测 量长度)组成。使用得自该Perthometer背面的插接连接的数字输出，将 来自该Perthometer的可变的波纹度输出电压信号电子输送给计算机。进 行10次示踪，其中5次踪迹在挤出的纵向上取得，5次踪迹在横纵向上取 得，在两个连续的踪迹之间的距离为3mm。Sub SmoothData()程序(下 载到计算机上并在本文提供)由该10次踪迹的输入计算一个WI值。
然后通过将得自片材的整个表面上均匀分布的取样点的100个单独 的WI值平均来计算聚合物片材(例如得自经调整大小用于汽车挡风玻璃 的片材)的表面WI值。
可以在相反的表面上进行相同的计算，并且如在其它地方指出的那 样，可以产生相似的或不同的结果，这取决于制造方法和所需的产品。 在本发明的各种实施方案中，所获得的100个值中的至少90个值在该100 个值的平均值的+/-20％，+/-15％，+/-10％，+/-5％，或+/-2％的范围内。 除非在权利要求中另有说明，当在权利要求中给出聚合物片材表面的″ WI值″时，在上述测量过程中获得的100个值的至少90个值在该100个值 的平均值的+/-20％的范围内。
使用上述Perthometer，用于测量粗糙度的其它设置旋钮位置如下： Filter：GS，Profile：R，LC：N 2.5mm，LT：17.5mm，VB：625微米。 测量波纹度时，设置如下：Filter：GS，Profile：W，LC：N 8.0mm，LT： 56mm，VB：625微米。
本发明的聚合物片材的特征还在于它们的“恒定性”，其根据以下 技术进行测定：对于压花的聚合物片材来说，在压花之前测量聚合物片 材的Rz(Rz Base)。压花之后，获得第二Rz测量值(Rz Final)。对于 不压花的聚合物片材来说，测量粗糙度测量值(Rz)并且指定为Rz Final，将Rz Base赋值为零。然后，对于压花和未压花的片材来说，均从 该聚合物片材上切割下12.7平方厘米的样品。将一片14平方厘米的聚(对 苯二甲酸乙二醇酯)放在被搁置在水平表面上的木架上，其中该框架边 缘略小于该聚合物片材样品。然后将该聚合物片材样品放置在该聚(对 苯二甲酸乙二醇酯)薄膜上，然后将另一部分聚(对苯二甲酸乙二醇酯) 薄膜放置在该聚合物片材上。然后将第二框架放置在该聚合物层的上 面。然后用夹子将该框架夹在一起。然后将该框架和聚合物组件放入预 热烘箱中并在100℃下保持5分钟。然后取出该组件并使其冷却。然后测 定该聚合物片材样品的另一个Rz值(Rz100℃)。
然后可以根据以下公式确定恒定性：

可以通过测量雾度值(没有透过片材的光的量化)确定聚合物片 材，尤其是聚(乙烯缩丁醛)片材的透明度。可以根据以下技术测量百 分率雾度。根据ASTM D1003-61(1977再批准)-Procedure A，使用标准 光源C(Illuminant C)，在2度的观察者角度下，可以使用一种用于测量 雾度量的设备，Hazemeter，Model D25，其可从Hunter Associates (Reston，VA)获得。在本发明的各种实施方案中，百分率雾度小于5％， 小于3％，和小于1％。
可以根据以下技术测量圆头(pummel)粘附性，并且当在此涉及的 “圆头”用来将聚合物片材对玻璃的粘附性量化时，使用以下技术测定 圆头。用标准高压釜层压条件制备两层层压玻璃样品。将该层压件冷却 至大约-17℃(0)并用锤子人工进行击打以打碎该玻璃。然后除去所 有没有粘附到聚(乙烯缩丁醛)片材上的碎玻璃，并将仍粘附在该聚(乙 烯缩丁醛)片材上的玻璃的量与一组标准样品在视觉上进行比较。该标 准样品对应于其中不同程度的玻璃保持粘附在该聚(乙烯缩丁醛)片材 上的等级。具体来说，在零的圆头标准下，没有玻璃粘附在聚(乙烯缩 丁醛)片材上。在10的圆头标准下，100％的玻璃保持粘附在聚(乙烯缩 丁醛)片材上。对于本发明的层压玻璃板来说，各种实施方案具有至少 3，至少5，至少8，至少9或10的圆头。其它的实施方案具有在8-10(包 括端值)之间的圆头。
可以根据以下测量聚合物片材的“泛黄指数”：形成1cm厚，具有 基本上平的而且平行的光滑聚合物表面的聚合物片材的透明模制圆 板。根据ASTM方法D 1925，“Standard Test Method for Yellowness Index of Plastics”从可见光谱中的光谱光度测量的透光率测量该指数。使用所 测试样厚度将值校正到1cm厚。在各种实施方案中，泛黄指数为小于 0.6，0.5或0.25。
实施例1
形成第一多层玻璃板，其具有以下各层：玻璃//聚(乙烯缩丁醛)// 聚(对苯二甲酸乙二醇酯)//聚(乙烯缩丁醛)//玻璃，其中聚(对苯二 甲酸乙二醇酯)为0.05毫米的Dupont Mylar，聚(乙烯缩丁醛)层通过 常规技术制备，每层厚度为0.38毫米。
形成第二多层玻璃板，其具有以下层：玻璃//聚(乙烯缩丁醛)// 聚(对苯二甲酸乙二醇酯)//聚(乙烯缩丁醛)//玻璃，其中聚(对苯二 甲酸乙二醇酯)为0.05毫米的Dupont Mylar，聚(乙烯缩丁醛)层通过 本发明的方法制备，每层厚度为0.38毫米。
对这两个多层玻璃板的主观分析表明第一板具有可见的苹果酱，而 第二板没有。
实施例2
将0.76毫米厚的聚(乙烯缩丁醛)片材(第一片材)与蓝色颜料共 挤出。该片材具有13,000的WI和15微米的Rz。将该片材压花至40微米的 Rz和16,000的WI。然后将该片材层压在两个玻璃片之间。
通过常规方法制备第二聚(乙烯缩丁醛)片材，其厚度为0.76毫米， Rz为35。也将这个第二片材层压在两个玻璃片之间。
结果显示，在第二片材中可见斑点，而在第一片材中不可见。图像 软件显示在第一片材中获得3.9的斑点值，而在第二片材中获得14.5的斑 点值。
借助于本发明，现在可以提供当与各种其它的聚合物片材结合使用 时具有优良的光学性能的聚(乙烯缩丁醛)片材，和其它的聚合物片材。 通过使用本发明的方法、聚合物片材和多层构造，可以减少或消除苹果 酱和斑点的问题。
