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表面声波器件

阅读:1026发布:2020-08-07

IPRDB可以提供表面声波器件专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本发明提供表面声波器件。采用石英基板的表面声波器件具有比常规结构更小的器件尺寸,并且表现出高Q和优异的频率-温度特性。在压电基板(1)上安装有由多个叉指型电极指构成的叉指型电极(2),并且在叉指型电极(2)的两侧上设置有栅状反射器(3a,3b)。压电基板(1)是如下的石英平板:其中,旋转Y切割石英基板的切割角θ被设置在从Z晶轴沿逆时针方向的-64.0°<θ<-49.3°的范围内,表面声波的传播方向被设置为相对于X晶轴成90°±5°,并且受激的声波为SH波。叉指型电极(2)和反射器(3a,3b)由Al或者主要包含Al的合金构成,在λ是表面声波的波长的情况下,按波长标准化的电极膜厚度H/λ被设置在0.04<H/λ<0.12的范围内。,下面是表面声波器件专利的具体信息内容。

1、一种表面声波器件,该表面声波器件包括压电基板和形成在所述 压电基板上并且由Al或包含Al作为主要成分的合金形成的叉指型电极, 受激波为SH波,其中,所述压电基板是由石英平板制成的旋转Y切割基板,

其中所述压电基板的切割角θ是当所述压电基板围绕X晶轴旋转时 Z晶轴的旋转角,所述压电基板从正Z侧旋转到正Y轴侧的方向是所述切割角θ为负 的方向,并且所述切割角θ被设置在-64.0°<θ<-49.3°的范围内,并且表面声波 的传播方向被设置为相对于X晶轴成90°±5°,并且,当将受激表面声波的波长表示为λ时,按所述叉指型电极的波长标 准化的电极膜厚度H/λ被设置为满足0.04

2、根据权利要求1所述的表面声波器件,其中,切割角θ与电极膜 厚度H/λ之间的关系满足-1.34082×10-4×θ3-2.34969×10-2×θ2-1.37506 ×θ-26.7895

3、根据权利要求1所述的表面声波器件,其中,当定义线金属化率 时,切割角θ与电极膜厚度和线金 属化率的乘积H/λ×mr之间的关系满足 -8.04489×10-5×θ3-1.40981×10-2×θ2-0.825038×θ-16.0737

4、一种表面声波器件,该表面声波器件包括压电基板和形成在所述 压电基板上并由Al或包含Al作为主要成分的合金制成的叉指型电极, 利用受激波为SH波,其中,所述压电基板是由石英平板制成的旋转Y切割基板,

其中所述压电基板的切割角θ是当所述压电基板围绕X晶轴旋转时 Z晶轴的旋转角,所述压电基板从正Z侧旋转到正Y轴侧的方向是所述切割角θ为负 的方向,并且所述切割角θ被设置在-61.4°<θ<-51.1°的范围内,并且表面声波 的传播方向被设置为相对于X晶轴成90°±5°,并且,当将受激表面声波的波长表示为λ时,按所述叉指型电极的波长标 准化的电极膜厚度H/λ被设置为满足0.05

5、根据权利要求4所述的表面声波器件,其中,切割角θ与电极膜 厚度H/λ之间的关系满足-1.44605×10-4×θ3-2.50690×10-2×θ2-1.45086 ×θ-27.9464

6、根据权利要求4所述的表面声波器件,其中,

当定义线金属化率时,切割 角θ与电极膜厚度和线金属化率的乘积H/λ×mr之间的关系满足 -8.67632×10-5×θ3-1.50414× 10-2×θ2-0.870514×θ-16.7678

7、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是在所述压电基板上设置有至少一个叉指型电极 的一端口表面声波谐振器。

8、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是在所述压电基板上沿着表面声波的传播方向设 置有至少两个叉指型电极的二端口表面声波谐振器。

9、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是在所述压电基板上与表面声波的传播方向平行 地彼此接近地设置有多个表面声波谐振器的横向耦合型多模滤波器。

10、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是在所述压电基板上沿着表面声波的传播方向设 置有包括多个叉指型电极的两端口表面声波谐振器的纵向耦合型多模滤 波器。

11、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是在所述压电基板上按梯形形状连接有多个表面 声波谐振器的梯型表面声波滤波器。

12、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是在所述压电基板上按预定间隔设置有双向地传 播表面声波的多个叉指型电极的横向表面声波滤波器。

