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1. 发明专利

JP2014115665A Resist composition and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：用于形成电阻图案的耐蚀组合物和方法
公开(公告)号：JP2014115665A
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：JP2014001274
申请日：2014-01-07
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： SESHIMO TAKEHIRO , UTSUMI YOSHIYUKI , KAWAKAMI AKINARI , HANEDA HIDEO , SHIMIZU HIROAKI , NAKAMURA TAKESHI
IPC分类号： G03F7/004 , C07D327/04 , C08F2/50 , C08F220/10 , C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor of the above compound, an acid generator, a resist composition, and a method for forming a resist pattern.SOLUTION: A compound expressed by a general formula (I), and a compound expressed by a general formula (b1-1) are disclosed. In the formulae, Qrepresents a divalent linkage group or a single bond; Yrepresents an alkylene group which may have a substituent or a fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a cyclic group having 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and has a -SO- bond in the cyclic structure thereof; Mrepresents an alkali metal ion; and Arepresents an organic cation.
摘要翻译：要解决的问题：提供可用作抗蚀剂组合物的酸发生剂的新化合物，可用作上述化合物的前体的化合物，酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。解决方案：公开了由通式（I）表示的化合物和由通式（b1-1）表示的化合物。在该式中，Q表示二价连接基团或单键; Y表示可以具有取代基的亚烷基或可以具有取代基的氟化亚烷基; X表示可以具有取代基的具有3〜30个碳原子的环状基团，并且在其环状结构中具有-SO-键; M表示碱金属离子; 并表示有机阳离子。

2. 发明专利

JP2011081146A Resist composition, resist pattern forming method, new compound and acid generator 审中-公开
标题翻译：抗菌组合物，抗性图案形成方法，新化合物和酸发生器
公开(公告)号：JP2011081146A
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：JP2009232680
申请日：2009-10-06
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： KAWAKAMI AKINARI , SESHIMO TAKEHIRO , UTSUMI YOSHIYUKI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound suitable as an acid generator for a resist composition, an acid generator made of the compound, a resist composition including the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition. SOLUTION: The compound is represented by general formula (b1-15), wherein R 7" is aryl which may have a substituent; R 8" is 2-adamantyl which may have a substituent, provided that the 2-adamantyl has no substituent in the 2-position to which S bonds; R 9" is straight chain or branched chain alkyl; and X - is an anion. The acid generator is made of the compound. The resist composition includes a base component (A) whose solubility in an alkali developer changes by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) made of the compound. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供适合作为抗蚀剂组合物的酸发生剂的化合物，由该化合物制成的酸产生剂，包含酸产生剂的抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法。溶液：该化合物由通式（b1-15）表示，其中R“7”是可以具有取代基的芳基; R“8” 可以具有取代基的金刚烷基，条件是2-金刚烷基在S键的2-位没有取代基; R 9“是直链或支链烷基; X - 是阴离子，酸产生剂由化合物制成，抗蚀剂组合物包含基础组分），其在碱性显影剂中的溶解度随着暴露时产生酸的酸和酸产生剂组分（B）的作用而改变，其中酸产生剂组分（B）包括由化合物制成的酸发生剂（B1） P>版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2010275296A Resist composition, method of forming resist pattern, compound and method of producing the same, and acid generator 有权
标题翻译：耐蚀组合物，耐热型图案的形成方法，化合物及其制造方法和酸发生器
公开(公告)号：JP2010275296A
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：JP2010098179
申请日：2010-04-21
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： UTSUMI YOSHIYUKI , SESHIMO TAKEHIRO
