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1. 发明专利

TW201812863A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201812863A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106144192
申请日：2016-12-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：高橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 藤川和憲 , FUJIKAWA, KAZUNORI , 小路丸友則 , KOJIMARU, TOMONORI , 石田知正 , ISHIDA, TOMOMASA , 樋口鮎美 , HIGUCHI, AYUMI , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 小森香奈 , KOMORI, KANA , 岩畑翔太 , IWAHATA, SHOTA
IPC分类号： H01L21/228 , H01L21/77 , H01L23/46
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/30604 , H01L21/324 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67109 , H01L21/68792
摘要：從低表面張力液體供給單元對基板的表面供給低表面張力液體，藉此於基板的表面形成有低表面張力液體的液膜。從惰性氣體供給單元對旋轉狀態的基板的旋轉中心位置供給惰性氣體，藉此於低表面張力液體的液膜形成從旋轉中心位置擴展之開口，且該開口係朝從旋轉中心位置遠離的方向擴大。以著液位置位於比開口的周緣還外側之方式，低表面張力液體的著液位置係因應開口的擴大變更成旋轉中心位置以外的至少兩個部位。
简体摘要：从低表面张力液体供给单元对基板的表面供给低表面张力液体，借此于基板的表面形成有低表面张力液体的液膜。从惰性气体供给单元对旋转状态的基板的旋转中心位置供给惰性气体，借此于低表面张力液体的液膜形成从旋转中心位置扩展之开口，且该开口系朝从旋转中心位置远离的方向扩大。以着液位置位于比开口的周缘还外侧之方式，低表面张力液体的着液位置系因应开口的扩大变更成旋转中心位置以外的至少两个部位。

2. 发明专利

TW202015118A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202015118A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108126464
申请日：2019-07-26
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：加藤雅彦 , KATO, MASAHIKO , 髙橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 山口佑 , YAMAGUCHI, YU
IPC分类号： H01L21/304 , F26B5/08 , F26B3/12
摘要：本發明之基板處理方法包含：乾燥前處理液膜形成工序，其係將包含不經過液體而自固體變成氣體之昇華性物質與使上述昇華性物質溶解之溶劑的溶液即乾燥前處理液供給至形成有圖案之基板之表面，藉此，於上述基板之表面上形成覆蓋上述基板之表面之上述乾燥前處理液之液膜；及乾燥前處理液膜排除工序，其係使上述溶劑自上述液膜蒸發而於上述基板之表面上形成包含上述昇華性物質之凝固體，且使上述凝固體昇華，藉此，自上述基板之表面上將上述液膜排除。上述乾燥前處理液膜排除工序包含：區域並存狀態產生工序，其係產生上述凝固體昇華而上述基板之表面乾燥之乾燥區域、殘存有上述凝固體之凝固體殘存區域、及殘存有上述液膜之液殘存區域依次自上述基板之表面之中央部朝向上述基板之表面之周緣部排列的區域並存狀態；及乾燥區域擴大工序，其係一面維持上述區域並存狀態一面以上述凝固體殘存區域朝向上述基板之表面之周緣部移動之方式將上述乾燥區域擴大。
简体摘要：本发明之基板处理方法包含：干燥前处理液膜形成工序，其系将包含不经过液体而自固体变成气体之升华性物质与使上述升华性物质溶解之溶剂的溶液即干燥前处理液供给至形成有图案之基板之表面，借此，于上述基板之表面上形成覆盖上述基板之表面之上述干燥前处理液之液膜；及干燥前处理液膜排除工序，其系使上述溶剂自上述液膜蒸发而于上述基板之表面上形成包含上述升华性物质之凝固体，且使上述凝固体升华，借此，自上述基板之表面上将上述液膜排除。上述干燥前处理液膜排除工序包含：区域并存状态产生工序，其系产生上述凝固体升华而上述基板之表面干燥之干燥区域、残存有上述凝固体之凝固体残存区域、及残存有上述液膜之液残存区域依次自上述基板之表面之中央部朝向上述基板之表面之周缘部排列的区域并存状态；及干燥区域扩大工序，其系一面维持上述区域并存状态一面以上述凝固体残存区域朝向上述基板之表面之周缘部移动之方式将上述干燥区域扩大。