13、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是在所述压电基板上设置有沿一个方向传播表面 声波的至少一个叉指型电极的横向表面声波滤波器。

14、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件是表面声波传感器。

15、根据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件,其中,所述表面声波器件在叉指型电极的两侧上具有栅状反射器。

16、一种模块器件或者振荡电路,该模块器件或者振荡电路使用根 据权利要求1到6中的任一项所述的表面声波器件。

说明书全文

技术领域

本发明涉及使用石英基板的表面声波器件,其中减小了器件尺寸、 增大了Q值、并且改善了频率—温度特性。

背景技术

近年来,表面声波(此后称为SAW)器件已广泛地用作移动通信终 端、车载装备等的部件,非常需要其小型化、具有高Q值、并且具有优 异的频率稳定性。
作为实现这些需要的SAW器件,存在着使用ST切割石英基板的 SAW器件。ST切割石英基板是具有通过用X晶轴作为旋转轴沿逆时针 方向将XZ面从Z晶轴旋转42.75°角而获得的面(XZ’面)的石英板的 切割名称,并且该ST切割石英基板使用作为沿X晶轴方向传播的(P+SV) 波(称为“瑞利波”)的SAW(此后称作ST切割石英SAW)。ST切割石 英SAW器件广泛应用于用作振荡器的SAW谐振器、设置在移动通信终 端的RF段与IC之间的IF使用的滤波器等。
ST切割石英SAW器件能够实现高Q值的小型器件的原因包括可以 有效利用SAW的反射这一点。将说明图13所示的ST切割石英SAW谐 振器作为一个示例。ST切割石英SAW谐振器具有如下结构:在ST切割 石英基板101上设置有具有互插的多个电极指的叉指型电极(此后称为 IDT)102,并且在IDT 102的两侧设置有用于反射SAW的栅状反射器 103a和103b。由于ST切割石英SAW是沿着压电基板的表面传播的波, 所以其被栅状反射器103a和103b有效反射,可以将SAW能量充分地限 制在IDT 102中,从而可以获得具有高Q值的小型器件。
使用SAW器件的一个重要因素是频率—温度特性。在ST切割石英 SAW中,众所周知,SAW的频率—温度特性的一次温度系数为零,通过 二次曲线来表示其特性,并且,因为通过进行使变曲点温度(turnover temperature)位于使用温度范围中心的调整而显著减小了频率波动量,所 以SAW具有优异的频率稳定性。
然而,在ST切割石英SAW器件中,虽然一次温度系数是零,但二 次温度系数相对较大,例如-0.034(ppm/℃2)。因此,当使用温度范围扩 大时,频率波动量变得极大。
作为解决此问题的一种方法,在Meirion Lewis的“Surface Skimming Bulk Wave”,IEEE Ultrasonics Symp.Proc.,pp.744到752(1977)和日本 特公昭62-016050号中公开了一种SAW器件。如图14所示,该SAW器 件的特征在于旋转Y切割石英基板的切割角θ被设置在从Z晶轴沿逆时 针方向旋转-50°角的位置附近,并且,SAW的传播方向被设置在与X 晶轴垂直的方向(Z’轴方向)。此外,当用欧拉角表示切割角时,获得(0°, θ+90°,90°)=(0°,40°,90°)。此SAW器件的特征在于通过 IDT激励恰在压电基板表面下方传播的SH波,将振荡能量恰限制在电极 下方。此SAW器件的频率—温度特性形成三次曲线,由于在使用温度范 围内的频率波动量显著减小,所以获得优异的频率—温度特性。
然而,由于SH波是基本上潜没在基板内部地行进的波,所以通过 栅状反射器获得的对SAW的反射效率比沿着压电基板表面传播的ST切 割石英SAW的反射效率低。因此,存在难以实现具有高Q的小型SAW 器件的问题。由于在先的公报包括关于用作不利用SAW反射的延迟线的 公开,但是它没有提出利用SAW反射的任何手段,所以认为其难以将 SAW器件投入实际应用。
为了解决上述问题,日本特公平01-034411号公开了所谓的多对IDT 型SAW谐振器,其中,如图15所示,旋转Y切割石英基板的切割角θ 被设置在-50°的附近,并且在其中SAW的传播方向被设置为与X晶轴 垂直的方向(Z’轴方向)的压电基板111上形成有多对(例如800±200 对)IDT 112,由此,无需利用栅状反射器而仅通过IDT 112本身的反射 来限制SAW能量,从而实现高Q。
然而,与包括栅状反射器的SAW谐振器相比,多对IDT型SAW谐 振器不能获得高效的能量限制效果。由于获得高Q值所需要的IDT对的 数量大大增加到800±200对,所以存在器件尺寸变得比ST切割石英 SAW谐振器大的问题,从而无法满足近年来对尺寸减小的需求。
在日本特公平01-034411号中公开的SAW谐振器中,当将由IDT激 励的SAW的波长表示为λ时,可以通过将电极膜厚度设置为2%λ或更 大、优选地为4%λ或更小来增大Q值。然而,当谐振频率是200MHz 时,Q值达到接近4%λ的饱和,但此时获得的Q值变为仅大约20000, 与ST切割石英SAW谐振器相比,仅能获得与ST切割石英SAW谐振器 中的Q值大致相等的Q值。由于此原因,认为由于当膜厚度在2%λ以 上到4%λ以下的范围内时SAW不能充分集中在压电基板表面上,所以 不能有效地利用反射。
[专利文献1]日本特公昭62-016050号
[专利文献2]日本特公平01-034411号
[非专利文献1]Meirion Lewis,“Surface Skimming Bulk Wave, SSBW”,IEEE Ultrasonics Symp.Proc.,pp.744到752(1977)