虽然已在各种实施方案中对本发明的实施方案进行了描述，但是对 本领域普通技术人员来说明显的是许多其它的改变是可能的并且都在 本发明的范围和精神内。
虽然已经参照示例性的实施方案描述了本发明，但是本领域技术人 员应当理解，在没有脱离本发明范围的情况下，可作出各种变化，并可 以等同替代本发明的元素。此外，可以根据本发明的教导，在不脱离本 发明的基本范围的情况下，作出许多改进，以适应特定的情况或材料。 因此，没有将本发明限于作为用来实施本发明认为是最佳方式而公开的 特定实施方案的意图，而是本发明包括所有属于所附权利要求书范围内 的实施方案。
进一步要理解的是，对于本发明的任何单一的组分给出的任何范 围、数值或特性可以与对于本发明的其它组分给出的任何范围、数值或 特性互换地使用，以便相适应地形成对于每个组分来说具有确定值的实 施方案，正如整个说明书中给出的一样。例如，可以形成聚合物片材， 其包括除对于增塑剂给出的任何范围之外所给出的任何范围内的表面 外形，以形成属于本发明的范围内的许多排列变化。
在摘要或任何权利要求中给出的任何附图参考编号仅仅用于阐述 目的，不应该理解为将所要求保护的发明限制到任何附图所示的任何一 个特定的实施方案上。除非另作说明，附图不是按比例描绘的。
本文援引的每一个参考文献(包括期刊文章、专利、申请和书籍) 在此作为参考全文引入。
Sub SmoothData()的变量和数值的表
变量 定义 值 M 以峰或谷计的最小间距Δ(就点数 而言) 57.5(随每个踪迹中 的数据点改变) L 以峰或谷计的最小高度Δ 5 NPTPT 一个踪迹中的数据点总数 5760 NP 峰和谷的数目 PACT1 将Perthometer数据转化成微米 0.038 PACT3 将点数转化成mm的因子 40/NPTPT NTraces 踪迹数 10 PsubM 平均节距 PsubS 节距的标准偏差 HsubM 平均高度 HsubS 高度的标准偏差 RlPm 将10条踪迹的平均节距平均化 RlHm 将10条踪迹的平均高度平均化 WvIdx 波纹度指数/1000
Sub SmoothData()
1550 Rem Filtet traces and Calculate Hm and Pm
1555 RlPm＝0 ′RlPm is Roll Average Pm
1560 RlHm＝0 ′RlHm is Roll Average Hm
1615 Fori＝1 To NTraces
1620  E＝0
1625  For k＝1 To 150
1630    VL(k)＝0 ′VL is Valley Height
1635    PK(k)＝0 ′PK is Peak Height
1640    F(k)＝0 ′F is Sample Point Corresponding to Extrerne
1645  Next k
1650  For j＝1 To NPTPT
′Status Bar Update(Events Log)
Ifj＝Multiple*NPTPT/10 Then
  Per％＝10*(i-1)+((j*10)/NPTPT)
  If Per％＞100 Then Per％＝100
  frmMain Wave.sspProgressBar.FloodPercent＝Per％
  Multiple＝Multiple+1
  If Multiple＝11 Then Multiple＝1
End If
1655    Ifj＞1 Then GoTo 1805 ′If not First Point
1656    Rem Code for First Point in Each Trace Only
1660    If a(i，j)＝a(i，j+1)Then GoTo 1745
1665    If a(i，j)＞a(i，j+1)Then GoTo 1705 ′First point is a maximum
1670    Rem First Point is a Minimum
1675    Extr＝0    ′Extr＝0 for Minimum，Extr＝1 for Maximum
1680    E＝E+1     ′Setx First Extreme
1685    VL(E)＝a(i，j) ′Sets Value of lst Valley＝a(i，j)
1690    Directlon＝1   ′Direction(+1 is up/-1 is down)
1695    FP(i)＝0      ′Sets First Point as Minimum
1700    GoTo 1735
1705    Rem First Point is a Maximum
1710    Extr＝1
1715    E＝E+1
1720    FP(i)＝1        ′Sets First Point as a Maximum
1725    Direction＝-1
1730    PK(E)＝a(i，j)
1735    F(E)＝j
1740    GoTo2200        ′Next j(Next Point)
1745    Rem First Point is the Same as the Second Point，so Check Next Point
1746    EQP＝1
1750    If a(i，j)＝a(i，j+EQP+1)Then GoTo 1790 ′Points are still the same
1755    If a(i，j)＞a(i，j+EQP+1)Then GoTo 1775 ′First Points are Maxima
1760    Rem First Points are Minima
1765    j＝j+EQP