IPC分类号： C07C309/65 , C07C381/12 , C08F20/10 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/65 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a resist composition containing a novel acid generator; a method for forming a resist pattern using the resist composition; an acid generator for the resist composition or a novel compound useful as the precursor; and a method of producing the compound. SOLUTION: The resist composition includes a base material component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, and an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1-1), wherein R X represents a hydrocarbon group which may have a hetero atom; R 1 represents a divalent linking group; Y 1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms, n represents an integer of 1 to 3, and Z represents an organic cation (exclusive of an amine ion and a quaternary ammonium ion) having a valence of n. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供：含有新型酸发生剂的抗蚀剂组合物; 使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法; 用于抗蚀剂组合物的酸产生剂或可用作前体的新化合物; 和该化合物的制造方法。解决方案：抗蚀剂组合物包括在酸作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的基材组分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），其中酸产生剂组分 B）包括由通式（b1-1）表示的化合物组成的酸发生剂（B1），其中R X表示可具有杂原子的烃基; R 1 表示二价连接基团; Y 1 表示1〜4个碳原子的亚烷基或1〜4个碳原子的氟化亚烷基，n表示1〜3的整数，Z表示有机阳离子（不包括胺离子和季铵离子）。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2010061017A Resist composition and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：用于形成电阻图案的耐蚀组合物和方法
公开(公告)号：JP2010061017A
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：JP2008228618
申请日：2008-09-05
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： SESHIMO TAKEHIRO , UTSUMI YOSHIYUKI , ISHIZUKA KEITA , MATSUZAWA KENSUKE , KAWAKAMI AKINARI , SHIMIZU HIROAKI , NAKAMURA TAKESHI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07D333/76 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, and to provide a production method thereof, an acid generator, a resist composition, and a method for forming a resist pattern. SOLUTION: The resist composition contains a base component (A) wherein the solubility in an alkali developing solution changes by an action of acid, and an acid generator component (B) that generates an acid by exposure. The acid generator component (B) contains an acid generator (B1) comprising a compound expressed by general formula (b1). COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供可用作抗蚀剂组合物的酸产生剂的化合物，并提供其制备方法，酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。解决方案：抗蚀剂组合物含有其中在碱性显影溶液中的溶解度由酸的作用而变化的碱成分（A）和通过曝光产生酸的酸产生剂组分（B）。酸产生剂成分（B）含有由通式（b1）表示的化合物的酸发生剂（B1）。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2009251037A Resist composition, resist pattern forming method, novel compound and acid generator 审中-公开
标题翻译：耐蚀组合物，抗蚀剂图案形成方法，新型化合物和酸发生器
公开(公告)号：JP2009251037A
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：JP2008095303
申请日：2008-04-01
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： ISHIZUKA KEITA , UTSUMI YOSHIYUKI , SESHIMO TAKEHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , C07C311/48 , C07C381/12 , C08F220/28 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition, a resist pattern forming method using the resist composition, a new compound useful as an acid generator for a resist composition, and an acid generator. SOLUTION: The resist composition includes a base component (A) whose solubility in an alkali developer changes by the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure to light, wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) comprising a compound represented by general formula (b1-1), wherein R is a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or a fluorinated alkyl group; R' is an aliphatic group; n is an integer of 1-10; and A + is an organic cation. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法，用作抗蚀剂组合物的酸产生剂的新化合物和酸产生剂。抗蚀剂组合物包括其在碱性显影剂中的溶解度随酸的作用而变化的碱组分（A）和在暴露于光时产生酸的酸产生剂组分（B），其中酸产生剂组分（B）包括含有由通式（b1-1）表示的化合物的酸产生剂（B1），其中R是氢原子，氟原子，烷基或氟化烷基; R'是脂族基团; n为1-10的整数; 而A + 是有机阳离子。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2009193036A Resist composition and a method of forming a resist pattern 有权