发明内容

本发明要解决的问题
有待解决的问题如下:当使用ST切割石英基板作为压电基板时,频 率—温度特性的二次温度系数为-0.034(ppm/℃2)大,使得频率波动量 实际上变得相当大。日本特公平01-034411号中公开的SAW器件的结构 包括如下问题:由于不得不将IDT的对数设置得相当大,所以器件尺寸 增大。
解决上述问题的装置
为了解决上述问题,根据本发明的权利要求1所述的发明提供了一 种SAW器件,该SAW器件包括压电基板和形成在所述压电基板上并且 由Al或包括Al作为主要成分的合金制成的IDT,受激波是SH波,所述 SAW器件的特征在于,所述压电基板是由石英平板制成的旋转Y切割基 板,其中所述压电基板的切割角θ是当所述压电基板围绕X晶轴旋转时 Z晶轴的旋转角,所述压电基板从正Z侧旋转到正Y轴侧的方向是所述 切割角θ为负的方向,并且所述切割角θ被设置在-64.0°<θ<-49.3°的 范围内,并且SAW的传播方向被设置为相对于X晶轴为90°±5°,并 且,当将受激SAW的波长被表示为λ时,按IDT的波长标准化的电极膜 厚度H/λ被设置为满足0.04根据权利要求2所述的本发明提供所述SAW器件,其特征在于切割 角θ与电极膜厚度H/λ之间的关系满足:-1.34082×10-4×θ3-2.34969×10-2 ×θ2-1.37506×θ-26.7895根据权利要求3所述的本发明提供所述SAW器件,其特征在于,当 将构成IDT的电极指的电极指宽度/(电极指宽度+电极指之间的间隔) 定义为线金属化率mr时,切割角θ与电极膜厚度和线金属化率的乘积 H/λ×mr之间的关系满足:-8.04489×10-5×θ3-1.40981×10-2×θ2-0.825038× θ-16.0737根据权利要求4所述的本发明提供一种SAW器件,该SAW器件包 括压电基板和形成在所述压电基板上并且由Al或包括Al作为主要成分 的合金制成的IDT,利用受激波为SH波,所述SAW器件的特征在于, 所述压电基板是由石英平板制成的旋转Y切割基板,其中所述压电基板 的切割角θ是当所述压电基板围绕X晶轴旋转时Z晶轴的旋转角,所述 压电基板从正Z侧旋转到正Y轴侧的方向是所述切割角θ为负的方向, 并且所述切割角θ被设置在-61.4°<θ<-51.1°的范围内,并且SAW的 传播方向被设置为相对于X晶轴为90°±5°,并且,当将受激SAW的 波长表示为λ时,按IDT的波长标准化的电极膜厚度H/λ被设置为满足 0.05根据权利要求5所述的本发明提供所述SAW器件,其特征在于切割 角θ与电极膜厚度H/λ之间的关系满足:-1.44605×10-4×θ3-2.50690×10-2× θ2-1.45086×θ-27.9464根据权利要求6所述的本发明提供所述SAW器件,其特征在于,当 将构成IDT的电极指的电极指宽度/(电极指宽度+电极指之间的间隔) 定义为线金属化率mr时,切割角θ与电极膜厚度和线金属化率的乘积 H/λ×mr之间的关系满足:-8.67632×10-5×θ3-1.50414×10-2× θ2-0.870514×θ-16.7678根据权利要求7到14所述的本发明提供所述SAW器件,其特征在 于,SAW器件是以下器件中的任一种:一端口SAW谐振器、二端口SAW 谐振器、横向耦合型多模滤波器、纵向耦合型多模滤波器、梯形SAW滤 波器、其中设置有沿双方向或者沿一方向传播SAW的IDT的横向SAW 滤波器、或者SAW传感器。
根据权利要求15所述的本发明提供所述SAW器件,其特征在于, SAW器件在IDT两侧上具有栅状反射器。
根据权利要求16所述的本发明提供使用根据权利要求1到15中的 任一项所述的SAW器件的模块器件或者振荡电路。
发明效果
根据本发明的权利要求1或4所述的SAW器件具有如下结构:使用 切割角θ在-64.0°<θ<-49.3°、优选为-61.4°<θ<-51.1°的范围内的旋 转Y切割石英基板,使用受激为使得SAW的传播方向相对于X晶轴为 (90°±5°)的SH波,用于IDT和栅状反射器的电极材料是Al或者 主要包含Al的合金,按波长来标准化的电极膜厚度H/λ被设置为满足 0.04通过满足权利要求2或5所述的电极膜厚度H/λ和切割角θ的条件, 可以将变曲点温度Tp(℃)设置在实际温度范围内。
通过满足权利要求3或6所述的电极膜厚度和线金属化率的乘积H/ λ×mr与切割角θ的条件,可以将变曲点温度Tp(℃)设置在实际温度 范围内。
通过使用权利要求7到14中的任一项所述的各种系统的SAW器件, 可以提供减小了尺寸、具有高Q值、并且频率稳定性优异的SAW器件。
由于权利要求15中所述的SAW器件通过在IDT的两侧上设置栅状 反射器而充分地将SAW的能量限制在IDT中,所以可以提供具有高Q 值的小型SAW器件。
由于权利要求16所述的模块器件或者振荡电路使用根据本发明的 SAW器件,所以可以提供小型且高性能的模块器件或者振荡电路。