1770    GoTo 1670 ′Run Routine for Minimum First Point
1775    Rem First Points are Maxima
1780    j＝j+EQP
1785    GoTo 1705 ′Run Routine for Maximum First Point
1790    Rem Points are Still the Same，Check Next point
1791    EQP＝EQP+1
1795    If EQP＝NPTPT-1 Then GoTo 2570 ′Next i
1800    GoTo 1750 ′Check Next Point
1805    Rem This Section for Points After 1
1810    EQP＝0
1815    EP＝j-1
1820    If a(i，j)＝a(i，j-1)Then GoTo 2135 ′Same Points
1825    If a(i，j)＜a(i，j-1)Then GoTo 1985 ′Falling Points
1830    Rem Rising Points
1835    If Direction＝1 Then GoTo 2200
1840    Rem Local Minimum Detected at Point EP(Extreme Point＝j-1+CINT(EQP/2)
1845    If Extr＝1 Then GoTo 1895 ′Last Point was a Peak
1850    Rem Last Extrerne was a Valley
1855    If a(i，j)＜＝Vl(E)Then GoTo 1870′Current Valley was not a Valley
                           ′since it Did Not Follow a Peak
                           ′But Followed a Local Max
1860    GoTo 1975
1870    Rem Replace Last Valley with this One
1875    VL(E)＝a(i，EP)
1880    Extr＝0
1885    F(E)＝EP
1890    GoTo 1975
1895    Rem Last Extreme was a Peak
1900    If Abs(a(i，EP)-PK(E))＞＝1 Then GoTo 1915
1905    Rem Height from Peak to this Min does not Meat L Filtering Criteria
1910    GoTo 1975
1915    If(EP-F(E))＞＝M Then GoTo 1950 ′Found a Valley-Record It
1920    Rem Number of Points from peak to this Min does not Meet
1925    Rerm M Filtering Criteria
1930    If E＝1 Then GoTo 2200 ′Next j(Next Point)
1935    If a(i，EP)＞＝VL(E-1)Then GoTo 1975
1940    E＝E+1
1945    GoTo 1870
1950    Rem Found a Valley-Record It
1955    E＝E+1
1960    F(E)＝EP
1965    VL(E)＝a(i，EP)
1970    Extr＝0
1975    Direction＝1
1980    GoTo 2200 ′Next j(Next Point)
1985    Rem Falling Points
1990    If Direction＝-1 Then GoTo 2200 ′Next j(Next Point)
1995    Rem Local Max Detected at Point EP(Extreme Point＝j-1+CINT(EQP/2)
2000    If Extr＝0 Then GoTo 2045 ′Last Extreme was a Valley
2005    Rem Last Extreme was a Peak
2010    If a(i，EP)＞＝PK(E)Then GoTo 2020
2015    GoTo 2125
2020    Rem Replace Last Peak with This One
2025    PK(E)＝a(i，EP)
2030    Extr＝1
2035    F(E)＝EP
2040    GoTo 2125
2045    Rem Las Extreme was a Valley
2050    If Abs(a(i，EP)-VL(E))＞＝1 Then GoTo 2065 ′Pass L Filtering
2055    Rem Height from Valley to this Max does not Meet L Filtering Criteria
2060    GoTo 2125
2065    If(EP-F(E))＞＝M Then GoTo 2100 ′Found a Peak-Record It
2070    Rem Number of points from Valley to this max does NOT meet
2075    Rem M Filtering Criteria
2080    If E＝1 Then GoTo 2200 ′Next j(Next Point)
2085    If a(i，j)＜＝PK(E-1)Then GoTo 2125