标题翻译：电阻组合和电阻形成方法
公开(公告)号：JP2009193036A
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：JP2008036733
申请日：2008-02-18
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： SESHIMO TAKEHIRO , UTSUMI YOSHIYUKI , KAWAKAMI AKINARI , HANEDA HIDEO
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which suppresses variation in optimum exposure energy in the formation of a predetermined resist pattern due to the influence of elapsed time, and a resist pattern forming method using the same. SOLUTION: The resist composition comprises a base component (A) whose solubility in an alkali developer changes by the action of an acid, an acid generator component (B) comprising a compound (B1) represented by general formula (b1-1) (wherein Q 1 is a divalent linking group containing an ester bond; Y 1 is a 1-4C alkylene group or fluorinated alkylene group; X is a 3-30C hydrocarbon group; and A + is an organic cation), and a nitrogen-containing organic compound (D1) prepared by substituting at least one hydrogen atom of ammonia NH 3 by -R 1 -O-R 2 (wherein R 1 is a 1-10C alkylene group; and R 2 is a 1-10C alkyl group which may have a carbonyl group, an ester bond or an ether bond). COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供抑制由于经过时间的影响而形成预定抗蚀剂图案的最佳曝光能量的变化的抗蚀剂组合物和使用其的抗蚀剂图案形成方法。解决方案：抗蚀剂组合物包含其在碱性显影剂中的溶解度由酸的作用而变化的碱性组分（A），包含通式（b1-1）表示的化合物（B1）的酸产生剂组分（B））（其中Q 1 是含有酯键的二价连接基团; Y 1是1-4C亚烷基或氟化亚烷基; X是3-30C烃基团; A + 是有机阳离子）和通过用NH取代氨基NH 3的至少一个氢原子制备的含氮有机化合物（D1）-R （其中R 1 是1-10C亚烷基; R 2 是1 可以具有羰基，酯键或醚键的-10C烷基）。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2009086431A Resist composition and a method of forming a resist pattern 有权
标题翻译：电阻组合和电阻形成方法
公开(公告)号：JP2009086431A
公开(公告)日：2009-04-23
申请号：JP2007257491
申请日：2007-10-01
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： TAKESHITA MASARU , UCHIUMI YOSHIYUKI , KOMURO YOSHITAKA , ISHIZUKA KEITA , KAWAKAMI AKINARI , SESHIMO TAKEHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which ensures a small change in resist pattern dimensions under variation of exposure energy and is excellent in mask reproducibility, and to provide a resist pattern forming method. SOLUTION: The resist composition comprises: a base material component (A) of which solubility in an alkali developer changes by the action of an acid and an acid; generator component (B) which generates an acid upon exposure to light, wherein the acid generator component (B) comprises an acid generator (B1) having a cationic moiety represented by general formula (b'-1) [wherein two of R 1" -R 3" are each independently an alkyl group or an aryl group, the two may bond to each other to form a ring with the sulfur atom in the formula; and the balance is an alkyl group, an aryl group or -(R 4' )-C(=O)-R 5' , wherein R 4' is a 1-5C alkylene group and R 5' is an aryl group] and an acid generator (B2) having a cationic moiety containing a dibenzothiophene skeleton. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，其在曝光能量的变化下确保抗蚀剂图案尺寸的小变化，并且掩模再现性优异，并且提供抗蚀剂图案形成方法。抗蚀剂组合物包括：其中在碱性显影剂中的溶解度通过酸和酸的作用而改变的基材组分（A）; 发生器组分（B），其在暴露于光时产生酸，其中所述酸产生剂组分（B）包含具有由通式（b'-1）表示的阳离子部分的酸发生剂（B1）[其中R 1“ -R 3”各自独立地为烷基或芳基，两者可以彼此键合以与式中的硫原子形成环; 其余为烷基，芳基或 - （R 4 SP 6） - C（= O）-R SP 5，其中R 4' 是1-5C亚烷基，R“5”是芳基]和具有含有二苯并噻吩骨架的阳离子部分的酸产生剂（B2）。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2008268484A Positive resist composition and a method of forming a resist pattern 有权
标题翻译：积极抵抗组合和阻力图形成方法
公开(公告)号：JP2008268484A
公开(公告)日：2008-11-06
申请号：JP2007110344
申请日：2007-04-19