附图说明

图1是用于说明根据本发明的SAW谐振器的图,其中图1(a)是 IDT的平面图,图1(b)是IDT的剖面图。
图2示出根据本发明的SAW谐振器与常规产品之间的比较,其中图 2(a)是示出关于Q值、品质因数和二次温度系数的比较的图,图2(b) 是示出关于频率—温度特性的比较的图。
图3是示出根据本发明的SAW谐振器中的电极膜厚度H/λ与Q值 之间的关系的图。
图4是示出根据本发明的SAW谐振器中的电极膜厚度H/λ与二次 温度系数之间的关系的图。
图5(a)是示出根据本发明的SAW谐振器中的电极膜厚度H/λ与 变曲点温度Tp之间的关系的图,5(b)是示出其中的切割角θ与变曲点 温度Tp之间的关系的图。
图6是示出当根据本发明的SAW谐振器中的变曲点温度Tp(℃) 满足Tp=-50,0,+70,以及+125时获得的切割角θ与电极膜厚度H/ λ之间的关系的图。
图7是示出根据本发明的SAW谐振器中的电极膜厚度和线金属化率 的乘积H/λ×mr与变曲点温度Tp之间的关系的图。
图8是示出当根据本发明的SAW谐振器中的变曲点温度Tp(℃) 满足Tp=-50,0,+70,以及+125时,切割角θ与电极膜厚度和线金 属化率的乘积H/λ×mr之间的关系的图。
图9是用于说明根据本发明的两端口SAW谐振器的图。
图10是用于说明根据本发明的DMS滤波器的图,其中图10(a) 是示出横向耦合型DMS滤波器的图,图10(b)是示出纵向耦合型DMS 滤波器的图。
图11是用于说明根据本发明的梯形SAW滤波器的图。
图12是用于说明根据本发明的横向SAW滤波器的图,其中图12(a) 是示出设置有沿两个方向激励SAW的IDT的横向SAW滤波器的图,图 12(b)是示出设置有沿一个方向激励SAW的IDT的横向SAW滤波器 的图。
图13是用于说明常规的ST切割石英SAW谐振器的图。
图14(a)和14(b)是用于说明-50°旋转Y切割90°X传播石英 基板的图。
图15是用于说明常规的多对IDT型SAW谐振器的图。
附图标记说明
1 压电基板
2 IDT
3a、3b 栅状反射器
4a、4b 输入/输出焊盘
5a、5b 金属导线
6 封装
31 压电基板
32、33 IDT
34a、34b 栅状反射器
41 压电基板
42 SAW谐振器
51 压电基板
52 IDT
61 压电基板
62 一端口SAW谐振器
71 压电基板
72 输入IDT
73 输出IDT
74 屏蔽电极
75 吸音材料
82、83 单相单向换能器