2090    E＝E-1
2095    GoTo 2020
2100    Rem Found as Peak-Record It
2105    E＝E+1
2110    F(E)＝EP
2115    PK(E)＝a(i，EP)
2120    Extr＝1
2125    Direction＝-1
2130    GoTo 2200 ′Next j(Next Point)
2135    EQP＝1
2140    If(j+EQP)＜NPTPT Then GoTo 2155
2145    j＝NPTPT
2150    GoTo 2200 ′Next j(Next Point)
2155    EP＝j-1+CInt(EQP/2)
2160    If a(i，j)＝a(i，j+EQP)Then GoTo 2190
2165    If a(i，j)＞a(i，j+EQP)Then GoTo 2180
2170    Rem Rising Points
2175    GoTo 1830
2180    Rem Falling Points
2185    GoTo 1985
2190    EQP＝EQP+1
2195    GoTo 2140
2200  Next j ′Next Point
2205  NP＝Int((E-FP(i))/2) ′NP＝# of Points
2210  PsubM＝0         ′PsubM＝Pm＝Mean Pitch
2215  PsubS＝0         ′PsubS＝Ps＝Pitch Sigma(Std Dev)
2220  HsubM＝0         ′HsubM＝Hm＝Mean Height
2225  HsubS＝0         ′HsubS＝Hs＝Height Sigma(Std Dev)
2230  Fact3＝12.5/NPTPT ′Fact3 Converts Point # Delta to 10^-3 meters
2235  For k＝1 To NP
2240    P(k)＝F(2*k+1+FP(i))-F(2*k-1+FP(i))
2245    If P(k)＞0 Then GoTo 2260
2250    NP＝NP-1
2255    GoTo 2275
2260    PsubM＝PsubM+P(k)
2265    H(k)＝PK(2*k+FP(i))-((VL(2*k+1+FP(i))+VL(2*k-1+FP(i)))/2)
2270    HsubM＝HsubM+H(k)
2275  Nextk
2280  PsubM＝PsubM/NP
2285  HsubM＝HsubM/NP
2290  DelPm＝0     ′DelPm is the delta(X-Xbar)
2295  DelHm＝0     ′DelHm is the delta(X-Xbar)
2300  DSqPm＝0     ′DSqPm is the sum of delta squared(X-Xbar)^2
2305  DSqHm＝0     ′DSqHm is the sum of delta squared(X-Xbar)^2
2310  For k＝1 To NP
2315    DelPm＝PsubM-P(k)
2320    DSqPm＝DSqPm+(DelPm^2)
2325    DelHm＝HsubM-H(k)
2330    DSqHm＝DSqHm+(DelHm^2)
2335  Next k
    ′Skip over an error which might occur in the calculation of the Std Dev
    On Error Resume Next
2340  PsubS＝Sqr(DSqPm/(NP-1))
2345  HsubS＝Sqr(DSqHm/(NP-1))
    ′Disable error checking
    On Error GoTo 0
2355  Rem Convert H from Volts to Micro Meters
2359  Factl＝0.038 ′Conversion factor for Volts to urn(Taken from S8P documentation)
2360  HsubM＝(CInt(HsubM*100*Factl))/100 ′(CInt(HsubM*Factl*10))/100<-
(Version 1 for C5D Perthometer)
2365  HsubS＝(CInt(HsubS*100*Factl))/100 ′(CInt(HsubS*Factl*10))/100<-
(Version 1 for C5D Perthometer)
2370  Rem Couvert P from Points to Millimeters
2375  PsubM＝(CInt(PsubM*Fact3*100))/100
2380  PsubS＝(CInt(PsubS*Fact3*100))/100
    ′SetValues for SaveData SubRoutine
    PsubMsave(i)＝PsubM
    PsubSsave(i)＝PsubS
    HsubMsave(i)＝HsubM
    HsubSsave(i)＝HsubS
    NPsave(i)＝NP
2560  RlPm＝RlPm+PsubM
2565  RlHm＝RlHm+HsubM
2570 Next i
2575 RlPm＝(CInt(RlPm*100/NTraces))/100
2580 RlHm＝(CInt(RIHm*100/NTraces))/100
2585 WvId＝RlPm*RIHm
DoEvents
End Sub