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： SEO TAKEHITO , SESHIMO TAKEHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/18 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive resist composition excellent in depth-of-focus (DOF) characteristics and a resist pattern forming method. SOLUTION: The positive resist composition comprises a resin component (A) of which the solubility in an alkali developer increases by an action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid by exposure, wherein the resin component (A) comprises a polymer (A1) comprising a constitutional unit having in a side chain an alicyclic group having a specific substituent, and the polymer (A1) has a mass average molecular weight of 4,000-7,000. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供具有优异的聚焦深度（DOF）特性和抗蚀剂图案形成方法的正性抗蚀剂组合物。解决方案：正性抗蚀剂组合物包含其中在碱性显影剂中的溶解度通过酸和通过暴露产生酸的酸产生剂组分（B）的作用而增加的树脂组分（A），其中树脂组分（A）包含具有侧链具有特定取代基的脂环族基的结构单元的聚合物（A1），聚合物（A1）的质均分子量为4000〜7000。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2015044186A 相分離構造体の製造方法、パターン形成方法及び微細パターン形成方法有权
标题翻译：相分离结构制造方法，图案形成方法和精细图案形成方法
公开(公告)号：JP2015044186A
公开(公告)日：2015-03-12
申请号：JP2014149247
申请日：2014-07-22
申请人：東京応化工業株式会社 , Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
发明人： SESHIMO TAKEHIRO , DAZAI NAOHIRO , MAEBASHI TAKAYA , MIYAGI MASARU , UTSUMI YOSHIYUKI
IPC分类号： B05D7/24 , B05D3/00 , C08F212/08 , C08J5/18 , C08J7/00 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/20 , C08L3/00 , C08L33/12 , G03F7/0002 , G03F7/40 , G03F7/427
摘要：【課題】相分離構造を含む構造体の製造方法、パターン形成方法、微細パターン形成方法の提供。【解決手段】基板上に、複数種類のブロックが結合した純度が98%以上のブロックコポリマーを含む層を形成する工程と、当該ブロックコポリマーを含む層を相分離させる工程と、を有することを特徴とする相分離構造を含む構造体の製造方法。本発明においては、さらに、基板上に、中性化膜を塗布し、該中性化膜からなる層を形成する工程、ガイドパターンを形成する工程を有することが好ましい。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于制造包括相分离结构，图案形成方法和精细图案形成方法的结构的方法。解决方案：一种用于制造具有相分离结构的结构的方法，其特征在于包括：在基板上形成具有多个块的组合的含有纯度为98％以上的嵌段共聚物的层的工序; 以及使含有所述嵌段共聚物的层相分离的步骤。优选地，该方法还包括：通过将中和膜施加到基底来形成具有中和膜的层的步骤; 以及形成引导图案的步骤。

10. 发明专利

JP2014162054A Manufacturing method of structure including phase separation structure, pattern formation method, and top coat material 有权
标题翻译：包括相分离结构的结构的制造方法，图案形成方法和顶层材料
公开(公告)号：JP2014162054A
公开(公告)日：2014-09-08
申请号：JP2013033563
申请日：2013-02-22
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社 , Tokyo Institute Of Technology , 国立大学法人東京工業大学
发明人： MATSUMIYA YU , SESHIMO TAKEHIRO , OMORI KATSUMI , MIYAGI MASARU , SHIONO HIROHISA , MIYASHITA KENICHIRO , KUROSAWA TSUYOSHI , HAYAKAWA TERUAKI
IPC分类号： B32B27/30 , B82Y40/00 , C08F220/00 , C08J7/00 , C09D133/14 , C09D153/00 , C09D183/04
CPC分类号： C09D183/10 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C08G18/61 , C08G77/045 , C08G77/442 , C08L53/00 , C09D153/00 , G03F7/0002
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a structure including a phase separation structure of a block copolymer, the structure being improved in through-put and mass productivity.SOLUTION: When a layer 2 including a block copolymer having a block of a cage silsesquioxane structure-including constitutional unit is formed on a support body 1, and the layer 2 including the block copolymer is subjected to phase separation by heat annealing to manufacture a structure 4 including a phase separation structure, a top coat material whose polarity changes by heating and which controls surface energy of the layer 2 including the block copolymer is applied to the layer 2 including the block copolymer to form a topcoat film 3, and then subjected to the heat annealing.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供包括嵌段共聚物的相分离结构的结构的制造方法，该结构提高了通过量和批量生产率。解决方案：当包含嵌段共聚物的层2 在支撑体1上形成包含结构单元的笼式倍半硅氧烷结构体，通过热退火对含有嵌段共聚物的层进行相分离，制造包含相分离结构的结构体4，极性变化的面涂层材料将含有嵌段共聚物的层2的表面能加热控制在包含嵌段共聚物的层2上，形成顶涂层3，然后进行热退火。

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