具体实施方式

下面将基于附图所示的实施例来详细描述本发明。图1(a)是根据 本发明的SAW谐振器的平面图,其中在压电基板1上设置有具有互插的 正电极指和负电极指的IDT 2、以及位于IDT 2两侧的用于对SAW进行 反射的栅状反射器3a和3b。IDT 2的输入焊盘4a/输出焊盘4b与封装6 的输入/输出端子通过金属导线5a和5b彼此电连接,通过盖子将封装6 的开口部分气密地密封。如图14所示,压电基板1是如下的石英平板: 其中旋转Y切割石英基板的切割角θ被设置在从Z晶轴沿逆时针方向旋 转-50°角的位置附近、并且SAW的传播方向被设置为与X晶轴大致垂直 的方向(90°±5°),并且,受激的SAW是SH波。用于IDT 2以及栅 状反射器3a和3b的电极材料是Al或者包含Al作为主要成分的合金。 图1(b)示出IDT 2的剖面,当在本实施例中将在IDT 2上激励的SAW 的波长表示为λ时,将电极膜厚度表示为按波长标准化的值H/λ,并且 当将构成IDT 2的电极指的电极指宽度L/(电极指宽度L+电极指之间 的间隔S)定义为线金属化率mr时,满足mr=0.60。
在本发明中,考虑到常规技术中的缺陷,通过将电极膜厚度H/λ设 置得大于常规的电极膜厚度,从而将SAW集中在压电基板表面上,使得 可以有效利用栅状反射器对SAW的反射,并且,即使减少IDT对数或栅 状反射器的数量也能将SAW能量限制在IDT中,从而缩小器件尺寸。
通常,在对SAW谐振器的最优设计中,频率—温度特性优异、Q值 高、并且容量比(capacitance ratio)γ小(即品质因数(Q/γ)大)是非 常重要的。在此考察根据本发明的SAW谐振器的各种特性。图2描述了 在如下情况下获得的谐振器的各种特性:在图1所示的SAW谐振器中, 使用-51°旋转Y切割90°X传播石英基板(以欧拉角表示为(0°,39°, 90°))作为压电基板1;将谐振频率设置为315MHz;将电极膜厚度 H/λ设置为0.06;IDT 2的对数是100;并且栅状反射器3a和3b的数量 各自是100。图2(a)中示出依据实际试制结果的Q值、品质因数、以 及二次温度系数,图2(b)中示出基于此的频率—温度特性。为了进行 比较,也示出了压电基板的尺寸与根据本发明的SAW谐振器的压电基板 尺寸相同的ST切割石英SAW谐振器的各种特性,作为常规产品中的各 种特性。
参照图2,当将根据本发明的SAW谐振器与常规的ST切割石英SAW 谐振器彼此比较时,获得如下大的值:前者的Q值是后者的1.8倍或者 更多,并且前者的品质因数是后者的大约两倍。关于频率—温度特性, 在根据本发明的SAW谐振器中可以确认非常优异的效果:可以获得大约 +25℃的变曲点温度Tp,并且由于温度的频率波动量减少到常规技术的 大约0.6倍。
根据本发明的SAW谐振器能够减小压电基板的尺寸,同时保持比 ST切割石英SAW谐振器的Q值好的Q值。这是因为根据本发明的在IDT 或者栅状反射器处的SAW反射量相对于SAW谐振器的电极膜厚度H/ λ的增加的增加量远远大于在ST切割石英SAW谐振器中的情况。即, 根据本发明的SAW谐振器可以通过使得电极膜厚度H/λ很大,从而用 比ST切割石英SAW谐振器中的IDT对数或者栅状反射器数量少的IDT 对数或者栅状反射器数量来实现高Q值。
图3示出根据本发明的SAW谐振器中的电极膜厚度H/λ与Q值之 间的关系,其中谐振器设计条件与上述条件相同。从图3可知,在 0.04将日本特公平01-034411号中示出的多对IDT型SAW谐振器的Q 值与根据本发明的SAW谐振器的Q值进行比较,在所述专利申请中获得 的Q值是当谐振频率是207.561(MHz)时的值,并且当谐振频率变化到 在本实施例中应用的谐振频率315(MHz)时,Q值大约是15000,在此 Q值近似等于ST切割石英SAW谐振器中的Q值。在对谐振器的尺寸进 行的比较中,所述专利申请中描述的多对IDT型SAW谐振器需要800± 200个IDT对,但本发明对于IDT和栅状反射器两者仅需要容纳200个 IDT对的空间,从而本发明可以显著地减小尺寸。