3. 发明专利

TW202030787A 基板乾燥方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板干燥方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202030787A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108138350
申请日：2019-10-24
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 髙橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 加藤雅彦 , KATO, MASAHIKO , 井上一樹 , INOUE, KAZUKI , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 奥谷学 , OKUTANI, MANABU , 山口佑 , YAMAGUCHI, YU , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/302 , F26B5/04
摘要：本發明確認至少基於圖案之高度設定之表示昇華性物質之濃度之範圍之設定濃度範圍。將包含昇華性物質與溶劑之原液貯存於原液貯槽內。將包含溶劑且昇華性物質之濃度低於原液中之昇華性物質之濃度之稀釋液於原液貯槽之外與原液混合，藉此，製作昇華性物質之濃度為設定濃度範圍內之乾燥前處理液。於基板之正面形成包含昇華性物質之固化膜。藉由使固化膜昇華而自基板之正面將固化膜去除。
简体摘要：本发明确认至少基于图案之高度设置之表示升华性物质之浓度之范围之设置浓度范围。将包含升华性物质与溶剂之原液贮存于原液贮槽内。将包含溶剂且升华性物质之浓度低于原液中之升华性物质之浓度之稀释液于原液贮槽之外与原液混合，借此，制作升华性物质之浓度为设置浓度范围内之干燥前处理液。于基板之正面形成包含升华性物质之固化膜。借由使固化膜升华而自基板之正面将固化膜去除。

4. 发明专利

TWI645456B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI645456B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW106144192
申请日：2016-12-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：高橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 藤川和憲 , FUJIKAWA, KAZUNORI , 小路丸友則 , KOJIMARU, TOMONORI , 石田知正 , ISHIDA, TOMOMASA , 樋口鮎美 , HIGUCHI, AYUMI , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 小森香奈 , KOMORI, KANA , 岩畑翔太 , IWAHATA, SHOTA
IPC分类号： H01L21/228 , H01L21/77 , H01L23/46

5. 发明专利

TW201830467A 塗布方法审中-公开
简体标题：涂布方法
公开(公告)号：TW201830467A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106138622
申请日：2017-11-08
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/027
摘要：本發明之塗布方法係於直徑為300毫米且在主面形成有直立之多個圖案要素之基板中，對該主面利用處理液進行處理。於利用該處理液進行處理後，在該主面上塗布填充材溶液。填充材溶液之塗布處理中，藉由對水平狀態之基板之朝向上方之該主面供給純水並且使基板旋轉，而形成覆蓋該主面並且厚度為5微米以下之純水之液膜。然後，一面將基板以每分鐘300次以上且500次以下之轉數旋轉，一面將包含水溶性之填充材之填充材溶液供給至該主面之中央部。藉此，能夠對利用處理液進行處理後之基板之主面適當地塗布填充材溶液。
简体摘要：本发明之涂布方法系于直径为300毫米且在主面形成有直立之多个图案要素之基板中，对该主面利用处理液进行处理。于利用该处理液进行处理后，在该主面上涂布填充材溶液。填充材溶液之涂布处理中，借由对水平状态之基板之朝向上方之该主面供给纯水并且使基板旋转，而形成覆盖该主面并且厚度为5微米以下之纯水之液膜。然后，一面将基板以每分钟300次以上且500次以下之转数旋转，一面将包含水溶性之填充材之填充材溶液供给至该主面之中央部。借此，能够对利用处理液进行处理后之基板之主面适当地涂布填充材溶液。

6. 发明专利

TW202027154A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202027154A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108126466
申请日：2019-07-26
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：加藤雅彦 , KATO, MASAHIKO , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 山口佑 , YAMAGUCHI, YU , 髙橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/304
摘要：於基板處理裝置內搬運固化膜形成物質之固體100，並供給至基板W之正面。藉由固化膜形成物質之熔解或溶解，於基板W之正面製作包含基板W之正面上之固化膜形成物質之乾燥前處理液。藉由以凝固或析出使基板W之正面上之乾燥前處理液固化，而於基板W之正面形成包含固化膜形成物質之固化膜。藉由使固化膜變化為氣體而將固化膜自基板W之正面去除。
简体摘要：于基板处理设备内搬运固化膜形成物质之固体100，并供给至基板W之正面。借由固化膜形成物质之熔解或溶解，于基板W之正面制作包含基板W之正面上之固化膜形成物质之干燥前处理液。借由以凝固或析出使基板W之正面上之干燥前处理液固化，而于基板W之正面形成包含固化膜形成物质之固化膜。借由使固化膜变化为气体而将固化膜自基板W之正面去除。

7. 发明专利

TWI682452B 基板處理裝置以及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI682452B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW107125333
申请日：2018-07-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306

8. 发明专利

TWI602219B 液體填充方法有权
简体标题：液体填充方法
公开(公告)号：TWI602219B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW105114392
申请日：2016-05-10
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 山口直子 , YAMAGUCHI, NAOKO
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/306
CPC分类号： B08B7/0071 , B08B3/02 , B08B3/08 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L21/6715

9. 发明专利

TWI563550B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI563550B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW104106981
申请日：2011-11-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/67

10. 发明专利

TWI574338B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI574338B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW104127199
申请日：2015-08-20
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 江戸徹 , EDO, TORU , 菅原雄二 , SUGAHARA, YUJI , 阿野誠士 , ANO, SEIJI , 澤島隼 , SAWASHIMA, JUN
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/30604 , B08B1/04 , B08B3/02 , B08B3/024 , B08B3/04 , H01L21/02052 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/6704 , H01L21/67051 , H01L21/6715

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