因此,通过将电极膜 厚度设置在0.04接下来,图4示出根据本发明的SAW谐振器中的电极膜厚度H/λ 与二次温度系数之间的关系,其中谐振器的设计条件与上述条件相同。 从图4可知,在可以获得高Q值的0.04基于以上所述,通过将电极膜厚度H/λ设置在0.04虽然上文仅描述了将切割角θ设置为-51°的情况,但在根据本发明 的SAW谐振器中即使切割角θ发生变化,膜厚度依赖性也不会有很大变 化,由此,通过将电极膜厚度设置在0.04根据本发明的SAW谐振器在非常广的温度范围内呈现三次温度特 性,但在特定的窄温度范围内可以将温度特性视为二次特性,在该温度 范围内的变曲点温度Tp依据电极膜厚度和切割角而变化。因此,无论频 率—温度特性如何优异,当变曲点温度Tp波动到使用温度范围之外时, 频率稳定性都会明显地劣化。为了实现在实际使用温度范围内(-50℃到 +125℃)内的优异频率稳定性,不仅必须详细考察二次温度系数而且必 须详细考察变曲点温度Tp。
图5(a)示出在根据本发明的SAW谐振器中当将切割角θ设置为 -50.5°时获得的电极膜厚度H/λ与变曲点温度Tp之间的关系。从图5 (a)显见,当电极膜厚度H/λ变大时,变曲点温度Tp变低,并且电极 膜厚度H/λ与变曲点温度Tp之间的关系可以通过以下近似式来表示。
Tp(H/λ)=-41825×(H/λ)2+2855.4×(H/λ)-26.42   …(1)
除了其截点外,该近似式(1)可以应用于-50°附近的切割角。
图5(b)示出在根据本发明的SAW谐振器中当将膜厚度H/λ设置 为0.06时获得的切割角θ与变曲点温度Tp之间的关系。从图5(b)中 显见,当切割角θ的绝对值减小时,变曲点温度Tp降低,并且切割角θ 与变曲点温度Tp之间的关系可以由以下近似式来表示。
Tp(θ)=-43.5372×θ-2197.14   …(2)
随后,从式(1)和式(2)中可知,当将电极膜厚度H/λ设置为满 足0.04当考虑电极膜厚度H/λ和切割角θ两者时,变曲点温度Tp由利用 式(1)和式(2)的以下近似式来表示。
Tp(H/λ,θ)=Tp(H/λ)+Tp(θ)=-41825×(H/λ)2+2855.4×(H/λ)-43.5372×θ-22 23.56   …(3)
为了将变曲点温度Tp设置在使用温度范围内(-50℃到+125℃), 可以将电极膜厚度H/λ和切割角θ设置在由从近似式(3)得到的下式所 表示的范围内。
0.9613≤-18.498×(H/λ)2+1.2629×(H/λ)-0.019255×θ≤1.0387   …(4)
因此,在本发明中,使用切割角θ在-59.9°≤θ≤-48.9°的范围内 的旋转Y切割石英基板,使用受激为使得SAW的传播方向是近似垂直于 X轴的方向的SH波,用于IDT和栅状反射器的电极材料是Al或者包含 Al作为主要成分的合金,并且将电极膜厚度H/λ设置为满足0.04在此将考察最优条件。如图3所示,优选地,将电极膜厚度H/λ设 置在可以获得20000或者更高Q值的0.050.9845≤-18.518×(H/λ)2+1.2643×(H/λ)-0.019277×θ≤1.0155   …(5)
在上述说明中,已经根据当将图5(a)中所示的切割角θ设置为-50.5 °时获得的电极膜厚度H/λ与变曲点温度Tp之间的关系、以及当将图5 (b)所示的电极膜厚度H/λ设置为0.06时获得的切割角θ与变曲点温 度Tp之间的关系,推导了在变曲点温度Tp落入实际使用温度范围内的 情况下电极膜厚度H/λ与切割角θ之间的关系式。通过按切割角θ的扩 大范围执行的实验来找出更具体的条件,下面将对它们进行说明。
图6示出当SAW谐振器中的变曲点温度Tp(℃)满足Tp=-50,0, +70和+125时获得的石英基板的切割角θ与电极膜厚度H/λ之间的关 系,其中各个Tp特性的近似式如下:




从图6可见,为了将变曲点温度Tp(℃)设置为满足作为实际范围 的-50≤Tp≤+125,可以将切割角θ和电极膜厚度H/λ设置为满足由Tp =-50℃和Tp=+125℃的曲线包围的区域,即-1.34082×10-4×θ3-2.34969 ×10-2×θ2-1.37506×θ-26.7895此外,在关于更优化条件的考察中,优选地,将变曲点温度Tp(℃) 设置为满足与更实际的使用温度范围对应的0≤Tp≤+70。为了将Tp (℃)设置在上述范围内,可以将切割角θ和电极膜厚度H/λ设置为满 足图6所示的曲线Tp=0℃和Tp=+70℃包围的区域,即 -1.44605×10-4×θ3-2.50690×10-2×θ2-1.45086×θ-27.9464根据上述的详细考察,已经发现,通过使用切割角θ满足-64.0°< θ<-49.3°、优选为-61.4°<θ<-51.1°的旋转Y切割石英基板,使用受 激为使得SAW的传播方向为近似垂直于X轴的方向的SH波,由Al或 者主要包含Al的合金形成用于IDT或者栅状反射器的电极材料,并且将 电极膜厚度H/λ设置为满足0.04虽然上文已经说明了将IDT的线金属化率mr固定为0.60的示例, 但下文将考察当线金属化率包括在变量中时获得的Tp特性的示例。
图7示出电极膜厚度和线金属化率的乘积H/λ×mr与变曲点温度 Tp之间的关系。垂直轴表示变曲点温度Tp(℃),而水平轴表示电极膜 厚度和线金属化率的乘积H/λ×mr。此时,石英基板的切割角θ被设置 为-51.5°。如图7所示,可知变曲点温度Tp随着电极膜厚度和线金属化 率的乘积H/λ×mr的值的增加而降低。
接下来,图8示出当变曲点温度Tp(℃)是-50,0,+70和+125 时获得的石英基板切割角θ与电极膜厚度和线金属化率的乘积H/λ×mr 之间的关系。各个Tp特性的近似式如下:




从图8可见,为了将变曲点温度Tp(℃)设置为满足作为实际范围 的-50≤Tp≤+125,可以将切割角θ以及电极膜厚度和线金属化率的乘 积H/λ×mr设置为满足由曲线Tp=-50℃和Tp=+125℃包围的区域, 即-8.04489×10-5×θ3-1.40981×10-2×θ2-0.825038×θ-16.0737为了将变曲点温度Tp(℃)设置为满足作为更实际的使用温度范围 的0≤Tp≤+70,可以将切割角θ以及电极膜厚度和线金属化率的乘积 H/λ×mr设置为满足由图8所示的曲线Tp=0℃和Tp=+70℃包围的区 域,即-8.67632×10-5×θ3-1.50414×10-2×θ2-0.870514×θ-16.7678虽然迄今仅描述了如在图1中示出的一端口SAW谐振器,但本发明 可以应用于并非一端口SAW谐振器的其他SAW器件。下面将说明各种 SAW器件的结构。
图9示出如下的两端口SAW谐振器:其中,在压电基板31上沿着 SAW的传播方向设置有IDT 32和33、并且在IDT 32和33的两侧上设 置有栅状反射器34a和34b,在该两端口SAW谐振器中也可以像一端口 SAW谐振器那样实现高Q值。
图10示出利用SAW谐振器声耦合的双模SAW(DMS)滤波器作为 谐振器滤波器的一个系统,其中图10(a)示出其中在压电基板41上与 传播方向平行地彼此相邻地设置有SAW谐振器42的横向耦合型DMS 滤波器,图10(b)示出其中在压电基板51上沿着SAW的传播方向设 置有包括IDT 52的SAW谐振器的两端口纵向耦合型DMS滤波器。所述 横向耦合型DMS滤波器利用与传播方向垂直的声耦合,而两端口纵向耦 合型DMS滤波器利用与传播方向水平的声耦合。这些DMS滤波器具有 可以获得平坦的通带和优异的频带外抑制度的特性。两端口纵向耦合型 DMS滤波器可以与SAW谐振器相连接以对通带附近的频带进行高度衰 减。本发明可以应用于利用高阶模的多模SAW滤波器,或者应用于在与 传播方向垂直的方向和水平的方向上都执行声耦合的多模SAW滤波器。
图11示出通过在压电基板61上按梯形形状(由串联、并联和串联 构成)设置多个一端口SAW谐振器62而构成的梯型SAW滤波器,作为 谐振器滤波器的另一系统。所述梯型SAW滤波器能够获得通带附近的衰 减斜度比DMS滤波器中通带附近的衰减斜度更陡峭的滤波器特性。
图12示出横向SAW滤波器,其中图12(a)示出在压电基板71上 沿着SAW的传播方向按预定间隔设置有输入IDT 72和输出IDT 73的一 个横向SAW滤波器。IDT 72和73将SAW沿双向传播。可以提供屏蔽 电极74以防止输入端子与输出端子之间的直达波的影响,或者可以在压 电基板71的两端上施加吸音材料75以抑制来自基板的端面的不必要的 反射波。因为可以彼此独立地设计横向SAW滤波器的振幅特性和相位特 性并且其频带外抑制度高,所以横向SAW滤波器经常用作IF滤波器。
横向SAW滤波器具有如下问题:由于SAW沿着传播方向相等地向 右和向左传播,所以滤波器的插入损耗变得很大。作为用于解决上述问 题的方法,如图12(b)所示,存在设置有所谓的单相单向换能器(SPUDT) 82和83的横向SAW滤波器,在SPUDT 82和83中,通过改变电极指排 列或者电极指宽度来对SAW的激励和反射进行加权,从而单向进行对 SAW的激励。由于单向进行对SAW的激励,所以可以获得低损耗滤波 器特性。作为其他的结构,存在其中在IDT的激活电极之间设置有栅状 反射器的所谓反射组(reflection bank)型横向SAW滤波器等。
在上述各种SAW器件中,很明显,通过使用如下的石英平板作为压 电基板:其中旋转Y切割石英基板的切割角θ被设置为满足从Z晶轴沿 逆时针方向在-64.0°<θ<-49.3°的范围、优选为-61.4°<θ<-51.1°的范 围,并且将表面声波的传播方向设置为相对于X晶轴成90°±5°,并 且将电极膜厚度H/λ设置为满足0.04在上述SAW器件中,很明显,即使在IDT或者栅状反射器上形成 有保护膜(例如,由SiO2等制成的保护膜、由通过对Al进行阳极氧化而 获得的保护膜等)、或者在Al电极的上部或下部上形成有用于改善耐电 性的紧密粘合层或者其他金属薄膜,也可以获得与本发明中所获得的优 点相似的优点。不言自明,根据本发明的SAW器件可以应用于传感器器 件或者模块器件、振荡电路等。由于可以通过在电压控制SAW振荡器 (VCSO)等中使用根据本发明的SAW器件来减小容量比γ,所以可以 采用更宽的频率变化范围。
除了如图1所示的将SAW芯片和封装彼此引线接合的结构以外,根 据本发明的SAW器件还可以具有其他结构,并且其可以具有其中SAW 芯片的电极焊盘与封装的端子经由金属凸块连接的芯片倒装接合(FCB) 结构、其中按芯片倒装方式将SAW芯片接合在布线基板上并且对SAW 芯片的周围进行树脂密封的CSP(芯片尺寸封装)结构、其中通过在SAW 芯片上形成金属层或者树脂层而不必使用封装或者布线基板的WLCSP (晶片级尺寸封装)结构等。可以采用其中在石英器件被夹在石英基板 或者玻璃基板中间的状态下进行层叠和密封的AQP(全石英封装)结构。 由于AQP结构是利用石英基板或者玻璃基板来简单地进行夹入的结构, 所以不需要封装,可以执行薄化,并且可以通过采用低熔点玻璃密封或 者直接接合来减少粘合剂导致的脱气(out gas),从而可以实现诸如老化 特性卓越的优点。
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